JPH0230633A - 光ファイバ用母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ用母材の製造方法Info
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- JPH0230633A JPH0230633A JP18039988A JP18039988A JPH0230633A JP H0230633 A JPH0230633 A JP H0230633A JP 18039988 A JP18039988 A JP 18039988A JP 18039988 A JP18039988 A JP 18039988A JP H0230633 A JPH0230633 A JP H0230633A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光ファイバ用母材の製造方法に関するものであ
る。
る。
[従来の技術]
一般に火炎加水分解反応を用いた光ファイバ用多孔質ガ
ラス母材(以下多孔質母材と略記する)の製造において
は、第1−1図に示すように反応容器l内にてバーナ2
から燃焼ガス、ガラス原料ガラス等を混合噴出し、酸水
素火炎3中において上記ガラス原料が加水分解反応する
ことにより生じたガラス微粒子を回転する出発材の先端
に堆積させ、回転軸4の方向に多孔質母材5を成長させ
る方法が用いられている。そして、多孔質母材5を第1
−2図に示すようなHe雰囲気とした加熱炉内に入れ、
回転させながら徐々にヒータ6内を下降させることによ
り焼結して透明ガラス化した焼結体(透明ガラス母材)
を製造している。
ラス母材(以下多孔質母材と略記する)の製造において
は、第1−1図に示すように反応容器l内にてバーナ2
から燃焼ガス、ガラス原料ガラス等を混合噴出し、酸水
素火炎3中において上記ガラス原料が加水分解反応する
ことにより生じたガラス微粒子を回転する出発材の先端
に堆積させ、回転軸4の方向に多孔質母材5を成長させ
る方法が用いられている。そして、多孔質母材5を第1
−2図に示すようなHe雰囲気とした加熱炉内に入れ、
回転させながら徐々にヒータ6内を下降させることによ
り焼結して透明ガラス化した焼結体(透明ガラス母材)
を製造している。
多孔質母材の気孔率(多孔質母材1 cm3中の気孔の
体積%)は80〜90%程度であり、焼結時に気孔が完
全に消滅するには、He雰囲気で焼結することが必須と
されている。これは、焼結の進行過程において、ガラス
微粒子の粒子と粒子の境界すなわち粒界に存在する気孔
が成長するか消滅するかは、気孔内のガスの透過速度に
依存している。つまり、透過速度の値の大きいガスを含
む気孔はど消滅し易く、Heガスはその他のガスに比べ
て石英ガス中の透過速度が大きいからである。
体積%)は80〜90%程度であり、焼結時に気孔が完
全に消滅するには、He雰囲気で焼結することが必須と
されている。これは、焼結の進行過程において、ガラス
微粒子の粒子と粒子の境界すなわち粒界に存在する気孔
が成長するか消滅するかは、気孔内のガスの透過速度に
依存している。つまり、透過速度の値の大きいガスを含
む気孔はど消滅し易く、Heガスはその他のガスに比べ
て石英ガス中の透過速度が大きいからである。
[発明が解決しようとする課題]
上記の従来法により製造された焼結体(透明ガラス母材
)は、次の線引き工程において外径100〜200μ−
の細い光ファイバに引き伸ばされる。
)は、次の線引き工程において外径100〜200μ−
の細い光ファイバに引き伸ばされる。
この線引工程では焼結体をまず適当な外径の線引可能形
状に加工する必要があるため、1900℃以上の高温に
加熱して延伸成形される。このとき、焼結体が上記従来
法による製造工程において、例えば気泡、結晶粒、不純
物等の微小な欠点を有して製造されていると、これらの
欠点を核として、延伸成形後の母材(線引用母材)中に
直径1〜51程度の気泡が発生し、製品歩留まりを低下
させるという問題があった。このような大型の気泡が存
在する線引用母材を線引すると、ファイバの断線をきた
し、安定な製造が不可能である。
状に加工する必要があるため、1900℃以上の高温に
加熱して延伸成形される。このとき、焼結体が上記従来
法による製造工程において、例えば気泡、結晶粒、不純
物等の微小な欠点を有して製造されていると、これらの
欠点を核として、延伸成形後の母材(線引用母材)中に
直径1〜51程度の気泡が発生し、製品歩留まりを低下
させるという問題があった。このような大型の気泡が存
在する線引用母材を線引すると、ファイバの断線をきた
し、安定な製造が不可能である。
本発明の目的は、上記の問題点を解消して、延伸成形し
て線引用母材としても気泡や結晶粒がなく、安定なファ
イバ製造を可能とする光ファイバ用母材の製造方法を提
供することにあり、特にその多孔質母材から透明ガラス
母材を得る方法の改良にある。
て線引用母材としても気泡や結晶粒がなく、安定なファ
イバ製造を可能とする光ファイバ用母材の製造方法を提
供することにあり、特にその多孔質母材から透明ガラス
母材を得る方法の改良にある。
「課題を解決するための手段]
本発明者等は鋭意研究の結果、多孔質母材をI4C雰囲
気中で焼結して得られた焼結体を、さらに不活性ガス(
Haを除く)雰囲気中で加熱処理すれば、その後の延伸
成形工程における気泡の発生が低減できることを見出し
て、本発明に到達した。
気中で焼結して得られた焼結体を、さらに不活性ガス(
Haを除く)雰囲気中で加熱処理すれば、その後の延伸
成形工程における気泡の発生が低減できることを見出し
て、本発明に到達した。
すなわち、本発明は回転する出発材の先端にガラス微粒
子を堆積させて多孔質ガラス母材を合成し、該多孔質ガ
ラス母材をHe雰囲気下で焼結して透明ガラス化した後
に、得られた焼結体を不活性ガス(ト(eを除く)の分
圧が0.8 気圧以上の雰囲気下で熱処理することを特
徴とする光ファイバ用母材の製造方法である。
子を堆積させて多孔質ガラス母材を合成し、該多孔質ガ
ラス母材をHe雰囲気下で焼結して透明ガラス化した後
に、得られた焼結体を不活性ガス(ト(eを除く)の分
圧が0.8 気圧以上の雰囲気下で熱処理することを特
徴とする光ファイバ用母材の製造方法である。
本発明の特に好ましい実施態様としては、不活性ガスが
N、又は八rであり、不活性ガスの分圧が0.8 気圧
以」二の雰囲気下での熱処理が800〜+ 000℃の
温度範囲内で180分間以上保持する上記方法が挙げら
れる。
N、又は八rであり、不活性ガスの分圧が0.8 気圧
以」二の雰囲気下での熱処理が800〜+ 000℃の
温度範囲内で180分間以上保持する上記方法が挙げら
れる。
以下、図面を参照して本発明を具体的に説明すると、本
発明において多孔質母材を製造し、これを焼結して焼結
体とするところまでは、従来技術により行う。すなわち
、第1−1図に示す構成で、ガラス微粒子合成用バーナ
2に例えばS iC1,等のガラス原料ガス、H,、C
H,等の燃焼ガス、02等の助燃ガスを導入して、この
バーナ2の火炎3内で上記ガラス原料を火炎加水分解反
応させることによりガラス微粒子を生成させて、これを
回転する出発材4の先端に堆積させて多孔質母材5を合
成する。ガラス原料中にGeC1,等の添加物を加える
ことも差し支えない。
発明において多孔質母材を製造し、これを焼結して焼結
体とするところまでは、従来技術により行う。すなわち
、第1−1図に示す構成で、ガラス微粒子合成用バーナ
2に例えばS iC1,等のガラス原料ガス、H,、C
H,等の燃焼ガス、02等の助燃ガスを導入して、この
バーナ2の火炎3内で上記ガラス原料を火炎加水分解反
応させることによりガラス微粒子を生成させて、これを
回転する出発材4の先端に堆積させて多孔質母材5を合
成する。ガラス原料中にGeC1,等の添加物を加える
ことも差し支えない。
次に第12図に示したような加熱炉中で、He雰囲気下
、温度1500〜1650℃に加熱して多孔質母材5を
透明ガラス化して焼結体とする。
、温度1500〜1650℃に加熱して多孔質母材5を
透明ガラス化して焼結体とする。
図はいわゆるゾーン加熱炉であるが、均熱炉を用いても
よい。
よい。
本発明の特徴とするところは、この透明化した焼結体を
、さらに第1−3図に示すように不活性ガス(Heを除
く)の分圧が0.8 気圧以上の雰囲気、好ましくはN
、又はArの分圧が0.8 気圧以上の雰囲気下で80
0〜1000℃の温度範囲内で加熱処理するところにあ
る。処理時間は180分間以上が好ましい。加熱処理の
温度が高いほど、又、処理時間が長いほど気泡低減効果
は大きくなるが、焼結体の形状、焼結条件等により十分
である条件は異なり、本発明者等の実験では通常800
〜1000℃で180分間以上保持すれば、気泡の発生
は確実に防止できた。
、さらに第1−3図に示すように不活性ガス(Heを除
く)の分圧が0.8 気圧以上の雰囲気、好ましくはN
、又はArの分圧が0.8 気圧以上の雰囲気下で80
0〜1000℃の温度範囲内で加熱処理するところにあ
る。処理時間は180分間以上が好ましい。加熱処理の
温度が高いほど、又、処理時間が長いほど気泡低減効果
は大きくなるが、焼結体の形状、焼結条件等により十分
である条件は異なり、本発明者等の実験では通常800
〜1000℃で180分間以上保持すれば、気泡の発生
は確実に防止できた。
[作用]
従来法により、多孔質母材をHe雰囲気下で焼結して焼
結体とした後延伸加工して得たガラスロッド中に発生し
た気泡をガス分析したところ、そのY成分はHeである
と判明した。この事実から、焼結時にガラス内に溶解し
たHeが延伸加工時に発泡することが気泡発生の原因と
考えられる。
結体とした後延伸加工して得たガラスロッド中に発生し
た気泡をガス分析したところ、そのY成分はHeである
と判明した。この事実から、焼結時にガラス内に溶解し
たHeが延伸加工時に発泡することが気泡発生の原因と
考えられる。
一般にガラス中への気体の溶解度は温度の関数であり、
高温になるほど小さくなる傾向がある。
高温になるほど小さくなる傾向がある。
したがって、ガラスに含まれるガス量よりも溶解度が小
になるまで温度を高くすると、ガス中のガスは過飽和に
なり、ガラス中に湧きでてくる。このときのガラス温度
がガラスの軟化点以上の場合に、ガスは微小な欠陥を中
心の核として気泡としてガラス内に発泡すると考えられ
ている。光ファイバ用母材(透明ガラス化した焼結体等
)の延伸工程では、焼結温度より高い1700°C以上
の高温にしてガラスを十分に軟化させるので、焼結時に
ガラス内に閉じ込められたH eが気泡となってガラス
中に気化することは十分に考えられることである。
になるまで温度を高くすると、ガス中のガスは過飽和に
なり、ガラス中に湧きでてくる。このときのガラス温度
がガラスの軟化点以上の場合に、ガスは微小な欠陥を中
心の核として気泡としてガラス内に発泡すると考えられ
ている。光ファイバ用母材(透明ガラス化した焼結体等
)の延伸工程では、焼結温度より高い1700°C以上
の高温にしてガラスを十分に軟化させるので、焼結時に
ガラス内に閉じ込められたH eが気泡となってガラス
中に気化することは十分に考えられることである。
そこで、本発明者等は延伸工程におけるガラス中の気泡
発生の防止のためには、焼結された透明ガラス体中のH
e 含、flLを延伸温度におけるガラス中へのHeの
溶解度以下に下げておくことが仔効である、と考えつい
た。例えば、1500’Cで焼結したガラス1す材を2
000℃で延伸加工したとする。Heのガラス中への溶
解度は1600℃のとき1.0 であるとすると、20
00℃てせは0゜96程度となる。したがって、延伸工
程における気泡の発生を防止するには、焼結体中のHe
の約4%を除去すれば十分である。
発生の防止のためには、焼結された透明ガラス体中のH
e 含、flLを延伸温度におけるガラス中へのHeの
溶解度以下に下げておくことが仔効である、と考えつい
た。例えば、1500’Cで焼結したガラス1す材を2
000℃で延伸加工したとする。Heのガラス中への溶
解度は1600℃のとき1.0 であるとすると、20
00℃てせは0゜96程度となる。したがって、延伸工
程における気泡の発生を防止するには、焼結体中のHe
の約4%を除去すれば十分である。
このようにガラス中から気体を除去するには、除去対象
ガス不含の雰囲気中に当該ガラスを保持することにより
、ガラス表面から対象ガスを雰囲気(外界)へ蒸発させ
る方法が有効である。この外界雰囲気としては、l−(
e以外の不活性ガス、すなわちN、又はArが分圧0,
8 気圧以上の不活性ガスが好ましく、さらにコストが
安(、ガラスへの溶解性が小さい点から、N7分圧0,
8 気圧以」二の空気を雰囲気として用いることもでき
る。
ガス不含の雰囲気中に当該ガラスを保持することにより
、ガラス表面から対象ガスを雰囲気(外界)へ蒸発させ
る方法が有効である。この外界雰囲気としては、l−(
e以外の不活性ガス、すなわちN、又はArが分圧0,
8 気圧以上の不活性ガスが好ましく、さらにコストが
安(、ガラスへの溶解性が小さい点から、N7分圧0,
8 気圧以」二の空気を雰囲気として用いることもでき
る。
また、ガラス内部に存在するガスがガラス表面に拡散移
動する速度を高めるためには、ある程度の温度が必要で
あり、この温度範囲は800〜1000℃が適切である
。800℃未満では十分な脱He効果が得られず、10
00℃を越えるとガラス母材表面の失透、不純物の拡散
、熱変形等の問題が生じ、好ましくない。さらに、ガラ
ス母材内部のHeが母材表面方向に拡散し、ガラス母材
全域において所望のHefi度以下とするには、加熱時
間180分間以上を要することが判った。
動する速度を高めるためには、ある程度の温度が必要で
あり、この温度範囲は800〜1000℃が適切である
。800℃未満では十分な脱He効果が得られず、10
00℃を越えるとガラス母材表面の失透、不純物の拡散
、熱変形等の問題が生じ、好ましくない。さらに、ガラ
ス母材内部のHeが母材表面方向に拡散し、ガラス母材
全域において所望のHefi度以下とするには、加熱時
間180分間以上を要することが判った。
第2−1図に、ガラス焼結体をNff1 O,8気圧雰
囲気下で加熱温度は800℃の一定に保持して処理した
ときの、処理時間と気泡発生数の関係を調べた結果を示
す。第2−1図から温度800°Cでは180分間以、
Hの処理で気泡を低減できることが判る。
囲気下で加熱温度は800℃の一定に保持して処理した
ときの、処理時間と気泡発生数の関係を調べた結果を示
す。第2−1図から温度800°Cでは180分間以、
Hの処理で気泡を低減できることが判る。
また、N、雰囲気0.8 気圧で処理時間を180分間
の一定にして、処理温度を変えた時の気泡発生数を調べ
た結果を第2−2図に示す。この図から、温度800℃
以」二で十分な気泡低減効果が得られることが判る。な
お、温度+ 200℃において同様に処理したところ、
気泡発生は見られなかったものの、母材表面が失透する
問題が生じた。
の一定にして、処理温度を変えた時の気泡発生数を調べ
た結果を第2−2図に示す。この図から、温度800℃
以」二で十分な気泡低減効果が得られることが判る。な
お、温度+ 200℃において同様に処理したところ、
気泡発生は見られなかったものの、母材表面が失透する
問題が生じた。
[実施例]
気体のガラス原料としてS iC1,を、燃焼バーナの
酸水素火炎内に導入してガラス微粒子を生成させ、これ
を第11図のように回転する出発材先端に堆積させて回
転軸方向に成長させることにより、直径150 ffi
+s、長さ700mmの光ファイバ用多孔質母材を合成
した。これを第12図のようにHe雰囲気100%の加
熱炉内に挿入し、回転させなからヒータ内を徐々に下降
させて加熱し、直径7 ff1e、長さ400mmの焼
結体を得た。この焼結体を肉眼で観察したところ、特に
気泡の残留は見出し得なかった。しかし、この焼結体を
2000℃で30分間はどかけ°C延伸工程に付したと
ころ、延伸加工して得たガラスロッド中には4ケの気泡
が生じていた(比較例)。
酸水素火炎内に導入してガラス微粒子を生成させ、これ
を第11図のように回転する出発材先端に堆積させて回
転軸方向に成長させることにより、直径150 ffi
+s、長さ700mmの光ファイバ用多孔質母材を合成
した。これを第12図のようにHe雰囲気100%の加
熱炉内に挿入し、回転させなからヒータ内を徐々に下降
させて加熱し、直径7 ff1e、長さ400mmの焼
結体を得た。この焼結体を肉眼で観察したところ、特に
気泡の残留は見出し得なかった。しかし、この焼結体を
2000℃で30分間はどかけ°C延伸工程に付したと
ころ、延伸加工して得たガラスロッド中には4ケの気泡
が生じていた(比較例)。
そこで、本発明の実施例として、」−記比較例と同様に
作成した焼結体を第1−3図のようにN、0゜8気圧の
雰囲気でヒータ7により800℃に加熱された加熱炉中
で5時間保持する処理を行った。
作成した焼結体を第1−3図のようにN、0゜8気圧の
雰囲気でヒータ7により800℃に加熱された加熱炉中
で5時間保持する処理を行った。
次にこの熱処理した焼結体を比較例と同様に2000℃
で延伸したところ、成形されたガラス中に気泡は1点も
見出されなかった(実施例)。
で延伸したところ、成形されたガラス中に気泡は1点も
見出されなかった(実施例)。
以−にの結果から、本発明の熱処理が焼結体(透明ガラ
ス母材)のその後の延伸成形工程での気泡の発生成長の
低減に非常に有効であることが明らかに判る。
ス母材)のその後の延伸成形工程での気泡の発生成長の
低減に非常に有効であることが明らかに判る。
[発明の効果]
以上説明したように、出発材の先端に火炎加水分解反応
によるガラス微粒子を堆積させて合成した多孔質母材を
He雰囲気下で焼結し、得られた焼結体を高温で延伸加
工するに先立ち、Hc以外の不活性ガス雰囲気下で熱処
理することにより、本発明は延伸加工時にガラス母材中
に気泡が発生することを防+F、でき、光ファイバ用母
材製造の歩留まりを著しく向上できるとともに、良質な
線引用母材を得ることができる。従って本発明による線
引用母材を用いれば、断線等な(、安定して光ファイバ
を製造することが可能となる。
によるガラス微粒子を堆積させて合成した多孔質母材を
He雰囲気下で焼結し、得られた焼結体を高温で延伸加
工するに先立ち、Hc以外の不活性ガス雰囲気下で熱処
理することにより、本発明は延伸加工時にガラス母材中
に気泡が発生することを防+F、でき、光ファイバ用母
材製造の歩留まりを著しく向上できるとともに、良質な
線引用母材を得ることができる。従って本発明による線
引用母材を用いれば、断線等な(、安定して光ファイバ
を製造することが可能となる。
第1−1図乃至第1−3図は本発明の実施態様を説明す
る図であって、第1〜1図は多孔質母材の作成工程、第
12図はHe雰囲気下で加熱して焼結体とする]−程、
第1−3図はHe以外の不活性ガス中で熱処理する工程
の概略説明図である。第2−1図は処理時間と気泡発生
個数の関係を示す図表、第2−2図は処理温度と気泡発
生個数の関係を示す図表である。
る図であって、第1〜1図は多孔質母材の作成工程、第
12図はHe雰囲気下で加熱して焼結体とする]−程、
第1−3図はHe以外の不活性ガス中で熱処理する工程
の概略説明図である。第2−1図は処理時間と気泡発生
個数の関係を示す図表、第2−2図は処理温度と気泡発
生個数の関係を示す図表である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)回転する出発材の先端にガラス微粒子を堆積させて
多孔質ガラス母材を合成し、該多孔質ガラス母材をHe
雰囲気下で焼結して透明ガラス化した後に、得られた焼
結体を不活性ガス(Heを除く)の分圧が0.8以上の
雰囲気下で熱処理することを特徴とする光ファイバ用母
材の製造方法。 2)不活性ガスの分圧が0.8以上の雰囲気下での熱処
理が、800〜1000℃の温度範囲内で180分間以
上保持することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の光ファイバ用母材の製造方法。 3)不活性ガスがN_2又はArである特許請求の範囲
第1項記載の光ファイバ用母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18039988A JPH0230633A (ja) | 1988-07-21 | 1988-07-21 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18039988A JPH0230633A (ja) | 1988-07-21 | 1988-07-21 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0230633A true JPH0230633A (ja) | 1990-02-01 |
Family
ID=16082559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18039988A Pending JPH0230633A (ja) | 1988-07-21 | 1988-07-21 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0230633A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0626351A1 (en) * | 1993-05-24 | 1994-11-30 | Litespec, Inc. | Process for sintering porous optical fibre preforms |
-
1988
- 1988-07-21 JP JP18039988A patent/JPH0230633A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0626351A1 (en) * | 1993-05-24 | 1994-11-30 | Litespec, Inc. | Process for sintering porous optical fibre preforms |
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