JPH02304449A - 基板チャック機構 - Google Patents

基板チャック機構

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JPH02304449A
JPH02304449A JP1124174A JP12417489A JPH02304449A JP H02304449 A JPH02304449 A JP H02304449A JP 1124174 A JP1124174 A JP 1124174A JP 12417489 A JP12417489 A JP 12417489A JP H02304449 A JPH02304449 A JP H02304449A
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JP
Japan
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chuck
substrate
substrate chuck
glass substrate
base
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Pending
Application number
JP1124174A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Iwama
悟 岩間
Noboru Horie
堀江 登
Yasuhiro Ito
康弘 伊藤
Toshiyuki Kozuka
小塚 敏幸
Hiroshi Suzuki
弘 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH02304449A publication Critical patent/JPH02304449A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板露光装置等において回路パターンが印刷
されたマスクに対してガラス基板を位置合わせする際に
該ガラス基板を位置決めして保持する基板チャック機構
に関し、特にガラス基板のサイズ変更に対して基板チャ
ックの交換が容易にできる基板チャック機構に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種の基板チャック機構は、第7図に示すよう
に、ベース部材1と、このベース部材1の上面に立設さ
れそれぞれの上端部が上下に伸縮する少なくとも三本の
チルト機構部2と、これらのチルト機構部2によって下
面を支えられると共にその上面にはガラス基板3を位置
決めして保持する基板チャック4とを有して成っていた
。ここで、上記基板チャック4は、例えば三本のチルト
機構部2に対してテンション用板バネ5によって与圧を
かけて連結されると共に、上記テンション用板バネ5の
上端部にて固定用ネジでネジ止めされていた。そして、
上記基板チャック4で保持すべきガラス基板3のサイズ
が変った場合は、上記の固定用ネジを外して新しいサイ
ズのガラス基板3に対応した基板チャック4と交換して
いた。
また、上記基板チャック4の上面には、第8図に示すよ
うに、ガラス基板3を平坦にして保持するために、矩形
状の板面に従って四角形に周回する真空吸着用の凹溝6
が何重にも形成されていた。
そして、上記凹溝6と連通された吸引孔7から図示外の
真空源により矢印Aのように真空吸引することにより、
上記凹溝6内が真空に引かれてその上面に載せられたガ
ラス基板3が上記基板チャック4の上面に真空吸着され
るようになっていた。
さらに、上記ガラス基板3を基板チャック4の上面に位
置決めして吸着保持するときの基準位置決めピン(図示
省略)は、上記基板チャック4とは分離して該基板チャ
ック4の周囲の所定位置に別体に設けられていた。そし
て、上記基板チャック4の上面にガラス基板3を位置決
めして載せるときは、上記基準位置決めピンが位置決め
部位まで移動して位置決めするようになっていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、このような従来の基板チャック機構においては
、ガラス基板3のサイズが変った場合に。
チルト機構部2の上端部に直接取り付けられた基板チャ
ック4を交換していたので、その都度新しいガラス基板
3に対応したサイズの基板チャック4を上記チルト機構
部2の上端部に正しく載せて取り付ける作業をしなけれ
ばならなかった。この場合、チルト機構部2の上端部と
基板チャック4の下面側のボール受け8との間に介在さ
れるボール9が脱落したり、あるいはそのボール9を正
規の位置に合わせるのが難しく、上記基板チャック4の
交換作業が複雑であると共に時間もかかるものであった
。従って、基板チャック4の交換が容易に行えないもの
であった。また、交換した後の基板チャック4の取付位
置の再現性が低下するものであった。
また、上記基板チャック4の上面に形成されたガラス基
板3の真空吸着用の凹溝6と6との間には、帯状に周回
する凸条10,10.・・・(第8図参照)が形成され
ているので、この凸条10の部分によりガラス基板3と
の接触面積が大きくなり。
上記凸条10とガラス基板3との間に異物を挟み込むこ
とがあった。従って、露光後のガラス基板3に異物が付
着して、製品としての品質が低下することがあった。
さらに、上記ガラス基板3を基板チャック4の上面に吸
着保持するときの基準位置決めピンが。
上記基板チャック4とは分離してその周囲に別体に設け
られていたので、上記基板チャック4の上面に吸着保持
するガラス基板3のサイズに従って上記基準位置決めピ
ンを適宜移動しなければならなかった。従って、基準位
置決めピンの取付構造が複雑となると共に、その基準位
置の調整操作をしなければならず操作も複雑となるもの
であった。
また、ガラス基板3を上昇させてマスクに位置合わせす
るときは、その上昇の邪魔にならないように上記基準位
置決めピンを退避させなければならず、この退避構造も
複雑となるものであった。さらに、上記のように基準位
置決めピンが二種類の動きをするので、基準位置が毎回
正しく出るとは限らず、位置決め精度が低下することが
あった。
そこで、本発明は、このような問題点を解決し、ガラス
基板のサイズ変更に対して基板チャックの交換が容易に
できる基板チャック機構を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために1本発明による基板チャック
機構は、ベース部材と、このベース部材の上面に立設さ
れそれぞれの上端部が上下に伸縮する少なくとも三本の
チルト機構部と、これらのチルト機構部によって下面を
支えられると共にその上面にはガラス基板を位置決めし
て保持する基板チャックとを有して成る基板チャック機
構において、上記チルト機構部と基板チャックとの間に
チャックベースを該チルト機構部の上端部で支持して設
け、このチャックベースの上面に基板チャックを位置決
めして着脱可能に取り付けたものである。
また、上記基板チャックの上面には、ガラス基板を真空
吸着するための凹所を形成すると共に。
この凹所内にはピン状の基板受は部材を多数配設したも
のとしてもよい。
さらに、上記基板チャックの上面にてガラス基板を位置
決めする隣接二辺部の対応位置には基準位置決めビンを
上記ガラス基板の厚さよりも頭部が低くなるように埋め
込み、該ガラス基板を間に入れて上記基準位置決めピン
と対向する部位には位置決め用の押し付けビンを設けた
ものとしてもよい。
〔作 用〕
このように構成された基板チャック機構は、チルト機構
部の上端部にチャックベースを設け、このチャックベー
スの上面に基板チャックを着脱可能に取り付けたことに
より、ガラス基板のサイズの変更に対しては上記チャッ
クベースから基板チャックだけを外して別の基板チャッ
クと交換することができる。このとき、チルト機構部の
上端部に対するチャックベースの取り付けは外さなくて
よいので、上記チルト機構部に対するチャックベースの
取付位置はくずれず、このチャックベースに対して基板
チャックだけを着脱することにより、該基板チャックの
交換が容易に行える。
〔実施例〕
以下1本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明
する。
第1図は本発明による基板チャック機構の実施例を示す
正面図であり、第2図はその平面図である0図において
、ベース部材lは、本発明の基板チャック機構の構成要
素を組み付けるための台となるもので1例えば適宜の大
きさの矩形状の盤体に形成されている。
上記ベース部材1の上面には、チルト機構部2が立設さ
れているにのチルト機構部2は、後述のチャックベース
11をその上端部12で支持して例えば水平状態に保つ
もので、上端部12がモータ等の駆動源により上下に伸
縮するようにされており1例えば成る正三角形の各頂点
の位置に対応する箇所に三本立設されている。
上記チルト機構部2の上方には、チャックベース11が
設けられている。このチャックベース11・は、その上
面に後述の基板チャック4を位置決めして着脱可能に取
り付けるもので、第2図に示すように矩形状の板体に形
成され、上記各チルト機構部2の上端部12で支持して
設けられている。
すなわち、各チルト機構部2の上端部12とチャックベ
ース11の下面側に設けられたボール受け8との間にそ
れぞれボール9を介在させ、このボール9の球面接触に
より上記チャックベース11が任意に傾斜可能に支持さ
れている。また、上記各チルト機構部2とチャックベー
ス11との而は、テンション用板バネ5によって与圧を
かけて連結されると共に、上記テンション用板バネ5の
上端部にて固定用ネジでネジ止めされている。ここで、
上記チルト機構部2の上端部12とチャックベース11
の下面側のボール受け8との間にそれぞれボール9を介
在させてチャックベース11を支持する具体的な構造は
次のようになっている。まず、各チルト機構部2の上端
部12の上面には、それぞれ円錐状の凹部が形成され、
この凹部の中に各ボール9の下部が嵌合されている。こ
れに対して、チャックベース11の下面には、第2図に
示すように、例えば成る正三角形の各頂点の位置に対応
する箇所にそれぞれボール受け8a、8b、8cが設け
られている。そして1例えば第一のボール受け8aの下
面は平面状に形成され、第二のボール受け8bの下面に
は円錐状の凹部が下向きに形成され、第三のボール受け
8cの下面には成る方向に伸びるV形溝が形成されてい
る。このような状態で、上記チルト彎構部2の上端部1
2に形成された円錐状の凹部に嵌合されたボール9の上
方にチャックベース11の下面側のボール受け8a。
8b、8cを位置させ、まず第二のボール受け8bの円
錐状の凹部を対応するボール9の上部に嵌合させ1次に
第三のボール受け8Cの■形溝を対応するボール9の上
部に嵌合させ、その後に第一のボール受け8aの平面部
を対応するボール9の上面に当接させることにより、上
記ボール9の球面接触によってチャックベース11が任
意に傾斜可能に支持される。なお、このチャックベース
11の上面の両側部には、第2図に示すように、二本の
位置決めピン13.13が植設されている。
上記チャックベース11の上面には、基板チャック4が
取り付けられている。この基板チャック4は、その上面
に露光対象物としてのガラス基板3を位置決めして保持
するもので、第2図に示すように矩形状の板体に形成さ
れ、上記チャックベース11の上面に位置決めして着脱
可能に取り付けられている。すなわち、第2図に示すよ
うに。
基板チャック4の両側部にて上記チャックベース11の
位置決めピン13の植設位置に対応する箇所には位置決
め用孔14.14が穿設されており、上記基板チャック
4の四隅部には該基板チャック4をチャックベース11
にネジ止めする固定用ネジ15,15.・・・が設けら
れている。従って、これらの固定用ネジ15を緩めるこ
とにより上記基板チャック4をチャックベース11から
取り外すことができると共に、該チャックベース11の
位置決めピン13に位置決め用孔14を嵌合して組み合
わせ固定用ネジ15を締め付けることにより、基板チャ
ック4をチャックベース11上に位置決めして取り付け
ることができる。
第3図は上記基板チャック4におけるガラス基板3の保
持構造を示す要部拡大斜視図である。この保持構造は、
基板チャック4の上面に、周囲の縁部16を残してその
内側をくり抜いて上記ガラス基板3を真空吸着するため
の凹所17を形成すると共に、その凹所17内にはピン
状の基板受は部材18を多数配設して成る。上記基板受
は部材18は、上記凹所17で真空吸着されるガラス基
板3のたわみを防止して平坦に保つためのもので。
第4図に示すように、−辺がaで深さdの小さい角柱状
に形成され、各々の基板受は部材18,18間の配設ピ
ッチがpとして凹所17内の全域にわたって設けられて
いる。そして、上記の各寸法は1例えばa =0.5m
m、 d ==0.5m、 p = 4 +mとされて
いる。なお、上記凹所17には吸引孔7が連通されてお
り、この吸引孔7から図示外の真空源により矢印Aのよ
うに真空吸引することにより5上記四所17内が真空に
引かれてその上面に載せられたガラス基板3が上記基板
チャック4の上面に真空吸着される。このとき、基板受
は部材18はピン状に形成されて微小化されているので
、上記ガラス基板3との接触面積が極めて小さくなり、
上記基板受は部材18とガラス基板3との間に異物を挟
み込むことはほとんど無くなる。
第5図は上記基板チャック4におけるガラス基板3の位
置決め構造を示す平面説明図である。この位置決め構造
は、基板チャック4の上面に、ガラス基板3を位置決め
する隣接二辺部の対応位置において基準位置決めピン1
9a、19b、19Cを上記ガラス基板3の厚さよりも
頭部が低くなるように埋め込み(第6図参照)、該ガラ
ス基板3を間に入れて上記基準位置決めピン19a、1
9b、19cと対向する部位には位置決め用の押し付け
ピン20 a 、 2.Ob 、 20 cを設けて成
る。
上記押し付けピン20a〜20cは、ガラス基板3を基
準位置決めピン19a〜19cに対して弾性的に押し付
けて正しく位置決めするもので、例えば圧縮スプリング
等により上記ガラス基板3を押圧するようになっている
。従って、ガラス、lλ板3を基板チャック4の上面ま
で搬送し、そのガラス基板3の隣接二辺部をそれぞれ基
準位置決めピン19a〜19cに当接し、その後押し付
けピン20a〜20cを作動して上記隣接二辺部に対向
する二辺部をそれぞれ弾性的に押し付けるだけで、上記
ガラス基板3を基板チャック4の上面に位置決めするこ
とができる。また、上記基準位置決めピン19a〜19
cの頭部はガラス基板3の厚さよりも低くされているの
で、露光時においてマスクに位置合わせする際の邪魔に
ならない。
〔発明の効果〕
本発明は以上のように構成されたので、チルト機構部2
の上端部にチャックベース11を設け、このチャックベ
ース11の上面に基板チャック4を着脱可能に取り付け
たことにより、ガラス基板3のサイズの変更に対しては
上記チャックベース11から基板チャック4だけを外し
て別の基板チャック4と交換することができる。このと
き、チルト機構部2の上端部に対するチャックベース1
1の取り付けは外さなくてよいので、上記チルト機構部
2に対するチャックベース11の取付位置はくずれず、
このチャックベース11に対して基板チャック4だけを
着脱することにより、該基板チャック4の交換が容易に
行える。このことにより、交換した後の基板チャック4
の取付位置の再現性を向上することができる。
また、基板チャック4の上面に、ガラス基板3を真空吸
着するための凹所17を形成すると共に、この凹所17
内にピン状の基板受は部材18を多数配設したものにお
いては、ガラス基板3の吸着保持の際に該ガラス基板3
の下面との間に異物を挟み込むことがほとんど無くなり
、製品としての品質を向上することができる。
さらに、基板チャック4の上面にてガラス基板3を位置
決めする隣接二辺部の対応位置に、基準位置決めピン1
9a〜19cを上記ガラス基板3の厚さよりも頭部が低
くなるように埋め込み、該ガラス基板3を間に入れて上
記基準位置決めピン19a〜19cと対向する部位には
位置決め用の押し付けピン20a〜20cを設けたもの
においては、上記基準位置決めピン19a〜19cの取
付構造を極めて簡単にすることができると共に。
従来のような基準位置の調整操作を不要として操作も簡
単とすることができる。また、上記基準位置決めピン1
9a〜19cは基板チャック4の上面に埋め込まれて移
動しないので、上記基板チャック4を位置決めして取り
付けるだけで基準位置が毎回正しく出現し、ガラス基板
3の位置決め精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による基板チャック機構の実施例を示す
正面図、第2図はその平面図、第3図は基板チャックに
おけるガラス基板の保持構造を示す要部拡大斜視図、第
4図はその中央横断面図、第5図は基板チャックにおけ
るガラス基板の位置決め構造を示す平面説明図、第6図
はその正面説明図、第7図は従来の基板チャック機構を
示す正面図、第8図は従来例の基板チャックにおけるガ
ラス基板の保持構造を示す要部拡大斜視図である。 1・・・ベース部材、 2・・・チルト機構部、 3・
・・ガラス基板、 4・・・基板チャック、 8・・・
ボール受け、 9・・・ボール、  11・・・チャッ
クベース。 12・・・チルト機構部の上端部、  13・・・位置
決めピン、  14・・・位置決め用孔、   15・
・・固定用ネジ、 17・・・凹所、 18・・・基板
受は部材、  19a〜19c・・・基準位置決めピン
、  20a〜20c・・・押し付けピン。 出願人 日立電子エンジニアリング株式会社喀 11i
1 112  慶

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ベース部材と、このベース部材の上面に立設され
    それぞれの上端部が上下に伸縮する少なくとも三本のチ
    ルト機構部と、これらのチルト機構部によって下面を支
    えられると共にその上面にはガラス基板を位置決めして
    保持する基板チャックとを有して成る基板チャック機構
    において、上記チルト機構部と基板チャックとの間にチ
    ャックベースを該チルト機構部の上端部で支持して設け
    、このチャックベースの上面に基板チャックを位置決め
    して着脱可能に取り付けたことを特徴とする基板チャッ
    ク機構。
  2. (2)基板チャックの上面には、ガラス基板を真空吸着
    するための凹所を形成すると共に、この凹所内にはピン
    状の基板受け部材を多数配設したことを特徴とする請求
    項1記載の基板チャック機構。
  3. (3)基板チャックの上面にてガラス基板を位置決めす
    る隣接二辺部の対応位置には基準位置決めピンを上記ガ
    ラス基板の厚さよりも頭部が低くなるように埋め込み、
    該ガラス基板を間に入れて上記基準位置決めピンと対向
    する部位には位置決め用の押し付けピンを設けたことを
    特徴とする請求項1または2記載の基板チャック機構。
JP1124174A 1989-05-19 1989-05-19 基板チャック機構 Pending JPH02304449A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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