JPH0236155A - フッ素化生成物の処理方法 - Google Patents
フッ素化生成物の処理方法Info
- Publication number
- JPH0236155A JPH0236155A JP18370488A JP18370488A JPH0236155A JP H0236155 A JPH0236155 A JP H0236155A JP 18370488 A JP18370488 A JP 18370488A JP 18370488 A JP18370488 A JP 18370488A JP H0236155 A JPH0236155 A JP H0236155A
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- Japan
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- fluorinated product
- heating
- fluorination
- hydrogen fluoride
- perfluorotrialkylamine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、トリアルキルアミンのフッ素化により得られ
たパーフルオロトリアルキルアミンを含むフッ素化生成
物１に％定の温度で加熱処理することによって、フッ化
水素の発生ノ少すいパーフルオロトリアルキルアミンを
得る方法に関する。
たパーフルオロトリアルキルアミンを含むフッ素化生成
物１に％定の温度で加熱処理することによって、フッ化
水素の発生ノ少すいパーフルオロトリアルキルアミンを
得る方法に関する。
〔従来技術及び発明が解決しようとする課題〕トリアル
キルアミンのフッ素化により得らレタパーフルオロトリ
アルキルアミンは、化学的に安定であり、熱伝導性が高
く、不燃性であり、また無毒であるため、電子部品信頼
性テスト用媒体、ｍ子機器の直接冷却の為の媒体、気相
ハンダ付は用熱媒体等として利用されている。しかしな
がら、パーフルオロトリアルキルアミンを気相ハンダ付
は用熱媒体等として用いるためにその沸点まで加熱して
気化させろか、又は紫外線を照射すると、フッ化水素が
発生するという問題があった。加熱した場合のフッ化水
素の発生量は加熱初期に多く、その後、徐々に減少する
が、ある程度まで減少すると沸点での加熱を長時間性な
っても最早それ以上は減少しない。フッ化水素は腐食性
が高いために極わずか発生しても電子部品の損傷や装置
材質の腐食の原因となるため、フッ化水素の発生しない
パーフルオロトリアルキルアミンが求められていた。
キルアミンのフッ素化により得らレタパーフルオロトリ
アルキルアミンは、化学的に安定であり、熱伝導性が高
く、不燃性であり、また無毒であるため、電子部品信頼
性テスト用媒体、ｍ子機器の直接冷却の為の媒体、気相
ハンダ付は用熱媒体等として利用されている。しかしな
がら、パーフルオロトリアルキルアミンを気相ハンダ付
は用熱媒体等として用いるためにその沸点まで加熱して
気化させろか、又は紫外線を照射すると、フッ化水素が
発生するという問題があった。加熱した場合のフッ化水
素の発生量は加熱初期に多く、その後、徐々に減少する
が、ある程度まで減少すると沸点での加熱を長時間性な
っても最早それ以上は減少しない。フッ化水素は腐食性
が高いために極わずか発生しても電子部品の損傷や装置
材質の腐食の原因となるため、フッ化水素の発生しない
パーフルオロトリアルキルアミンが求められていた。
そこで１本発明者らは、沸点まで加熱してもフッ化水素
が発生せず、気相ハンダ付は用熱媒体等として好適に使
用し得るパーフルオロトリアルキルアミンを得ることを
目的として鋭意研究を続けてきた。その結果、トリアル
キルアミンのフッ素化で得られたフッ素化生成物を特定
の温度範囲で加熱処理することよって上記の目的を達成
し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
が発生せず、気相ハンダ付は用熱媒体等として好適に使
用し得るパーフルオロトリアルキルアミンを得ることを
目的として鋭意研究を続けてきた。その結果、トリアル
キルアミンのフッ素化で得られたフッ素化生成物を特定
の温度範囲で加熱処理することよって上記の目的を達成
し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、トリアルキルアミンのフッ素化により
得られたパーフルオロトリアルキルアミンを含むフッ素
化生成物を、次式１式％ を満足する温度に加熱することを特徴とするフッ素化生
成物の処理方法である。
得られたパーフルオロトリアルキルアミンを含むフッ素
化生成物を、次式１式％ を満足する温度に加熱することを特徴とするフッ素化生
成物の処理方法である。
本発明で使用し得るトリアルキルアミンは、公知のもの
が何ら制限なく使用し得る。一般にフッ素化によって得
られるパーフルオロトリアルキルアミンを電子機器の直
接冷却の為の媒体や気相ハンダ付は用熱媒体等として用
いる場合には沸点を適当な値とするために、トリアルキ
ルアミンの炭素数は４〜２１．さらに９〜１８であるこ
とが好ましい。本発明に於いて好適に用いられるトリア
ルキルアミンを具体的に示すと、例えは、トリプロピル
アミン、ジプロピルブチルアミン、プロピルジブチルア
ミン、トリブチルアミン、ジブチルペンチルアミン、プ
チルジペンチルアミン。
が何ら制限なく使用し得る。一般にフッ素化によって得
られるパーフルオロトリアルキルアミンを電子機器の直
接冷却の為の媒体や気相ハンダ付は用熱媒体等として用
いる場合には沸点を適当な値とするために、トリアルキ
ルアミンの炭素数は４〜２１．さらに９〜１８であるこ
とが好ましい。本発明に於いて好適に用いられるトリア
ルキルアミンを具体的に示すと、例えは、トリプロピル
アミン、ジプロピルブチルアミン、プロピルジブチルア
ミン、トリブチルアミン、ジブチルペンチルアミン、プ
チルジペンチルアミン。
ジブチルエチルアミン、トリペンチルアミン。
ジベンチルヘキシルアミン、ペンチルジヘキシルアミン
、ジペンチルメチルアミン、トリへ千ジルアミン等であ
る。
、ジペンチルメチルアミン、トリへ千ジルアミン等であ
る。
上記したトリアルキルアミンのフッ素化方法としては、
パーフル４０トリアル牛ルアミンを生成することのでき
る公知のフッ素化方法が伺ら制限なく採用することがで
きる。例えば、フッ素ガスによる直接フツ素化方法。
パーフル４０トリアル牛ルアミンを生成することのでき
る公知のフッ素化方法が伺ら制限なく採用することがで
きる。例えば、フッ素ガスによる直接フツ素化方法。
電解フツ素化方法及び高原子価金属フッ素化物によるフ
ッ素化方法、或いは、これらを適宜組合わせたフッ素化
方法等が好適に採用される。
ッ素化方法、或いは、これらを適宜組合わせたフッ素化
方法等が好適に採用される。
本発明に於いては、こうして得られたフッ素化生成物、
好ましくはさらに中和、蒸留或いは公知の方法により精
製されたフッ素化生成物が加熱の対象となる。加熱の温
度は、次式 ％式％ を満足する温度である。上記の下限温度よりも低い場合
には、フッ化水素発生の問題が解決できず、逆に高い場
合には、パーフルオロトリアルキルアミンの分解を生じ
ろために好ましくない。フッ化水素発生の低減及びパー
フルオロトリアルキルアミンの分解防止の観点から、加
熱の温度は次式 ％式％ 〔ここで、Ｔ及びＮは前記式と同様である。〕で示され
る温度範囲であることが好ましい。
好ましくはさらに中和、蒸留或いは公知の方法により精
製されたフッ素化生成物が加熱の対象となる。加熱の温
度は、次式 ％式％ を満足する温度である。上記の下限温度よりも低い場合
には、フッ化水素発生の問題が解決できず、逆に高い場
合には、パーフルオロトリアルキルアミンの分解を生じ
ろために好ましくない。フッ化水素発生の低減及びパー
フルオロトリアルキルアミンの分解防止の観点から、加
熱の温度は次式 ％式％ 〔ここで、Ｔ及びＮは前記式と同様である。〕で示され
る温度範囲であることが好ましい。
例えは、加熱処理の対象が、パーフルオロトリペンチル
アミンを含むフッ素化生成物の場合には、加熱温度は、
２４０〜４２０℃の範囲でなければならず、２７０〜３
８０℃の範囲であることが好ましい。
アミンを含むフッ素化生成物の場合には、加熱温度は、
２４０〜４２０℃の範囲でなければならず、２７０〜３
８０℃の範囲であることが好ましい。
加熱の時間は特に制限されず、通常は数秒〜数を時開の
範囲から選択される。
範囲から選択される。
加熱の方法は特に制限されず、圧力容器を用いて処理対
象のフッ素化生成物を液状態で加熱しても良く、また、
処理対象のフッ素化生成物を気化させて気体状態で加熱
しても良（・０加熱時の雰囲気は特に制限されず、Ｎ２
ガスやＡｒガスなどを用いた不活性雰囲気で加熱しても
良く、また、空気等を用いた酸化性雰囲気で加熱しても
良い。
象のフッ素化生成物を液状態で加熱しても良く、また、
処理対象のフッ素化生成物を気化させて気体状態で加熱
しても良（・０加熱時の雰囲気は特に制限されず、Ｎ２
ガスやＡｒガスなどを用いた不活性雰囲気で加熱しても
良く、また、空気等を用いた酸化性雰囲気で加熱しても
良い。
トリアルキルアミンのフッ素化により得られたパーフル
オロトリアルキルアミンを含むフッ素化生成物をそのま
ま沸点まで加熱するか又は紫外線な照射するとフッ化水
素が発生し、沸点での加熱や紫外線の照射を長時間統け
ても７ツ化水素は発生し続ける。ところが、本発明の方
法により加熱処理されたフッ素化生成物は、沸点までの
加熱や光の照射によってもほとんどフッ化水素を発生し
ない。この理由は明確ではないが、本発明者らは次のよ
うに推測している。即ち、トリアルキルアミンのフッ素
化により得られたフッ素化生成物中にはパーフルオロト
リアルキルアミンのみならず不完全フッ素化物も含まれ
ており、フッ素化生成物を沸点まで加熱すると、この不
完全フッ素化物が分解してフッ化水素が発生するが、本
発明の方法により加熱処理することにより不完全フッ素
化物のほとんどが分解し、そのためにフッ化水素の発生
が低減されろものと思われる。
オロトリアルキルアミンを含むフッ素化生成物をそのま
ま沸点まで加熱するか又は紫外線な照射するとフッ化水
素が発生し、沸点での加熱や紫外線の照射を長時間統け
ても７ツ化水素は発生し続ける。ところが、本発明の方
法により加熱処理されたフッ素化生成物は、沸点までの
加熱や光の照射によってもほとんどフッ化水素を発生し
ない。この理由は明確ではないが、本発明者らは次のよ
うに推測している。即ち、トリアルキルアミンのフッ素
化により得られたフッ素化生成物中にはパーフルオロト
リアルキルアミンのみならず不完全フッ素化物も含まれ
ており、フッ素化生成物を沸点まで加熱すると、この不
完全フッ素化物が分解してフッ化水素が発生するが、本
発明の方法により加熱処理することにより不完全フッ素
化物のほとんどが分解し、そのためにフッ化水素の発生
が低減されろものと思われる。
フッ素化生成物が、炭素数５以上のアル中ル基を分子中
に有するパーフルオロ） ＩＪアル千シルアミン含む場
合、沸点での加熱により毒性化合物であるパーフルオロ
インブテンな発生するが、本発明の方法で加熱処理を行
なうことにより、その発生を完全に防止することができ
る。
に有するパーフルオロ） ＩＪアル千シルアミン含む場
合、沸点での加熱により毒性化合物であるパーフルオロ
インブテンな発生するが、本発明の方法で加熱処理を行
なうことにより、その発生を完全に防止することができ
る。
本発明の方法により処理されたフッ素化生成物は、７ツ
化水素の発生がほとんどないため、気相ハンダ材用熱媒
体等として好適に使用し得る他、電子部品の試験用媒体
や電子機器の絶縁冷却剤等としても使用することができ
る。
化水素の発生がほとんどないため、気相ハンダ材用熱媒
体等として好適に使用し得る他、電子部品の試験用媒体
や電子機器の絶縁冷却剤等としても使用することができ
る。
本発明をさらに具体的に説明するために以下実施例及び
比較例を掲げるが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
比較例を掲げるが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
実施例１
無水７フ化水素酸とトリペンチルアミンを原料とし、後
者の濃度をＩＯ重量％として、ニッケル製電解槽（電極
面積１０ｄイ、電流２０Ａ、容量３．５１りを用いて電
解フッ素化を開始した。無水フッ化水素酸とトリペンチ
ルアミンを連続的に供給しながら、生・成するフッ素化
物を電解槽の下部より間欠的に抜きたした。これを４０
重１％のカセイソーダ水溶液とジイソブチルアミンの等
容量混合物中で１２０時間還流して脱フツ化水素し、水
洗後蒸留を行なうことにより、パーフルオロトリペンチ
ルアミンを主体とするフッ素化生成物を得た。
者の濃度をＩＯ重量％として、ニッケル製電解槽（電極
面積１０ｄイ、電流２０Ａ、容量３．５１りを用いて電
解フッ素化を開始した。無水フッ化水素酸とトリペンチ
ルアミンを連続的に供給しながら、生・成するフッ素化
物を電解槽の下部より間欠的に抜きたした。これを４０
重１％のカセイソーダ水溶液とジイソブチルアミンの等
容量混合物中で１２０時間還流して脱フツ化水素し、水
洗後蒸留を行なうことにより、パーフルオロトリペンチ
ルアミンを主体とするフッ素化生成物を得た。
得られたフッ素化生成物２００．９を４００紅容置のＳ
ＵＳ製オートクレーブに入れ、窒素ガスにより不活性雰
囲気としたのち、表１に示す条件で加熱処理した。なお
、３００℃で加熱処理した時、容器内部の圧力は４５製
となった。
ＵＳ製オートクレーブに入れ、窒素ガスにより不活性雰
囲気としたのち、表１に示す条件で加熱処理した。なお
、３００℃で加熱処理した時、容器内部の圧力は４５製
となった。
加熱処理したフッ素化生成物１００Ｆを、還流器を上部
に配した２００ｍのナス型フラスコにいれて液を加熱し
、５時間大気圧下で？Ｓ臆させた。液温度は２１５℃で
あった。この間、８０ ｌＬｔ／ ｍ流量の窒素ガスを
液に吹き込み、発生するフッ化水素を１５０−の０．０
１ｍｏ１／ｌ水酸化カリウム水溶液に吸収させた。
に配した２００ｍのナス型フラスコにいれて液を加熱し
、５時間大気圧下で？Ｓ臆させた。液温度は２１５℃で
あった。この間、８０ ｌＬｔ／ ｍ流量の窒素ガスを
液に吹き込み、発生するフッ化水素を１５０−の０．０
１ｍｏ１／ｌ水酸化カリウム水溶液に吸収させた。
この水酸化カリウム水溶液に含まれるフッ素イオン濃度
をイオンクロマトアナライザー（横河北辰電機製、モデ
ルＩＣ１００）で測定することにより７ツ化水素発生量
を求め、フッ素化生成物単位重量当りのフッ化水素発生
量（ｍｇ−（ＨＦ） ／ゆ−（フッ素化生成物）〕に換
算した。結果を表１に記した。なお、この値を沸騰時７
ツ化水素発生量と呼ぶことにする。
をイオンクロマトアナライザー（横河北辰電機製、モデ
ルＩＣ１００）で測定することにより７ツ化水素発生量
を求め、フッ素化生成物単位重量当りのフッ化水素発生
量（ｍｇ−（ＨＦ） ／ゆ−（フッ素化生成物）〕に換
算した。結果を表１に記した。なお、この値を沸騰時７
ツ化水素発生量と呼ぶことにする。
表１には比較のために本発明の温度範囲外で加熱した場
合の結果も併せて記した。なお、比較例／Ｗｈ２〜鳥４
は大気圧下の沸点（２１５℃）で加熱処理したものであ
る。また、比較例ノに５は加熱処理することなく、沸騰
時フッ化水素発生量を求めた結果である。
合の結果も併せて記した。なお、比較例／Ｗｈ２〜鳥４
は大気圧下の沸点（２１５℃）で加熱処理したものであ
る。また、比較例ノに５は加熱処理することなく、沸騰
時フッ化水素発生量を求めた結果である。
また、表１の実施例Ａ３及び、比較例ム５における沸騰
時７ツ化水素発生量の測定において、測定開始３時間後
の窒素ガス中に含まれるパーフルオロインブテンの濃度
を電子捕獲型検出器付きガスクロマトグラフ（柳本創作
所、Ｇ−２８００ＥＮ）にて測定したところ、実施例／
Ｉ＆３の場合には検出限界＠ （ｏ、ｏｏｘ卿）以下で
あり、比較例ノに５の場合には０９０５騨であった。
時７ツ化水素発生量の測定において、測定開始３時間後
の窒素ガス中に含まれるパーフルオロインブテンの濃度
を電子捕獲型検出器付きガスクロマトグラフ（柳本創作
所、Ｇ−２８００ＥＮ）にて測定したところ、実施例／
Ｉ＆３の場合には検出限界＠ （ｏ、ｏｏｘ卿）以下で
あり、比較例ノに５の場合には０９０５騨であった。
さらに、表１の実施例Ａ３の加熱処理条件で得たフッ素
化生成物６ｇと加熱処理前のフッ素化生成物６Ｉを各々
１ｃｍ角の透明石英セルに入れ、紫外線照射器（ウシオ
電機製［ＪＳＨ−２５０Ｄ、２０万ＬＸ）を用いて二つ
同時に紫外線を照射した。２４時間後に各々の石英セル
を観察したところ、加熱処理したフッ素化生成物を入れ
た石英セルは何等の変化も認められなかったのに対し、
加熱処理前のフッ素化生成物を入れた石英セルは７ツ化
水素の発生により白濁した。
化生成物６ｇと加熱処理前のフッ素化生成物６Ｉを各々
１ｃｍ角の透明石英セルに入れ、紫外線照射器（ウシオ
電機製［ＪＳＨ−２５０Ｄ、２０万ＬＸ）を用いて二つ
同時に紫外線を照射した。２４時間後に各々の石英セル
を観察したところ、加熱処理したフッ素化生成物を入れ
た石英セルは何等の変化も認められなかったのに対し、
加熱処理前のフッ素化生成物を入れた石英セルは７ツ化
水素の発生により白濁した。
実施例２
反応原料としてトリブチルアミンを用いたほかは実施例
１と同様にして電解フッ素化、及び、後処理を行ないパ
ーフルオロトリブチルアミンを主体とするフッ素化生成
物を得た。
１と同様にして電解フッ素化、及び、後処理を行ないパ
ーフルオロトリブチルアミンを主体とするフッ素化生成
物を得た。
これを実施例１と同様な装置で２７０℃にて７時間加熱
処理したところ、回収率は９＆６％、沸騰時７ツ化水素
発生量は０．１ｍｇ−（ＨＦ）／ｋｇ−（７ツ素化生成
物）以下であった。
処理したところ、回収率は９＆６％、沸騰時７ツ化水素
発生量は０．１ｍｇ−（ＨＦ）／ｋｇ−（７ツ素化生成
物）以下であった。
実施例３
反応原料としてトリヘキシルアミンを用いたほかは実施
例１と同様にして電解フッ素化、及び、後処理を行ない
パーフルオロトリヘキシルアミンを主体とするフッ素化
生成物を得た。これを空気を用いた雰囲気下で３３０℃
にて７時間加熱処理したところ、回収率は９＆７％、沸
騰時フッ化水素発生量は０．１１１９− （ＨＦ）／ゆ
−（フッ素化生成物）であった。
例１と同様にして電解フッ素化、及び、後処理を行ない
パーフルオロトリヘキシルアミンを主体とするフッ素化
生成物を得た。これを空気を用いた雰囲気下で３３０℃
にて７時間加熱処理したところ、回収率は９＆７％、沸
騰時フッ化水素発生量は０．１１１９− （ＨＦ）／ゆ
−（フッ素化生成物）であった。
Claims (1)
- （１）トリアルキルアミンのフッ素化により得られたパ
ーフルオロトリアルキルアミンを含むフッ素化生成物を
、次式 １４Ｎ＋３０≦Ｔ≦４２０ ［ここで、Ｔ＝温度（℃） Ｎ＝トリアルキルアミンの全炭素数］ を満足する温度に加熱することを特徴とするフッ素化生
成物の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18370488A JPH078840B2 (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | フッ素化生成物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18370488A JPH078840B2 (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | フッ素化生成物の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0236155A true JPH0236155A (ja) | 1990-02-06 |
| JPH078840B2 JPH078840B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=16140494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18370488A Expired - Fee Related JPH078840B2 (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | フッ素化生成物の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH078840B2 (ja) |
-
1988
- 1988-07-25 JP JP18370488A patent/JPH078840B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH078840B2 (ja) | 1995-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |