JPH02309687A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH02309687A JPH02309687A JP1130821A JP13082189A JPH02309687A JP H02309687 A JPH02309687 A JP H02309687A JP 1130821 A JP1130821 A JP 1130821A JP 13082189 A JP13082189 A JP 13082189A JP H02309687 A JPH02309687 A JP H02309687A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etalon
- laser beam
- transmitting part
- excimer laser
- beam transmitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/1062—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体リソグラフィー等に用いられるエキシマ
レーザ装置に関するものである。
レーザ装置に関するものである。
従来の技術
従来、エキシマレーザ装置において、レーザ光の発振ス
ペクトル幅を所定の発振波長を中心として狭帯域化する
ため、共振器中に回折格子やエタロンを挿入設置する方
法が用いられている。特に、エタロンを用いる方法は回
折格子に比べ光量の損失が少ないことから、特に高エネ
ルギー出力を必要とする半導体リソグラフィー用光源等
として用いられるエキシマレーザ装置において有用であ
る。
ペクトル幅を所定の発振波長を中心として狭帯域化する
ため、共振器中に回折格子やエタロンを挿入設置する方
法が用いられている。特に、エタロンを用いる方法は回
折格子に比べ光量の損失が少ないことから、特に高エネ
ルギー出力を必要とする半導体リソグラフィー用光源等
として用いられるエキシマレーザ装置において有用であ
る。
例えば、特開昭６３−４５８７５号公報記載の構成が知
られている。
られている。
以下、図面を参照しながら従来例について説明する。
第３図は従来の共振器内にエタロンを挿入したエキシマ
レーザ装置の概略図である。第３図において、６はレー
ザチャンバー、７は全反射鏡、８は出力結合鏡、１は共
振器内に挿入したエタロン、３はレーザ光である。以上
のような構成において、レーザチャンバー６より発光し
た光は、平行に配置された全反射鏡７、出力結合鏡８を
往復する間にレーザチャンバー６の内部で増幅され、レ
ーザ光３を出力結合鏡から発振する。ここで、レーザチ
ャンバー６と全反射鏡７との間に２個の組合せからなる
エタロン１を挿入することにより、発振スペクトル線幅
の狭いレーザ光の発振が可能となる。
レーザ装置の概略図である。第３図において、６はレー
ザチャンバー、７は全反射鏡、８は出力結合鏡、１は共
振器内に挿入したエタロン、３はレーザ光である。以上
のような構成において、レーザチャンバー６より発光し
た光は、平行に配置された全反射鏡７、出力結合鏡８を
往復する間にレーザチャンバー６の内部で増幅され、レ
ーザ光３を出力結合鏡から発振する。ここで、レーザチ
ャンバー６と全反射鏡７との間に２個の組合せからなる
エタロン１を挿入することにより、発振スペクトル線幅
の狭いレーザ光の発振が可能となる。
第４図（ａ）、 （ｂｌに従来のエキシマレーザ装置に
挿入されたエタロンの正面図および側面図を示す。
挿入されたエタロンの正面図および側面図を示す。
第４図において、１はエタロン、２はエタロン１の有効
径、３はエタロン１を透過するレーザ光、９はレーザ光
３の透過部である。この図のように、レーザ光３の透過
部９はエタロン１の中心となっている。
径、３はエタロン１を透過するレーザ光、９はレーザ光
３の透過部である。この図のように、レーザ光３の透過
部９はエタロン１の中心となっている。
発明が解決しようとする課題
しかし、従来のエタロンを用いたエキシマレーザ装置に
おいては、一般に、エタロンを構成する透明基板および
膜がレーザ光により損傷を受は劣化するため、エタロン
の寿命が短いことが課題となっている。さらに、エタロ
ンは高価なため、ランニングコストカ高（つく。
おいては、一般に、エタロンを構成する透明基板および
膜がレーザ光により損傷を受は劣化するため、エタロン
の寿命が短いことが課題となっている。さらに、エタロ
ンは高価なため、ランニングコストカ高（つく。
本発明は、以上のような課題を解決するためになされた
もので、エタロンを有効に使用するように共振器内にエ
タロンを設置したエキシマレーザ装置を提供することを
目的とする。
もので、エタロンを有効に使用するように共振器内にエ
タロンを設置したエキシマレーザ装置を提供することを
目的とする。
課題を解決するだめの手段
上記目的を達成するため、本発明では、エタロンの有効
径をエキシマレーザ光のビーム径に比べ大きくし、エタ
ロンを有効に使用するために、エタロンのレーザ光の透
過部で劣化が見られた時点でエタロンを回転、あるいは
平行移動してレーザ光の透過部を移動させることにより
、１個のエタロンを複数回使用することができるように
する。
径をエキシマレーザ光のビーム径に比べ大きくし、エタ
ロンを有効に使用するために、エタロンのレーザ光の透
過部で劣化が見られた時点でエタロンを回転、あるいは
平行移動してレーザ光の透過部を移動させることにより
、１個のエタロンを複数回使用することができるように
する。
作用
このように１個のエタロンを複数回使用することにより
、実質的にエタロンの寿命が伸び、ランニングコストを
安（することができる。また、エタロンを交換する場合
のエタロン毎の光学特性等のばらつきによるアライメン
トの煩わしさを軽減することができる。さらに、エタロ
ンの寿命予測が可能となる。
、実質的にエタロンの寿命が伸び、ランニングコストを
安（することができる。また、エタロンを交換する場合
のエタロン毎の光学特性等のばらつきによるアライメン
トの煩わしさを軽減することができる。さらに、エタロ
ンの寿命予測が可能となる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の第１の実施例につい
て説明する。
て説明する。
第１図（ａｔ、 （ｂｌは、本発明の第１の実施例にお
けるエタロンの正面図および側面図である。第１図にお
いて、１はエタロン、２はエタロン１の有効径、３はエ
タロン１を透過するレーザ光、４ａ。
けるエタロンの正面図および側面図である。第１図にお
いて、１はエタロン、２はエタロン１の有効径、３はエ
タロン１を透過するレーザ光、４ａ。
４ｂはレーザ光３の透過部である。以上のような構成に
おいて、以下にその動作を説明する。エタロン１は中心
を軸として回転できるようになっている。第１図（ｂｉ
のように、レーザ光３がエタロン１の中心から離れた部
分を通るように設置すると膜の劣化は第１図ｆａ）のレ
ーザ光の透過部４ａで生じる。その後エタロン１の中心
を軸として１８０度回転させることにより、レーザ光の
透過部は第１図（ａ）の４ｂの位置に移動する。以上の
説明から明らかなように本実施例によれば、１個のエタ
ロンを２回使用することができる。
おいて、以下にその動作を説明する。エタロン１は中心
を軸として回転できるようになっている。第１図（ｂｉ
のように、レーザ光３がエタロン１の中心から離れた部
分を通るように設置すると膜の劣化は第１図ｆａ）のレ
ーザ光の透過部４ａで生じる。その後エタロン１の中心
を軸として１８０度回転させることにより、レーザ光の
透過部は第１図（ａ）の４ｂの位置に移動する。以上の
説明から明らかなように本実施例によれば、１個のエタ
ロンを２回使用することができる。
次に本発明の第２の実施例について説明する。
第２図（ａｌ、 （ｂ）は、本発明の第２、及び第３の
実施例におけるエタロンの正面図である。第２図（ａ）
。
実施例におけるエタロンの正面図である。第２図（ａ）
。
において、５ａ、５ｂ、５Ｃはレーザ光の透過部であり
、その他の構成は第１図と同様である。上記構成におい
て、第２図（ａｔでは、エタロン１を上下に平行移動さ
せることによりレーザ光の透過部５ａが５ｂ、５Ｃへと
移動し、１個のエタロンを３回使用することができるよ
うになっている。また、第２図（ｂｌに示す構成におい
ては、エタロン１を回転することにより、１個のエタロ
ンを４回使用することができる。
、その他の構成は第１図と同様である。上記構成におい
て、第２図（ａｔでは、エタロン１を上下に平行移動さ
せることによりレーザ光の透過部５ａが５ｂ、５Ｃへと
移動し、１個のエタロンを３回使用することができるよ
うになっている。また、第２図（ｂｌに示す構成におい
ては、エタロン１を回転することにより、１個のエタロ
ンを４回使用することができる。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、エタロンを用いたエキ
シマレーザ装置において、エタロンを有効に使用するこ
とができ、コストの安い経済的なエキシマレーザリソグ
ラフィー等に優れた効果を発揮する。また、エタロンを
交換する方法とは違い、同一のエタロンを用いて交換す
ることからエタロン毎の光学特性等のばらつきによるア
ライメントの煩わしさを軽減することができ、さらに、
エタロ／の寿命予測も可能となる。
シマレーザ装置において、エタロンを有効に使用するこ
とができ、コストの安い経済的なエキシマレーザリソグ
ラフィー等に優れた効果を発揮する。また、エタロンを
交換する方法とは違い、同一のエタロンを用いて交換す
ることからエタロン毎の光学特性等のばらつきによるア
ライメントの煩わしさを軽減することができ、さらに、
エタロ／の寿命予測も可能となる。
第１図（ａ）、 （ｂｌは本発明の第１の実施例におけ
るエタロンの正面図および側面図、第２図（ａ）、 （
ｂ）は本発明の第２、及び第３の実施例におけるエタロ
ンの正面図、第３図は従来のエタロンを用いたエキシマ
レーザ装置の概略図、第４図（ａｌ、 （ｂｌは従来の
エキシマレーザ装置に挿入されたエタロンの正面図およ
び側面図である。 １・・・エタロン、２・・・エタロンの有効径、３・・
・レーザ光、４ａ〜４ｂ、５ａ〜５Ｃ・・・レーザ光の
透過部、６・・・レーザチャンバー、７・・・全反射鏡
、８・・・出力結合鏡、９・・・レーザ光の透過部。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝ほか１名第１図 第２図
るエタロンの正面図および側面図、第２図（ａ）、 （
ｂ）は本発明の第２、及び第３の実施例におけるエタロ
ンの正面図、第３図は従来のエタロンを用いたエキシマ
レーザ装置の概略図、第４図（ａｌ、 （ｂｌは従来の
エキシマレーザ装置に挿入されたエタロンの正面図およ
び側面図である。 １・・・エタロン、２・・・エタロンの有効径、３・・
・レーザ光、４ａ〜４ｂ、５ａ〜５Ｃ・・・レーザ光の
透過部、６・・・レーザチャンバー、７・・・全反射鏡
、８・・・出力結合鏡、９・・・レーザ光の透過部。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝ほか１名第１図 第２図
Claims (1)
- 共振器内に挿入したエタロンを回転、あるいは平行移
動することにより、同一のエタロンを複数回利用するこ
とができるようにしたことを特徴とするエキシマレーザ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1130821A JPH02309687A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1130821A JPH02309687A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02309687A true JPH02309687A (ja) | 1990-12-25 |
Family
ID=15043502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1130821A Pending JPH02309687A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02309687A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373474U (ja) * | 1989-11-21 | 1991-07-24 |
-
1989
- 1989-05-24 JP JP1130821A patent/JPH02309687A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373474U (ja) * | 1989-11-21 | 1991-07-24 |
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