JPH02309687A - Excimer laser - Google Patents
Excimer laserInfo
- Publication number
- JPH02309687A JPH02309687A JP1130821A JP13082189A JPH02309687A JP H02309687 A JPH02309687 A JP H02309687A JP 1130821 A JP1130821 A JP 1130821A JP 13082189 A JP13082189 A JP 13082189A JP H02309687 A JPH02309687 A JP H02309687A
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- JP
- Japan
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- etalon
- laser beam
- transmitting part
- excimer laser
- beam transmitting
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/1062—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体リソグラフィー等に用いられるエキシマ
レーザ装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to an excimer laser device used in semiconductor lithography and the like.
従来の技術
従来、エキシマレーザ装置において、レーザ光の発振ス
ペクトル幅を所定の発振波長を中心として狭帯域化する
ため、共振器中に回折格子やエタロンを挿入設置する方
法が用いられている。特に、エタロンを用いる方法は回
折格子に比べ光量の損失が少ないことから、特に高エネ
ルギー出力を必要とする半導体リソグラフィー用光源等
として用いられるエキシマレーザ装置において有用であ
る。2. Description of the Related Art Conventionally, in excimer laser devices, a method has been used in which a diffraction grating or an etalon is inserted into a resonator in order to narrow the oscillation spectrum width of laser light around a predetermined oscillation wavelength. In particular, the method using an etalon has less loss of light quantity than a diffraction grating, and is therefore particularly useful in excimer laser devices used as light sources for semiconductor lithography, etc., which require high energy output.
例えば、特開昭６３−４５８７５号公報記載の構成が知
られている。For example, a configuration described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-45875 is known.
以下、図面を参照しながら従来例について説明する。A conventional example will be described below with reference to the drawings.
第３図は従来の共振器内にエタロンを挿入したエキシマ
レーザ装置の概略図である。第３図において、６はレー
ザチャンバー、７は全反射鏡、８は出力結合鏡、１は共
振器内に挿入したエタロン、３はレーザ光である。以上
のような構成において、レーザチャンバー６より発光し
た光は、平行に配置された全反射鏡７、出力結合鏡８を
往復する間にレーザチャンバー６の内部で増幅され、レ
ーザ光３を出力結合鏡から発振する。ここで、レーザチ
ャンバー６と全反射鏡７との間に２個の組合せからなる
エタロン１を挿入することにより、発振スペクトル線幅
の狭いレーザ光の発振が可能となる。FIG. 3 is a schematic diagram of a conventional excimer laser device in which an etalon is inserted into a resonator. In FIG. 3, 6 is a laser chamber, 7 is a total reflection mirror, 8 is an output coupling mirror, 1 is an etalon inserted into the resonator, and 3 is a laser beam. In the above configuration, the light emitted from the laser chamber 6 is amplified inside the laser chamber 6 while going back and forth between the total reflection mirror 7 and the output coupling mirror 8 arranged in parallel, and the laser beam 3 is output coupled. Oscillates from the mirror. Here, by inserting a combination of two etalons 1 between the laser chamber 6 and the total reflection mirror 7, it becomes possible to oscillate laser light with a narrow oscillation spectrum linewidth.
第４図（ａ）、 （ｂｌに従来のエキシマレーザ装置に
挿入されたエタロンの正面図および側面図を示す。FIGS. 4A and 4B show a front view and a side view of an etalon inserted into a conventional excimer laser device.
第４図において、１はエタロン、２はエタロン１の有効
径、３はエタロン１を透過するレーザ光、９はレーザ光
３の透過部である。この図のように、レーザ光３の透過
部９はエタロン１の中心となっている。In FIG. 4, 1 is an etalon, 2 is an effective diameter of the etalon 1, 3 is a laser beam that passes through the etalon 1, and 9 is a transmitting part of the laser beam 3. As shown in this figure, the transmitting portion 9 of the laser beam 3 is the center of the etalon 1.
発明が解決しようとする課題
しかし、従来のエタロンを用いたエキシマレーザ装置に
おいては、一般に、エタロンを構成する透明基板および
膜がレーザ光により損傷を受は劣化するため、エタロン
の寿命が短いことが課題となっている。さらに、エタロ
ンは高価なため、ランニングコストカ高（つく。Problems to be Solved by the Invention However, in conventional excimer laser devices using etalons, the etalon's lifespan is generally short because the transparent substrate and film that make up the etalon are damaged and deteriorated by the laser beam. It has become a challenge. Furthermore, since etalons are expensive, running costs are high.
本発明は、以上のような課題を解決するためになされた
もので、エタロンを有効に使用するように共振器内にエ
タロンを設置したエキシマレーザ装置を提供することを
目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an excimer laser device in which an etalon is installed within a resonator so as to effectively use the etalon.
課題を解決するだめの手段
上記目的を達成するため、本発明では、エタロンの有効
径をエキシマレーザ光のビーム径に比べ大きくし、エタ
ロンを有効に使用するために、エタロンのレーザ光の透
過部で劣化が見られた時点でエタロンを回転、あるいは
平行移動してレーザ光の透過部を移動させることにより
、１個のエタロンを複数回使用することができるように
する。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, in the present invention, the effective diameter of the etalon is made larger than the beam diameter of the excimer laser beam, and in order to use the etalon effectively, the laser beam transmitting portion of the etalon is made larger than the beam diameter of the excimer laser beam. When deterioration is observed, the etalon is rotated or translated in parallel to move the laser beam transmitting portion, thereby making it possible to use one etalon multiple times.
作用
このように１個のエタロンを複数回使用することにより
、実質的にエタロンの寿命が伸び、ランニングコストを
安（することができる。また、エタロンを交換する場合
のエタロン毎の光学特性等のばらつきによるアライメン
トの煩わしさを軽減することができる。さらに、エタロ
ンの寿命予測が可能となる。Function: By using one etalon multiple times in this way, the life of the etalon can be substantially extended and running costs can be reduced.In addition, when replacing the etalon, the optical characteristics etc. of each etalon can be reduced. It is possible to reduce the troublesomeness of alignment due to variations.Furthermore, it is possible to predict the life of the etalon.
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の第１の実施例につい
て説明する。EXAMPLE A first example of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図（ａｔ、 （ｂｌは、本発明の第１の実施例にお
けるエタロンの正面図および側面図である。第１図にお
いて、１はエタロン、２はエタロン１の有効径、３はエ
タロン１を透過するレーザ光、４ａ。FIG. 1 (at, (bl) is a front view and a side view of an etalon in the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is an etalon, 2 is an effective diameter of the etalon 1, and 3 is an etalon 1 Laser light transmitted through 4a.
４ｂはレーザ光３の透過部である。以上のような構成に
おいて、以下にその動作を説明する。エタロン１は中心
を軸として回転できるようになっている。第１図（ｂｉ
のように、レーザ光３がエタロン１の中心から離れた部
分を通るように設置すると膜の劣化は第１図ｆａ）のレ
ーザ光の透過部４ａで生じる。その後エタロン１の中心
を軸として１８０度回転させることにより、レーザ光の
透過部は第１図（ａ）の４ｂの位置に移動する。以上の
説明から明らかなように本実施例によれば、１個のエタ
ロンを２回使用することができる。4b is a portion through which the laser beam 3 is transmitted. The operation of the above configuration will be explained below. The etalon 1 can rotate around its center. Figure 1 (bi
If the etalon 1 is installed so that the laser beam 3 passes through a portion away from the center of the etalon 1, as shown in FIG. Thereafter, by rotating the etalon 1 by 180 degrees about the center of the etalon 1, the laser beam transmitting part moves to the position 4b in FIG. 1(a). As is clear from the above description, according to this embodiment, one etalon can be used twice.
次に本発明の第２の実施例について説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described.
第２図（ａｌ、 （ｂ）は、本発明の第２、及び第３の
実施例におけるエタロンの正面図である。第２図（ａ）
。FIGS. 2(a) and 2(b) are front views of etalons in second and third embodiments of the present invention. FIG. 2(a)
.
において、５ａ、５ｂ、５Ｃはレーザ光の透過部であり
、その他の構成は第１図と同様である。上記構成におい
て、第２図（ａｔでは、エタロン１を上下に平行移動さ
せることによりレーザ光の透過部５ａが５ｂ、５Ｃへと
移動し、１個のエタロンを３回使用することができるよ
うになっている。また、第２図（ｂｌに示す構成におい
ては、エタロン１を回転することにより、１個のエタロ
ンを４回使用することができる。In the figure, 5a, 5b, and 5C are laser beam transmitting parts, and the other configurations are the same as in FIG. 1. In the above configuration, by vertically moving the etalon 1 in parallel in FIG. Furthermore, in the configuration shown in FIG. 2 (bl), one etalon can be used four times by rotating the etalon 1.
発明の効果
以上のように、本発明によれば、エタロンを用いたエキ
シマレーザ装置において、エタロンを有効に使用するこ
とができ、コストの安い経済的なエキシマレーザリソグ
ラフィー等に優れた効果を発揮する。また、エタロンを
交換する方法とは違い、同一のエタロンを用いて交換す
ることからエタロン毎の光学特性等のばらつきによるア
ライメントの煩わしさを軽減することができ、さらに、
エタロ／の寿命予測も可能となる。Effects of the Invention As described above, according to the present invention, an etalon can be used effectively in an excimer laser device using an etalon, and an excellent effect is exhibited in low-cost and economical excimer laser lithography. . In addition, unlike the method of replacing etalons, since the same etalon is used for replacement, it is possible to reduce the trouble of alignment due to variations in optical characteristics etc. of each etalon.
It also becomes possible to predict the lifespan of ETALO/.
第１図（ａ）、 （ｂｌは本発明の第１の実施例におけ
るエタロンの正面図および側面図、第２図（ａ）、 （
ｂ）は本発明の第２、及び第３の実施例におけるエタロ
ンの正面図、第３図は従来のエタロンを用いたエキシマ
レーザ装置の概略図、第４図（ａｌ、 （ｂｌは従来の
エキシマレーザ装置に挿入されたエタロンの正面図およ
び側面図である。
１・・・エタロン、２・・・エタロンの有効径、３・・
・レーザ光、４ａ〜４ｂ、５ａ〜５Ｃ・・・レーザ光の
透過部、６・・・レーザチャンバー、７・・・全反射鏡
、８・・・出力結合鏡、９・・・レーザ光の透過部。
代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝ほか１名第１図
第２図Figure 1(a), (bl is a front view and side view of the etalon in the first embodiment of the present invention, Figure 2(a), (bl is a front view and side view of the etalon in the first embodiment of the present invention,
b) is a front view of the etalon in the second and third embodiments of the present invention, FIG. 3 is a schematic diagram of an excimer laser device using a conventional etalon, and FIG. They are a front view and a side view of an etalon inserted into a laser device. 1... etalon, 2... effective diameter of etalon, 3...
・Laser light, 4a to 4b, 5a to 5C... Laser light transmission part, 6... Laser chamber, 7... Total reflection mirror, 8... Output coupling mirror, 9... Laser light transmission part Transparent part. Name of agent: Patent attorney Shigetaka Awano and one other person Figure 1 Figure 2
Claims (1)
動することにより、同一のエタロンを複数回利用するこ
とができるようにしたことを特徴とするエキシマレーザ
装置。An excimer laser device characterized in that the same etalon can be used multiple times by rotating or parallelly moving the etalon inserted into the resonator.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1130821A JPH02309687A (en) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | Excimer laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1130821A JPH02309687A (en) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | Excimer laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02309687A true JPH02309687A (en) | 1990-12-25 |
Family
ID=15043502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1130821A Pending JPH02309687A (en) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | Excimer laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02309687A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373474U (en) * | 1989-11-21 | 1991-07-24 |
-
1989
- 1989-05-24 JP JP1130821A patent/JPH02309687A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373474U (en) * | 1989-11-21 | 1991-07-24 |
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