JPH0238554A - 連続ドライプレーティング設備における予備加熱装置 - Google Patents
連続ドライプレーティング設備における予備加熱装置Info
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- JPH0238554A JPH0238554A JP18837288A JP18837288A JPH0238554A JP H0238554 A JPH0238554 A JP H0238554A JP 18837288 A JP18837288 A JP 18837288A JP 18837288 A JP18837288 A JP 18837288A JP H0238554 A JPH0238554 A JP H0238554A
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- Japan
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- steel sheet
- heating
- dry plating
- preheating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、長尺薄板用の連続ドライプレーティング設
備の前処理設備としての予備加熱装置に関し、とくに予
備加熱手段の配列に工夫を加えることによって板形状変
化がなく、しかも密着性に優れたコーティング被膜の形
成を可能ならしめようとするものである。
備の前処理設備としての予備加熱装置に関し、とくに予
備加熱手段の配列に工夫を加えることによって板形状変
化がなく、しかも密着性に優れたコーティング被膜の形
成を可能ならしめようとするものである。
（従来の技術）
近年、プラズマを利用したコーティング技術が著しく進
歩し、各方面でその利用が広まりつつある。かかるコー
ティング技術を利用したものとしては、たとえば磁気記
録薄膜や各種耐摩耗性、耐食性コーティング、さらには
装飾用コーティングなどが挙げられる。
歩し、各方面でその利用が広まりつつある。かかるコー
ティング技術を利用したものとしては、たとえば磁気記
録薄膜や各種耐摩耗性、耐食性コーティング、さらには
装飾用コーティングなどが挙げられる。
通常、プラズマを利用すると、金属および半金属等の蒸
発物質をイオン化又は活性化し、かつ高い運動エネルギ
ーを付与することができるため、蒸着被膜と基板との密
着性が高くしかも膜質が良好なものが得られる。
発物質をイオン化又は活性化し、かつ高い運動エネルギ
ーを付与することができるため、蒸着被膜と基板との密
着性が高くしかも膜質が良好なものが得られる。
プラズマ・コーティング法としてはマグネトロンスパッ
タ法、イオンブレーティング法およびプラズマＣＶＤ法
などがあり、最近では真空アークを利用したマルティ・
アーク法やホロー・カーソド（Ｈｏｌｌｏｗ Ｃａｔｈ
ｏｄｅ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ、 ＨＣＤ）法などが開発
されている。
タ法、イオンブレーティング法およびプラズマＣＶＤ法
などがあり、最近では真空アークを利用したマルティ・
アーク法やホロー・カーソド（Ｈｏｌｌｏｗ Ｃａｔｈ
ｏｄｅ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ、 ＨＣＤ）法などが開発
されている。
（発明が解決しようとする課題）
この発明は、上記のようなドライプレーティング法によ
って、大表面積を有する長尺薄板を連続Ａｉｒ −ｔｏ
−Ａｉｒ方式で処理する場合に、従来まだ充分な検討
が行なわれていなかったコーティング前の予備加熱につ
いての研究成果を開示するものである。
って、大表面積を有する長尺薄板を連続Ａｉｒ −ｔｏ
−Ａｉｒ方式で処理する場合に、従来まだ充分な検討
が行なわれていなかったコーティング前の予備加熱につ
いての研究成果を開示するものである。
すなわち従来、連続Ａｉｒ −ｔｏ −Ａｉｒ方式のド
ライプレーティング設備では、コーティング前の予備加
熱処理としてサブストレート表面上にエレクトロンビー
ム（ＥＢ）による加熱処理が施されていたが、大表面積
を有する長尺薄板の表面上にＥＢ加熱処理を施した場合
、薄板表面の局部における急激な温度上昇に伴って薄板
の変形たとえば腹のびや耳のびを生じていた。
ライプレーティング設備では、コーティング前の予備加
熱処理としてサブストレート表面上にエレクトロンビー
ム（ＥＢ）による加熱処理が施されていたが、大表面積
を有する長尺薄板の表面上にＥＢ加熱処理を施した場合
、薄板表面の局部における急激な温度上昇に伴って薄板
の変形たとえば腹のびや耳のびを生じていた。
上記のような形状不良の発生は、たとえば磁気特性が評
価対象となる一方向性けい素鋼板のコーティング処理に
とって極めて有害で、磁束密度の劣化を招くなどその悪
影響は著しい。従って、コーティング処理に至る前に、
その解決を図ることが、とくに表面積が大きい薄鋼板に
とって重要である。
価対象となる一方向性けい素鋼板のコーティング処理に
とって極めて有害で、磁束密度の劣化を招くなどその悪
影響は著しい。従って、コーティング処理に至る前に、
その解決を図ることが、とくに表面積が大きい薄鋼板に
とって重要である。
（課題を解決するための手段）
さて発明者らは、連続Ａｉｒ −ｔｏ −Ａｉｒ方式の
ドライプレーティングにおいて、コーティング被膜の密
着性向上の観点からは少なくともＥＢ加熱装置が不可欠
との基本認識に立脚して、予備加熱装置につき種々の検
討を加えた。
ドライプレーティングにおいて、コーティング被膜の密
着性向上の観点からは少なくともＥＢ加熱装置が不可欠
との基本認識に立脚して、予備加熱装置につき種々の検
討を加えた。
その結果、ＥＢ加熱装置の前後にホットローラーを配し
、鋼板を徐々に加熱することにより、薄板の加熱時にお
ける変形が効果的に防止されることの知見を得た。
、鋼板を徐々に加熱することにより、薄板の加熱時にお
ける変形が効果的に防止されることの知見を得た。
この発明は、上記の知見に立脚するものである。
すなわちこの発明は、長尺の薄板に連続してドライプレ
ーティングを施す連続ドライプレーティング装置の入側
差圧室と最初のコーティング室との間に配置される薄帯
の予備加熱装置であって、少なくとも１基のエレクトロ
ンビーム加熱装置とこのエレクトロンビーム装置を挟ん
でその前後に配設されたホットローラーからなる連続ド
ライプレーティング設備における予備加熱装置である。
ーティングを施す連続ドライプレーティング装置の入側
差圧室と最初のコーティング室との間に配置される薄帯
の予備加熱装置であって、少なくとも１基のエレクトロ
ンビーム加熱装置とこのエレクトロンビーム装置を挟ん
でその前後に配設されたホットローラーからなる連続ド
ライプレーティング設備における予備加熱装置である。
以下この発明を具体的に説明する。
第１図に、この発明に従う予備加熱装置の好適例を組み
込んだ連続ドライプレーティング設備の要部を模式図で
示す。図中記号Ａ、Ｂ、Ｃでそれぞれ、入側差圧室、予
備加熱装置およびコーティング装置を示し、Ｓは鋼板、
Ｇはガイドロール、ａ−１〜ａ−７は真空差圧用シール
ロールである。このシールロールは鋼板Ｓのガイドロー
ルも兼ねていて、同図に示したように鋼板Ｓを内部に導
きつつ順次に真空度を上げる（＾ｉｒ −ｔｏ −Ａｉ
ｒ方式）ことによってｌｏ−４〜１０−’Ｔｏｒｒ程度
の高真空を実現することができる。
込んだ連続ドライプレーティング設備の要部を模式図で
示す。図中記号Ａ、Ｂ、Ｃでそれぞれ、入側差圧室、予
備加熱装置およびコーティング装置を示し、Ｓは鋼板、
Ｇはガイドロール、ａ−１〜ａ−７は真空差圧用シール
ロールである。このシールロールは鋼板Ｓのガイドロー
ルも兼ねていて、同図に示したように鋼板Ｓを内部に導
きつつ順次に真空度を上げる（＾ｉｒ −ｔｏ −Ａｉ
ｒ方式）ことによってｌｏ−４〜１０−’Ｔｏｒｒ程度
の高真空を実現することができる。
そしてｂ−１およびｂ−４がホットローラーであって、
これらのホットローラーｂ−１，ｂ−４は、この例で２
基配置された鋼板の上面および下面加熱用のＥＢ加熱装
置ｂ−２，ｂ−３を挟んでその前後に配設され、かかる
ｂ−１〜ｂ−４で加熱装置を構成する。
これらのホットローラーｂ−１，ｂ−４は、この例で２
基配置された鋼板の上面および下面加熱用のＥＢ加熱装
置ｂ−２，ｂ−３を挟んでその前後に配設され、かかる
ｂ−１〜ｂ−４で加熱装置を構成する。
なおｃ−１は集束コイル、ｃ−２はるつぼ、ｃ−３は棒
状の蒸発物質、ｃ−４はＬ字型のＨＣＤガンである。
状の蒸発物質、ｃ−４はＬ字型のＨＣＤガンである。
この発明の予備加熱装置では、まず前段のホットローラ
ーｂ−１で鋼板を１００〜２００°Ｃ程度まで加熱する
。ついでＥＢ装置を用いて、鋼板表面上にビームを照射
、走査させることによって鋼板の温度を２００〜８００
°Ｃ程度まで上げると共に鋼板の表面を清浄にして、後
続のコーティング工程における鋼板と蒸着膜との密着性
の向上を図る。
ーｂ−１で鋼板を１００〜２００°Ｃ程度まで加熱する
。ついでＥＢ装置を用いて、鋼板表面上にビームを照射
、走査させることによって鋼板の温度を２００〜８００
°Ｃ程度まで上げると共に鋼板の表面を清浄にして、後
続のコーティング工程における鋼板と蒸着膜との密着性
の向上を図る。
そして後段のホットローラーｂ−４では、コーティング
処理温度まで、板変形を伴わずに加熱する必要があり、
そのためには温度むらが小さく、高精度で温度分布制御
が可能なホットローラーを使用することが好ましい。
処理温度まで、板変形を伴わずに加熱する必要があり、
そのためには温度むらが小さく、高精度で温度分布制御
が可能なホットローラーを使用することが好ましい。
第２図に、かかるホットローラーの好適例を断面で示す
。図中１．１０．１１はロール軸、２．３６．７はロー
ル胴端面、４，５はロール胴部、８１６はロール内の大
気、９はロール内加熱用ヒータで、これは両端部と中央
部との分離制御が可能なしくみになっている。１２．１
３．１４は摺動リング、１５はパイプである。上記のホ
ットローラーにおいては、ヒータ９を両端部と中央部と
に３分割しそぞれ個別に制御することが、鋼板の板幅方
向にわたる均一加熱を施す上で極めて有利である。
。図中１．１０．１１はロール軸、２．３６．７はロー
ル胴端面、４，５はロール胴部、８１６はロール内の大
気、９はロール内加熱用ヒータで、これは両端部と中央
部との分離制御が可能なしくみになっている。１２．１
３．１４は摺動リング、１５はパイプである。上記のホ
ットローラーにおいては、ヒータ９を両端部と中央部と
に３分割しそぞれ個別に制御することが、鋼板の板幅方
向にわたる均一加熱を施す上で極めて有利である。
（作 用）
この発明の予備加熱装置は、ＥＢ加熱装置を含めその前
後に配設したホットローラーで鋼板を徐々に加熱するこ
とによって、板変形を回避したところに大きな特徴があ
るが、その他ＥＢ加熱によって鋼板表面を清浄化し、鋼
板とコーティング被膜との密着性の向上を図り得るとい
う利点もある。
後に配設したホットローラーで鋼板を徐々に加熱するこ
とによって、板変形を回避したところに大きな特徴があ
るが、その他ＥＢ加熱によって鋼板表面を清浄化し、鋼
板とコーティング被膜との密着性の向上を図り得るとい
う利点もある。
（実施例）
実施例Ｉ
Ｃ： ０．０４３％、Ｍｎ ： ０．３３％、Ｓ ：
０．０１２％およびＰ ： ０．００８％を含有する低
炭素冷延鋼板（板厚：０．３ｍｍ）の表面を脱脂後、前
掲第１図に示したＡｉｒ −ｔｏ −Ａｉｒ方式の連続
ドライプレーティング設備を用い、下記の条件下に予備
加熱を行ったのちＨＣＤ法（コーティング室の真空度；
３×１Ｏ−５Ｔｏｒｒ）によってＣｒＮを０．８ μｍ
厚にコーティングした。
０．０１２％およびＰ ： ０．００８％を含有する低
炭素冷延鋼板（板厚：０．３ｍｍ）の表面を脱脂後、前
掲第１図に示したＡｉｒ −ｔｏ −Ａｉｒ方式の連続
ドライプレーティング設備を用い、下記の条件下に予備
加熱を行ったのちＨＣＤ法（コーティング室の真空度；
３×１Ｏ−５Ｔｏｒｒ）によってＣｒＮを０．８ μｍ
厚にコーティングした。
・前段ホントローラーによる加熱温度；１５０°Ｃ・上
面加熱用ＥＢによる加熱温度：３００°Ｃ・下面加熱用
ＥＢによる加熱温度：４５０°Ｃ・ｉｌｔ段ホットロー
ラーによる加熱温度：４６０°Ｃ上記のコーティング処
理において、板変形は全くなく、また密着性についても
１８０°曲げを３回行ってもはく離が生ぜず、極めて良
好であった。
面加熱用ＥＢによる加熱温度：３００°Ｃ・下面加熱用
ＥＢによる加熱温度：４５０°Ｃ・ｉｌｔ段ホットロー
ラーによる加熱温度：４６０°Ｃ上記のコーティング処
理において、板変形は全くなく、また密着性についても
１８０°曲げを３回行ってもはく離が生ぜず、極めて良
好であった。
実施例２
Ｃ： ０．０４８％、Ｓｉ ： ３．３９％、Ｍｎ ：
０．０７２％、八ｌ ： ０．０２６％、 Ｓ
： ０．０２２％、 Ｎ ： ０．００６５
％、Ｓｎ ： ０．０５％およびＣｕ ： ０．１％
を含有するけい素鋼用熱延板（板厚：２０ｍｍ）に、１
１００’Ｃ１３分間の中間焼鈍を挾んで２回の冷間圧延
を施して０．２０ｍｍ厚の最終板厚とした。ついで８４
０°Ｃの湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼鈍を施し
たのち、８５０°Ｃから１１５０°Ｃまで８°Ｃ／ｈの
昇温速度で昇温しでゴス方位の２次再結晶粒を発達させ
、引続き１２３０°Ｃで８時間の純化焼鈍を施した。
０．０７２％、八ｌ ： ０．０２６％、 Ｓ
： ０．０２２％、 Ｎ ： ０．００６５
％、Ｓｎ ： ０．０５％およびＣｕ ： ０．１％
を含有するけい素鋼用熱延板（板厚：２０ｍｍ）に、１
１００’Ｃ１３分間の中間焼鈍を挾んで２回の冷間圧延
を施して０．２０ｍｍ厚の最終板厚とした。ついで８４
０°Ｃの湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼鈍を施し
たのち、８５０°Ｃから１１５０°Ｃまで８°Ｃ／ｈの
昇温速度で昇温しでゴス方位の２次再結晶粒を発達させ
、引続き１２３０°Ｃで８時間の純化焼鈍を施した。
その後、鋼板表面の酸化物を酸洗によって除去したのち
、電解研磨により中心線平均粗さＲａで０．０６μ「の
鏡面状態に仕上げた。
、電解研磨により中心線平均粗さＲａで０．０６μ「の
鏡面状態に仕上げた。
ついで前掲第１図に示したＡｉｒ −ｔｏ −Ａｉｒ方
式の連続ドライプレーティング設備を用いて、約１．２
μｍ厚のＴｉＮ張力被膜を被成した。
式の連続ドライプレーティング設備を用いて、約１．２
μｍ厚のＴｉＮ張力被膜を被成した。
このときの予備加熱は、前段ホットローラーで１００°
Ｃまで昇温し、ついで上面加熱用ＥＢで２５０°Ｃまで
、下面加熱用ＥＢで４００°Ｃまで昇温したのち、後段
ホットローラーで４２０°Ｃまで昇温する条件で行った
。なお鋼板両端部と中央部の温度差は５°Ｃ以内で、こ
のときには板の変形は全（なかった。
Ｃまで昇温し、ついで上面加熱用ＥＢで２５０°Ｃまで
、下面加熱用ＥＢで４００°Ｃまで昇温したのち、後段
ホットローラーで４２０°Ｃまで昇温する条件で行った
。なお鋼板両端部と中央部の温度差は５°Ｃ以内で、こ
のときには板の変形は全（なかった。
上記のようにして得られた方向性けい素鋼板の磁気特性
および密着性は次のとおりであった。
および密着性は次のとおりであった。
・磁気特性−一−−−−−Ｂ＋ｏ ： １．９４Ｔ、
Ｗ＋７ｚｓｏ ： ０．６４Ｗ／ｋｇ・密着性 −−−
−２０ｍｍφで１８０°曲げを行っても被膜はく離は全
くなかった。
Ｗ＋７ｚｓｏ ： ０．６４Ｗ／ｋｇ・密着性 −−−
−２０ｍｍφで１８０°曲げを行っても被膜はく離は全
くなかった。
（発明の効果）
かくしてこの発明によれば、長尺薄板の連続ドライプレ
ーティングの際に該薄板を予備加熱するに当り、板形状
を損うことなしに効果的に薄板を予備加熱することがで
き、しかも板表面を清浄化して鋼板とコーティング被膜
との密着性の向上も併せて達成できる。
ーティングの際に該薄板を予備加熱するに当り、板形状
を損うことなしに効果的に薄板を予備加熱することがで
き、しかも板表面を清浄化して鋼板とコーティング被膜
との密着性の向上も併せて達成できる。
第１図は、この発明に従う予備加熱装置を組み込んだ連
続ドライプレーティング設備の模式図、第２図は、ホッ
トローラーの断面図である。 Ｓ・・・鋼板 Ｇ・・・ガイドロールａ−
１〜ａ−７・・・真空差圧用シールロールｂ−１、ｂ−
４・・・ホットローラー ｂ−２、ｂ−３・・・上面および下面加熱用のＥＢ加熱
装置ｃ−１・・・集束コイル ｃ−２・・・るつぼ
ｃ−３・・・蒸発物質 ｃ−４・・・ＨＣＤガン
１１０．１１・・・ロール軸 ２．３，６．７・・・ロール胴端面 ４．５．・・・ロール胴部 ８１６・・・ロール内の大気 ９・・・加熱用ヒータ １２．１３．１４・・・摺
動リング１５・・・パイプ
続ドライプレーティング設備の模式図、第２図は、ホッ
トローラーの断面図である。 Ｓ・・・鋼板 Ｇ・・・ガイドロールａ−
１〜ａ−７・・・真空差圧用シールロールｂ−１、ｂ−
４・・・ホットローラー ｂ−２、ｂ−３・・・上面および下面加熱用のＥＢ加熱
装置ｃ−１・・・集束コイル ｃ−２・・・るつぼ
ｃ−３・・・蒸発物質 ｃ−４・・・ＨＣＤガン
１１０．１１・・・ロール軸 ２．３，６．７・・・ロール胴端面 ４．５．・・・ロール胴部 ８１６・・・ロール内の大気 ９・・・加熱用ヒータ １２．１３．１４・・・摺
動リング１５・・・パイプ
Claims (1)
- １、長尺の薄板に連続してドライプレーティングを施す
連続ドライプレーティング装置の入側差圧室と最初のコ
ーティング室との間に配置される薄帯の予備加熱装置で
あって、少なくとも１基のエレクトロンビーム加熱装置
とこのエレクトロンビーム装置を挟んでその前後に配設
されたホットローラーからなることを特徴とする連続ド
ライプレーティング設備における予備加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18837288A JPH0647717B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 連続ドライプレーティング設備における予備加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18837288A JPH0647717B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 連続ドライプレーティング設備における予備加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0238554A true JPH0238554A (ja) | 1990-02-07 |
| JPH0647717B2 JPH0647717B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=16222465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18837288A Expired - Lifetime JPH0647717B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 連続ドライプレーティング設備における予備加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0647717B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104114743A (zh) * | 2012-02-13 | 2014-10-22 | Fhr设备制造有限公司 | 真空镀膜装置中用于接收和引导带状基材的处理辊 |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP18837288A patent/JPH0647717B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104114743A (zh) * | 2012-02-13 | 2014-10-22 | Fhr设备制造有限公司 | 真空镀膜装置中用于接收和引导带状基材的处理辊 |
| US20150122179A1 (en) * | 2012-02-13 | 2015-05-07 | Fhr Anlagenbau Gmbh | Process roller for receiving and guiding substrates in strip form in vacuum coating installations |
| US9637817B2 (en) * | 2012-02-13 | 2017-05-02 | Fhr Anlagenbau Gmbh | Process roller for receiving and guiding substrates in strip form in vacuum coating installations |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0647717B2 (ja) | 1994-06-22 |
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