JPH02304748A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
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- JPH02304748A JPH02304748A JP1125614A JP12561489A JPH02304748A JP H02304748 A JPH02304748 A JP H02304748A JP 1125614 A JP1125614 A JP 1125614A JP 12561489 A JP12561489 A JP 12561489A JP H02304748 A JPH02304748 A JP H02304748A
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- Granted
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 74
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光デイスク原盤露光装置に関する。
従来の光デイスク原盤露光装置は、露光ビームのパワー
を制御するには、固定光学系上でビームをサンプリング
し、これをモニタして光変調器を制御することが一般的
であった。
を制御するには、固定光学系上でビームをサンプリング
し、これをモニタして光変調器を制御することが一般的
であった。
第２図は従来の一例を示すブロック図である。
第２図に示す光デイスク原盤露光装置は、回転するフォ
トレジスト基板１の回転中心軸と移動光学系Ａ′上のヘ
ッドレンズ１０の中心軸との距離を検出しヘッド位置検
出信号ａを出力するヘッド位置検出部１７と、前記ヘッ
ド位置検出信号ａに対する露光ビーム強度が露光量設定
信号すとしてあらかじめ設定された露光量設定部４と、
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３の強度を
調整する光変調器６と、この光変調器６の出射すルヒー
ムを固定光学系Ｂ′上にてビームサンプラ１８でサンプ
ルし得られたモニタ用ビーム２０を検出し光センサ出力
信号ｇを出力する固定光学系Ｂ′上の光センサ部１９と
、前記露光量設定信号すと前記光センサ出力信号ｇとが
一致するように光変調器駆動信号ｆを調整し、光変調器
６を駆動する光変調器駆動部５とを含んで構成される。
トレジスト基板１の回転中心軸と移動光学系Ａ′上のヘ
ッドレンズ１０の中心軸との距離を検出しヘッド位置検
出信号ａを出力するヘッド位置検出部１７と、前記ヘッ
ド位置検出信号ａに対する露光ビーム強度が露光量設定
信号すとしてあらかじめ設定された露光量設定部４と、
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３の強度を
調整する光変調器６と、この光変調器６の出射すルヒー
ムを固定光学系Ｂ′上にてビームサンプラ１８でサンプ
ルし得られたモニタ用ビーム２０を検出し光センサ出力
信号ｇを出力する固定光学系Ｂ′上の光センサ部１９と
、前記露光量設定信号すと前記光センサ出力信号ｇとが
一致するように光変調器駆動信号ｆを調整し、光変調器
６を駆動する光変調器駆動部５とを含んで構成される。
露光時に、回転中のフォトレジスト基板１の回転中心軸
とヘッドレンズ１０の中心軸との距離をヘッド位置検出
部１７は検出する。
とヘッドレンズ１０の中心軸との距離をヘッド位置検出
部１７は検出する。
露光量設定部４はヘッド位置検出信号ａに対する露光量
設定信号すを出力する。レーザ発振器２から出射された
レーザ、ビーム３は、光変調器６により強度が調整され
、固定光学系Ｂ′上の光センサ部１９は、光変調器６の
出射するビームを固定光学系Ｂ′上にてビームサンプラ
１８にてサンプルされたモニタ用ビーム２０を検出する
。
設定信号すを出力する。レーザ発振器２から出射された
レーザ、ビーム３は、光変調器６により強度が調整され
、固定光学系Ｂ′上の光センサ部１９は、光変調器６の
出射するビームを固定光学系Ｂ′上にてビームサンプラ
１８にてサンプルされたモニタ用ビーム２０を検出する
。
光変調器駆動部５は、露光量設定信号すと光センサ出力
信号ｇとが一致するように、光変調器駆動信号ｆを調整
し出力し、光変調器６を駆動し、レーザビーム３０強度
を調整する。
信号ｇとが一致するように、光変調器駆動信号ｆを調整
し出力し、光変調器６を駆動し、レーザビーム３０強度
を調整する。
光変調器６により強度が調整された露光ビーム７は移動
光学系Ａ′上のビームスプリッタ９にて曲げられ、ヘッ
ドレンズ１０を透過し、フォトレジスト基板１に照射さ
れ、露光がなされる。
光学系Ａ′上のビームスプリッタ９にて曲げられ、ヘッ
ドレンズ１０を透過し、フォトレジスト基板１に照射さ
れ、露光がなされる。
しかしながら、このような上述した従来の光デイスク原
盤露光装置は、光変調器の出射ビームを固定光学系上に
てモニタし、露光ビームの強度を調整するため、固定光
学系と移動光学系と゛のアライメントのズレによって、
ビームサンプラ？以降の光学系の各光学素子への入射に
ズレが生じたり、あるいは、各光学素子の状態変化など
によって、実際にフォトレジスト基板上に照射される露
光ビームの強度が変動し、所望の露光ビームの強度によ
る露光ができないという欠点がある。
盤露光装置は、光変調器の出射ビームを固定光学系上に
てモニタし、露光ビームの強度を調整するため、固定光
学系と移動光学系と゛のアライメントのズレによって、
ビームサンプラ？以降の光学系の各光学素子への入射に
ズレが生じたり、あるいは、各光学素子の状態変化など
によって、実際にフォトレジスト基板上に照射される露
光ビームの強度が変動し、所望の露光ビームの強度によ
る露光ができないという欠点がある。
本発明の光デイスク原盤露光装置は、少なくともフォト
レジスト基板上に露光用レーザビームを合焦集光するヘ
ッドを含む光学系を移動光学系として構成する光デイス
ク原盤露光装置において、フォトレジスト基板で反射さ
れた露光ビームを前記移動光学系上で検出する露光量検
出部と、フォトレジスト基板で反射された合焦集光用レ
ーザビームを前記移動光学系上で検出する反射率モニタ
部と、該反射率モニタ部から得られる反射率モニタ信号
で前記露光量検出部から得られる露光量検出信号を補正
する露光量補正部と、ヘッドの位置に対応してあらかじ
め設定された露光量設定部と、該露光量設定部から得ら
れる露光量設定信号と前記検出露光量補正部から得られ
る補正検出露光量信号とが一致するように光変調器を制
御する変調器駆動部とを有して構成される。
レジスト基板上に露光用レーザビームを合焦集光するヘ
ッドを含む光学系を移動光学系として構成する光デイス
ク原盤露光装置において、フォトレジスト基板で反射さ
れた露光ビームを前記移動光学系上で検出する露光量検
出部と、フォトレジスト基板で反射された合焦集光用レ
ーザビームを前記移動光学系上で検出する反射率モニタ
部と、該反射率モニタ部から得られる反射率モニタ信号
で前記露光量検出部から得られる露光量検出信号を補正
する露光量補正部と、ヘッドの位置に対応してあらかじ
め設定された露光量設定部と、該露光量設定部から得ら
れる露光量設定信号と前記検出露光量補正部から得られ
る補正検出露光量信号とが一致するように光変調器を制
御する変調器駆動部とを有して構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
一第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示す光デイスク原盤露光装置は、回転するフォ
トレジスト基板１の回転中心軸とヘッドレンズ１０の中
心軸との距離を検出しヘッド位置検出信号ａを出力する
ヘッド位置検出部１７と、前記ヘッド位置検出信号ａに
対する露光ビームの強度が露光量設定信号すであらかじ
め設定された露光量設定部４と、レーザ発振器２から出
射されたレーザビーム３の強度を調整する光変調器６と
、この光変調器６の出射する露光ビーム７がビームスプ
リッタ９により曲げられヘッドレンズ１０を透過しフォ
トレジスト基板１で反射された露光量モニタビーム１１
を移動光学系Ａ上にて検出する露光量検出部１２と、フ
ォーカス用レーザビーム８がフォトレジスト基板１で反
射され、ダイクロイックミラー１３で取りだされた反射
率モニタ用ン ビーム１４を移動光学系Ａ上に 検出する反射率モニタ
部１５と、該反射率モニタ部１５がら得られる反射率モ
ニタ信号ｄで前記露光量検出部１２から得られる露光量
検出信号Ｃを補正し補正検出露光量信号ｅを出力する検
出露光量補正部１６と、前記露光量設定信号すと前記補
正検出露光量信号ｅとが一致するように光変調器駆動信
号ｆを調整し、光変調器６を駆動する光変調器駆動部５
とを含んで構成される。
トレジスト基板１の回転中心軸とヘッドレンズ１０の中
心軸との距離を検出しヘッド位置検出信号ａを出力する
ヘッド位置検出部１７と、前記ヘッド位置検出信号ａに
対する露光ビームの強度が露光量設定信号すであらかじ
め設定された露光量設定部４と、レーザ発振器２から出
射されたレーザビーム３の強度を調整する光変調器６と
、この光変調器６の出射する露光ビーム７がビームスプ
リッタ９により曲げられヘッドレンズ１０を透過しフォ
トレジスト基板１で反射された露光量モニタビーム１１
を移動光学系Ａ上にて検出する露光量検出部１２と、フ
ォーカス用レーザビーム８がフォトレジスト基板１で反
射され、ダイクロイックミラー１３で取りだされた反射
率モニタ用ン ビーム１４を移動光学系Ａ上に 検出する反射率モニタ
部１５と、該反射率モニタ部１５がら得られる反射率モ
ニタ信号ｄで前記露光量検出部１２から得られる露光量
検出信号Ｃを補正し補正検出露光量信号ｅを出力する検
出露光量補正部１６と、前記露光量設定信号すと前記補
正検出露光量信号ｅとが一致するように光変調器駆動信
号ｆを調整し、光変調器６を駆動する光変調器駆動部５
とを含んで構成される。
露光時、回転中のフォトレジスト基板１の回転中心軸と
ヘッドレンズ１０の中心軸との距離をヘッド位置検出部
１７が検出する。
ヘッドレンズ１０の中心軸との距離をヘッド位置検出部
１７が検出する。
露光量設定部４は前記ヘッド位置検出信号ａに対する露
光量設定信号すを出力する。このとき、露光量設定信号
すはフォトレジスト基板１でのビームの反射率が１と仮
定したときのものである。
光量設定信号すを出力する。このとき、露光量設定信号
すはフォトレジスト基板１でのビームの反射率が１と仮
定したときのものである。
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３は、光変
調器６により強度が調整され露光ビーム７となって、移
動光学系Ａ上のビームスプリッタ９で曲げられ１、ヘッ
ドレンズ１０を透過し、フォトレジスト基板１に照射さ
れる。
調器６により強度が調整され露光ビーム７となって、移
動光学系Ａ上のビームスプリッタ９で曲げられ１、ヘッ
ドレンズ１０を透過し、フォトレジスト基板１に照射さ
れる。
移動光学系Ａ上の露光量検出部１２は、フォトレジスト
基板１の反射率に従って反射された露光量モニタビーム
１１を受光する。
基板１の反射率に従って反射された露光量モニタビーム
１１を受光する。
また、フォーカス用レーザビーム８は、ヘッドレンズ１
０を透過し、フォトレジスト基板１に照射される。移動
光学系Ａ上の反射率モニタ部１５は、フォトレジスト基
板１の反射率に従って反射され、ダイクロイックミラー
１３で取り出された反射率モニタ用ビーム１４を受光し
、フォトレジスト基板１の反射率を算出し出力する。
０を透過し、フォトレジスト基板１に照射される。移動
光学系Ａ上の反射率モニタ部１５は、フォトレジスト基
板１の反射率に従って反射され、ダイクロイックミラー
１３で取り出された反射率モニタ用ビーム１４を受光し
、フォトレジスト基板１の反射率を算出し出力する。
検出露光量補正部１６は、前記反射率モニタ信号ｄで前
記露光量検出信号Ｃを除し、反射率１のときの検出露光
量を算出し、補正検出露光量信号ｅとして出力する。
記露光量検出信号Ｃを除し、反射率１のときの検出露光
量を算出し、補正検出露光量信号ｅとして出力する。
光変調器駆動部５は、前記露光量設定信号すと前記補正
検出露光量信号ｅとを一致させるように、光変調器駆動
信号ｆを調整し出力し、光変調器６を駆動し、レーザビ
ーム３の強度を調整する。
検出露光量信号ｅとを一致させるように、光変調器駆動
信号ｆを調整し出力し、光変調器６を駆動し、レーザビ
ーム３の強度を調整する。
本発明の光デイスク原盤露光装置は、露光時フォトレジ
スト基板から反射してくる露光ビームを移動光学系上に
設けた光センサにて検出し、ヘッド出射の露光量をモニ
タし、制御することによって、アライメントのズレや光
学素子の状態変化によるフォトレジスト基板上での露光
ビームの強度の変動をなくし、所望の露光ビーム強度に
よる露光ができるという効果がある。
スト基板から反射してくる露光ビームを移動光学系上に
設けた光センサにて検出し、ヘッド出射の露光量をモニ
タし、制御することによって、アライメントのズレや光
学素子の状態変化によるフォトレジスト基板上での露光
ビームの強度の変動をなくし、所望の露光ビーム強度に
よる露光ができるという効果がある。
また、このときフォトレジスト基板から反射してくるフ
ォーカス用ビームの一部を、反射率モニタ用ビームとし
て移動光学系上に設けた光センサにて検出し、フォトレ
ジスト基板の反射率を算出し、前記フォトレジスト基板
から反射してくる露光ビーム強度を除すことにより、フ
ォトレジスト膜厚等によるフォトレジスト基板の反射率
変動のための、前記露光ビーム強度の変動をなくし、ヘ
ッド出射の露光量を正確にモニタできるという効果もあ
る。
ォーカス用ビームの一部を、反射率モニタ用ビームとし
て移動光学系上に設けた光センサにて検出し、フォトレ
ジスト基板の反射率を算出し、前記フォトレジスト基板
から反射してくる露光ビーム強度を除すことにより、フ
ォトレジスト膜厚等によるフォトレジスト基板の反射率
変動のための、前記露光ビーム強度の変動をなくし、ヘ
ッド出射の露光量を正確にモニタできるという効果もあ
る。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
従来の一例を示すブロック図である。 １・・・・・・フォトレジスト基板、２・・・・・・レ
ーザ発振器、３・・・・・・レーザビーム、４・・・・
・・露光量設定部、５・・・・・・光変調器駆動部、６
・・・・・・光変調器、７・・・・・・露光ビーム、８
・・・・・・フォーカス用レーザビーム、９・・・・・
・ビームスプリッタ、１０・・・・・・ヘッドレンズ、
１１・・・・・・露光量モニタビーム、１２・・・・・
・露光量検出部、１３・・・・・・ダイクロイックミラ
ー、１４・・・・・・反射率モニタ用ビーム、１５・・
・・・・反射率モニタ部、１６・・・・・・検出露光量
補正部、１７・・・・・・ヘッド位置ｆ 検出部、１８・・・・・・ビームＶンプラ、１９・・・
・・・光センサ部、２０・・・・・・モニタ用ビーム、
ａ・・・・・・ヘッド位置検出信号、ｂ・・・・・・露
光量設定信号、Ｃ・・・・・・露光量検出信号、ｄ・・
・・・・反射率モニタ信号、ｅ・・・・・・補正検出露
光量信号、ｆ・・・・・・光変調器駆動信号、ｇ・・・
・・・光センサ出力信号、Ａ、Ａ’・・・・・・移動光
学系、Ｂ、Ｂ’・・・・・・固定光学系。
従来の一例を示すブロック図である。 １・・・・・・フォトレジスト基板、２・・・・・・レ
ーザ発振器、３・・・・・・レーザビーム、４・・・・
・・露光量設定部、５・・・・・・光変調器駆動部、６
・・・・・・光変調器、７・・・・・・露光ビーム、８
・・・・・・フォーカス用レーザビーム、９・・・・・
・ビームスプリッタ、１０・・・・・・ヘッドレンズ、
１１・・・・・・露光量モニタビーム、１２・・・・・
・露光量検出部、１３・・・・・・ダイクロイックミラ
ー、１４・・・・・・反射率モニタ用ビーム、１５・・
・・・・反射率モニタ部、１６・・・・・・検出露光量
補正部、１７・・・・・・ヘッド位置ｆ 検出部、１８・・・・・・ビームＶンプラ、１９・・・
・・・光センサ部、２０・・・・・・モニタ用ビーム、
ａ・・・・・・ヘッド位置検出信号、ｂ・・・・・・露
光量設定信号、Ｃ・・・・・・露光量検出信号、ｄ・・
・・・・反射率モニタ信号、ｅ・・・・・・補正検出露
光量信号、ｆ・・・・・・光変調器駆動信号、ｇ・・・
・・・光センサ出力信号、Ａ、Ａ’・・・・・・移動光
学系、Ｂ、Ｂ’・・・・・・固定光学系。
Claims (1)
- 少なくともフォトレジスト基板上に露光用レーザビーム
を合焦集光し前記フォトレジスト基板で反射された露光
ビームを移動光学系上で検出する露光量検出部と、前記
フォトレジスト基板で反射された合焦集光用レーザビー
ムを前記移動光学系上で検出する反射率モニタ部と、前
記反射率モニタ部から得られる反射率モニタ信号で前記
露光量検出部から得られる露光量検出信号を補正する検
出露光量補正部と、ヘッドの位置に対応してあらかじめ
設定された露光量設定部と、前記露光量設定部から得ら
れる露光量設定信号と前記検出露光量補正部から得られ
る補正検出露光量信号とが一致するような光変調器を制
御する変調器駆動部とを含むことを特徴とする光ディス
ク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125614A JP2504188B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125614A JP2504188B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02304748A true JPH02304748A (ja) | 1990-12-18 |
| JP2504188B2 JP2504188B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=14914443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1125614A Expired - Lifetime JP2504188B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2504188B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-18 JP JP1125614A patent/JP2504188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2504188B2 (ja) | 1996-06-05 |
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