JPH02304853A - 複合型イオン源 - Google Patents
複合型イオン源Info
- Publication number
- JPH02304853A JPH02304853A JP1125957A JP12595789A JPH02304853A JP H02304853 A JPH02304853 A JP H02304853A JP 1125957 A JP1125957 A JP 1125957A JP 12595789 A JP12595789 A JP 12595789A JP H02304853 A JPH02304853 A JP H02304853A
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- JP
- Japan
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- target
- ion source
- cone
- particle beam
- primary particle
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、サーモスプレィイオン源（以下ＴＳＰイオン
源と称す）と−次位子ビーム衝撃型イオン源とを一体化
した複合型イオン源に関するものである。
源と称す）と−次位子ビーム衝撃型イオン源とを一体化
した複合型イオン源に関するものである。
［従来の技術］
近時、液体クロマトグラフで展開された試料液をイオン
化するのに好適なイオン源としてＴＳＰイオン源が広く
使用されている。
化するのに好適なイオン源としてＴＳＰイオン源が広く
使用されている。
このＴＳＰイオン源は、高温に保たれた例えば数Ｔｏｒ
ｒ程度の真空雰囲気中にノズルを介して試料液を噴霧す
ることによりイオン化させるものである。
ｒ程度の真空雰囲気中にノズルを介して試料液を噴霧す
ることによりイオン化させるものである。
このようなＴＳＰイオン源を用いた質量分析装置では、
質量数のキャリブレーションのために標準試料をイオン
化する必要がある。
質量数のキャリブレーションのために標準試料をイオン
化する必要がある。
［発明が解決しようとする課題］
そのために液体クロマトグラフに既知の試料液を導入、
展開させてＴＳＰイオン源でイオン化することになるわ
けであるが、これでは試料の他に移動相をも同時にイオ
ン化されるため、得られたスペクトルパターンが複雑と
なり、キャリブレーションがやり難くなる。また、標準
試料がカラムに吸着されるなどして使える標準試料に制
約が生じる。
展開させてＴＳＰイオン源でイオン化することになるわ
けであるが、これでは試料の他に移動相をも同時にイオ
ン化されるため、得られたスペクトルパターンが複雑と
なり、キャリブレーションがやり難くなる。また、標準
試料がカラムに吸着されるなどして使える標準試料に制
約が生じる。
一方、ＴＳＰイオン源を稼動している途中で固体試料を
一次粒子ビーム衝撃によりイオン化したい要求がある。
一次粒子ビーム衝撃によりイオン化したい要求がある。
そこで、本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり
、標準試料に制限されることなくキャリブレーションデ
ータ作成を容易に行うと共に、−成粒子ビーム衝撃によ
るイオン化をも短時間で切り換えて行うことのできる複
合型イオン源を提供することを目的とするものである。
、標準試料に制限されることなくキャリブレーションデ
ータ作成を容易に行うと共に、−成粒子ビーム衝撃によ
るイオン化をも短時間で切り換えて行うことのできる複
合型イオン源を提供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するため、本発明の複合型イオン源は内
部が真空かつ高温に保たれた雰囲気内に液体試料を噴霧
することによりイオン化させるためのサーモスプレィイ
オン源と、該イオン源内でイオン化されたイオンを外部
に取出すためのコーンと、該コーンから取出されたイオ
ンを加速、収束するための電極群と、該電極群と前記コ
ーン間における前記イオンの通路部分にこのイオンの進
行方向と交差するように配置されるターゲットと、該タ
ーゲットをイオン通路部分から挿脱するための保持体と
、前記イオン通路部分に置かれた前記ターゲット上の試
料に一次粒子ビームを照射するための手段と、前記イオ
ン通路部分にターゲットを設置したときこのターゲット
の挿入動作に連動して前記コーンを塞ぐ塞止体とを備え
たことを特徴とするものである。
部が真空かつ高温に保たれた雰囲気内に液体試料を噴霧
することによりイオン化させるためのサーモスプレィイ
オン源と、該イオン源内でイオン化されたイオンを外部
に取出すためのコーンと、該コーンから取出されたイオ
ンを加速、収束するための電極群と、該電極群と前記コ
ーン間における前記イオンの通路部分にこのイオンの進
行方向と交差するように配置されるターゲットと、該タ
ーゲットをイオン通路部分から挿脱するための保持体と
、前記イオン通路部分に置かれた前記ターゲット上の試
料に一次粒子ビームを照射するための手段と、前記イオ
ン通路部分にターゲットを設置したときこのターゲット
の挿入動作に連動して前記コーンを塞ぐ塞止体とを備え
たことを特徴とするものである。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳説する。
［実施例コ
第１図は本発明にかかる複合型イオン源の一実施例を示
す構成概略図である。
す構成概略図である。
同図中、１はＴＳＰイオン源である。このＴＳＰイオン
源は筒状に形成されて高真空に保たれた筐体２内に設置
されており、その一端は側壁３に′より塞がれていると
共に、他端は大気中に取出されて図示外の例えば油回転
ポンプに接続され、また、外壁の側壁３側には図示しな
いが加熱ヒータが設置しである。これによりＴＳＰイオ
ン源１内は２００〜３００℃程度の高温で、かつ数Ｔｏ
ｒｒ程度の低真空の雰囲気に保たれている。４は前記側
壁３に気密を保って貫通、保持されたノズルで、このノ
ズルにはキャピラリー管５等を介して液体クロマトグラ
フ６に接続されている。従って、この液体クロマトグラ
フ６で分離された試料液をノズル４より高温かつ低真空
に保たれたＴＳＰイオン源１内に霧状に噴出させれば、
試料液は気化しながら次第に小さな液滴となり最終的に
イオン化される。
源は筒状に形成されて高真空に保たれた筐体２内に設置
されており、その一端は側壁３に′より塞がれていると
共に、他端は大気中に取出されて図示外の例えば油回転
ポンプに接続され、また、外壁の側壁３側には図示しな
いが加熱ヒータが設置しである。これによりＴＳＰイオ
ン源１内は２００〜３００℃程度の高温で、かつ数Ｔｏ
ｒｒ程度の低真空の雰囲気に保たれている。４は前記側
壁３に気密を保って貫通、保持されたノズルで、このノ
ズルにはキャピラリー管５等を介して液体クロマトグラ
フ６に接続されている。従って、この液体クロマトグラ
フ６で分離された試料液をノズル４より高温かつ低真空
に保たれたＴＳＰイオン源１内に霧状に噴出させれば、
試料液は気化しながら次第に小さな液滴となり最終的に
イオン化される。
７はこのＴＳＰイオン源１内で生成されたイオンＩを筐
体２側に取出すためのコーンで、このコーンはＴＳＰイ
オン源外壁外壁気及び熱絶縁体８を介して貫通、保持さ
れている。このコーンのＴＳＰイオン源への取付けにあ
たっては、その径の細い側（頂点ａ）がＴＳＰイオン源
内に位置するように貫通され、ＴＳＰイオン源内部内部
ス分子ができるだけ筐体２に流出しないように構成しで
ある。９は前記ＴＳＰイオン源内のコーン７と対向する
位置に設けられたりベラ電極で、正又は負の電圧が印加
されている。
体２側に取出すためのコーンで、このコーンはＴＳＰイ
オン源外壁外壁気及び熱絶縁体８を介して貫通、保持さ
れている。このコーンのＴＳＰイオン源への取付けにあ
たっては、その径の細い側（頂点ａ）がＴＳＰイオン源
内に位置するように貫通され、ＴＳＰイオン源内部内部
ス分子ができるだけ筐体２に流出しないように構成しで
ある。９は前記ＴＳＰイオン源内のコーン７と対向する
位置に設けられたりベラ電極で、正又は負の電圧が印加
されている。
１０は前記コーンから取出されたイオンＩを加速、収束
して図示外の質量分析系に導入するための電極群である
。
して図示外の質量分析系に導入するための電極群である
。
１１は一次粒子ビーム衝撃用ターゲットで、このターゲ
ットは筐体２側壁を摺動可能に貫通した保持棒１２の先
端に保持されている。また、このターゲットは保持棒を
筐体内に押込むと、同図中点線でその状態を示すように
前記コーン７と電極群１０間のイオンＩの通路部分にこ
のイオンの進行方向と交差するように配置されると共に
、その下端がコーン７上に当接しＴＳＰイオン源１と筐
体２とを遮断するように構成されている。
ットは筐体２側壁を摺動可能に貫通した保持棒１２の先
端に保持されている。また、このターゲットは保持棒を
筐体内に押込むと、同図中点線でその状態を示すように
前記コーン７と電極群１０間のイオンＩの通路部分にこ
のイオンの進行方向と交差するように配置されると共に
、その下端がコーン７上に当接しＴＳＰイオン源１と筐
体２とを遮断するように構成されている。
１３は前記イオン！の通路部分に設置されたターゲット
１１上に一次粒子ビームＢを照射するための一次粒子ビ
ーム発生器である。
１１上に一次粒子ビームＢを照射するための一次粒子ビ
ーム発生器である。
１４はコーン７及びターゲット１１が置かれるイオンＩ
の通路部分を囲むためのイオン化室で、ターゲット通過
穴、−次位子ビーム通過穴及びイオン通過穴が夫々形成
しである。
の通路部分を囲むためのイオン化室で、ターゲット通過
穴、−次位子ビーム通過穴及びイオン通過穴が夫々形成
しである。
かかる構成において、今、同図で示すようにターゲット
１１がイオン化室１４外に置かれているＴＳＰモードで
は、ＴＳＰイオン源１内でイオン化されたイオンＩが質
量分析される。つまり、コーン７がイオン化室１３内に
開放されているため、ノズル４を介してＴＳＰイオン源
内に導入された液体クロマトグラフで分離された試料液
がイオン化され、生成されたイオン■がリペラ電極９に
よりコーン７から押出された後、電極群１０により加速
、収束されて質量分析系に導入され質量分析される。こ
のとき、コーンを介して取出されなかったイオン化や移
動相等は油回転ポンプにより排気される。
１１がイオン化室１４外に置かれているＴＳＰモードで
は、ＴＳＰイオン源１内でイオン化されたイオンＩが質
量分析される。つまり、コーン７がイオン化室１３内に
開放されているため、ノズル４を介してＴＳＰイオン源
内に導入された液体クロマトグラフで分離された試料液
がイオン化され、生成されたイオン■がリペラ電極９に
よりコーン７から押出された後、電極群１０により加速
、収束されて質量分析系に導入され質量分析される。こ
のとき、コーンを介して取出されなかったイオン化や移
動相等は油回転ポンプにより排気される。
次に、−成粒子ビームモードでは、ターゲット１１を大
気中に取出し、被測定試料をこのターゲット上に塗布し
てからターゲットを筐体２に導入した後、保持棒１２を
押込んで同図中１１″の位置へターゲット１１をイオン
Ｉの通路上にセットする。このようにすれば、ターゲッ
トがコーン７を塞ぐため、ＴＳＰイオン源１内で生成さ
れた試料及び移動相のイオンや移動相成分がイオン化室
１４内に導入されるのを阻止することができる。
気中に取出し、被測定試料をこのターゲット上に塗布し
てからターゲットを筐体２に導入した後、保持棒１２を
押込んで同図中１１″の位置へターゲット１１をイオン
Ｉの通路上にセットする。このようにすれば、ターゲッ
トがコーン７を塞ぐため、ＴＳＰイオン源１内で生成さ
れた試料及び移動相のイオンや移動相成分がイオン化室
１４内に導入されるのを阻止することができる。
この状態で、−次位子ビーム発生器１３より一次粒子ビ
ームＢをターゲット１１上に照射すれば、被測定試料が
一次粒子ビームの衝撃を受けてイオン化され、生成され
たイオンが電極群１０を介して質量分析系に導入される
ため、−次位子ビーム衝撃イオン化による質量分析を行
うことができる。
ームＢをターゲット１１上に照射すれば、被測定試料が
一次粒子ビームの衝撃を受けてイオン化され、生成され
たイオンが電極群１０を介して質量分析系に導入される
ため、−次位子ビーム衝撃イオン化による質量分析を行
うことができる。
ここで、ターゲット１１に塗布する被測定試料と ′
して標準試料を使用すれば、キャリブレーションデータ
を作成することができる。
して標準試料を使用すれば、キャリブレーションデータ
を作成することができる。
第２図は本発明に係る複合型イオン源における他の実施
例を示す要部概略図であり、第１図と同一番号のものは
同一構成要素を示す。
例を示す要部概略図であり、第１図と同一番号のものは
同一構成要素を示す。
本実施例において第１図で示す実施例と異なるところは
、コーン７の直上に静電レンズ１５を設置してＴＳＰイ
オン源１から取出されたイオンＩを集束して効率ａ＜電
極群１０に導くようにした点である。ここで、ターゲッ
ト１１の保持棒１２にブラケット１６を介して塞止体１
７を取付け、同図中でその状態を示すようにターゲット
１１をイオンＩの通路上にセットしたとき、ターゲット
の挿入動作に連動して塞止体１７がコーン７の開放端を
塞ぐように構成する必要がある。
、コーン７の直上に静電レンズ１５を設置してＴＳＰイ
オン源１から取出されたイオンＩを集束して効率ａ＜電
極群１０に導くようにした点である。ここで、ターゲッ
ト１１の保持棒１２にブラケット１６を介して塞止体１
７を取付け、同図中でその状態を示すようにターゲット
１１をイオンＩの通路上にセットしたとき、ターゲット
の挿入動作に連動して塞止体１７がコーン７の開放端を
塞ぐように構成する必要がある。
このような構成でも、ターゲットの挿脱によりＴＳＰモ
ードと一次粒子ビーム衝撃モードを選択できる。
ードと一次粒子ビーム衝撃モードを選択できる。
尚、前述の説明は本発明の一実施例であり、実施にあた
っては幾多の変形が考えられる。例えば上記各実施例で
は、イオンＩの通路上のターゲット１１が置かれる空間
をイオン化室１３で囲むようになしたが、必ずしもイオ
ン化室は必要ではない。
っては幾多の変形が考えられる。例えば上記各実施例で
は、イオンＩの通路上のターゲット１１が置かれる空間
をイオン化室１３で囲むようになしたが、必ずしもイオ
ン化室は必要ではない。
また、上記各実施例においてコーン７とターゲット１１
に夫々異なった電位を印加する必要がある場合には、タ
ーゲットの下面に電気絶縁物質を設置したり塞止体１７
（ブラケット１６）を電気絶縁物質で形成する。
に夫々異なった電位を印加する必要がある場合には、タ
ーゲットの下面に電気絶縁物質を設置したり塞止体１７
（ブラケット１６）を電気絶縁物質で形成する。
さらに、上記実施例ではＴＳＰイオン源と液体クロマト
グラフとをオンラインで接続した場合を示したが、これ
に限定されることなく、単一の被分析試料をオフライン
で分析するような場合にも同様に実施することができる
。
グラフとをオンラインで接続した場合を示したが、これ
に限定されることなく、単一の被分析試料をオフライン
で分析するような場合にも同様に実施することができる
。
［効果コ
以上詳述したように本発明によれば、ＴＳＰイオン源モ
ードによる質量分析を行っている途中においても、イオ
ン源を交換することなく容易に一次粒子ビーム衝撃モー
ドに基づく質量分析を行うことができる。また、ＴＳＰ
イオン源におけるキヤリプレーショする場合には一次粒
子ビーム衝撃モードを使用して行うことができるため、
従来のようにＴＳＰイオン源を使用する方式に比べて移
動相等の影響をなくすことができ、正確なキャリブレー
ションデータを容易に作成することができると共に、標
準試料がカラムに吸着することがなくなり標準試料の選
択範囲が拡大される。
ードによる質量分析を行っている途中においても、イオ
ン源を交換することなく容易に一次粒子ビーム衝撃モー
ドに基づく質量分析を行うことができる。また、ＴＳＰ
イオン源におけるキヤリプレーショする場合には一次粒
子ビーム衝撃モードを使用して行うことができるため、
従来のようにＴＳＰイオン源を使用する方式に比べて移
動相等の影響をなくすことができ、正確なキャリブレー
ションデータを容易に作成することができると共に、標
準試料がカラムに吸着することがなくなり標準試料の選
択範囲が拡大される。
第１図は本発明にかかる複合型イオン源の一実施例を示
す構成概略図、第２図は本発明に係る複合型イオン源に
おける他の実施例を示す要部概略図である。 １：ＴＳＰイオン源 ２：筐体 ３二側壁 ４：ノズル ５：キャピラリー管 ６：液体クロマトグラフ ７：コーン ９：リベラ電極１０：ターゲッ
ト １２：保持棒 １３ニ一次粒子ビーム発生器
す構成概略図、第２図は本発明に係る複合型イオン源に
おける他の実施例を示す要部概略図である。 １：ＴＳＰイオン源 ２：筐体 ３二側壁 ４：ノズル ５：キャピラリー管 ６：液体クロマトグラフ ７：コーン ９：リベラ電極１０：ターゲッ
ト １２：保持棒 １３ニ一次粒子ビーム発生器
Claims (1)
- 内部が真空かつ高温に保たれた雰囲気内に液体試料を噴
霧することによりイオン化させるためのサーモスプレイ
イオン源と、該イオン源内でイオン化されたイオンを外
部に取出すためのコーンと、該コーンから取出されたイ
オンを加速、収束するための電極群と、該電極群と前記
コーン間における前記イオンの通路部分にこのイオンの
進行方向と交差するように配置されるターゲットと、該
ターゲットをイオン通路部分から挿脱するための保持体
と、前記イオン通路部分に置かれた前記ターゲット上の
試料に一次粒子ビームを照射するための手段と、前記イ
オン通路部分にターゲットを設置したときこのターゲッ
トの挿入動作に連動して前記コーンを塞ぐ塞止体とを備
えたことを特徴とする複合型イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125957A JPH02304853A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 複合型イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125957A JPH02304853A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 複合型イオン源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02304853A true JPH02304853A (ja) | 1990-12-18 |
Family
ID=14923154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1125957A Pending JPH02304853A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 複合型イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02304853A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006190526A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1125957A patent/JPH02304853A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006190526A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
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