JPH0238A - Silver halide photographic sensitive material having high contrast - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material having high contrast

Info

Publication number
JPH0238A
JPH0238A JP357288A JP357288A JPH0238A JP H0238 A JPH0238 A JP H0238A JP 357288 A JP357288 A JP 357288A JP 357288 A JP357288 A JP 357288A JP H0238 A JPH0238 A JP H0238A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silver halide
formula
formulas
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP357288A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Fukawa
淳一 府川
Takeshi Haniyu
武 羽生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP357288A priority Critical patent/JPH0238A/en
Publication of JPH0238A publication Critical patent/JPH0238A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/061Hydrazine compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title material having a high contrast and a less tendency for generating a dye stain, even at the time of rapidly developing it by incorporating a specified compd. in a silver halide emulsion layer and an another specified compd. in a hydrophilic colloid layer, respectively. CONSTITUTION:The compd. shown by formula IV is incorporated in the silver halide emulsion layer, and at least one kind of the compds. shown by formulas I, II and III is incorporated in the hydrophilic colloid layer. In formula I, R1 and R2 are each aryl group, R is an org. binding group. In formula II, R21 is an aliphatic group, R22 is hydrogen atom, P1 and P2 are each hydrogen atom. In formula III, Ar is an antidispersible group, R31 is a substd. alkyl group. In formula IV, Z is a nonmetallic atom group, R<41> and R<42> are each alkyl group, R<43> and R<44> are each hydrogen atom. The photosensitive material having the high contrast and the less tendency for generating the dye stain after processing it even at the time of rapidly developing the material with a developer having a high sulfite acid ion concn. is obtd. by applying the emulsion layer and the colloid layer as mentioned above on a supporting body.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は分光増感され、全整色に感度をもつ)\ロゲン
化銀写真感光材料に関するものであり、特に緑色光およ
び赤色光感度が高くコントラストの高い網点画像を比較
的迅速現像においても得られ、且つ処理後に色素汚染の
極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料に関するもので
ある。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field 1] The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material that is spectrally sensitized and has sensitivity to all colors, and in particular has green light and red light sensitivity. The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material which can obtain a high-contrast halftone image even in relatively rapid development and which has extremely little dye staining after processing.

[従来の技術] ハロゲン化銀感光材料を用いて、きわめてコントラスト
の高い写真画像を形成することができることは公知であ
る。例えば、ハロゲン化銀粒子の平均粒径が約0.5μ
m以下の微粒子で、粒度分布が狭く、且つ粒子の形が揃
っており、塩化銀の含有率が例えば50モル%以上とい
うように高い塩臭化銀または塩沃化銀乳剤よりなるハロ
ゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオン濃度の低い、現像主
薬としてハイドロキノンのみを含有するアルカリ性現像
液で処理することによりコントラストの高い網点画像あ
るいは線画を得る方法が知られている。
[Prior Art] It is known that photographic images with extremely high contrast can be formed using silver halide photosensitive materials. For example, the average grain size of silver halide grains is about 0.5μ
Silver halide consisting of a silver chlorobromide or silver chloroiodide emulsion with fine grains of m or less, narrow particle size distribution, uniform grain shape, and high silver chloride content, for example, 50 mol% or more. A method is known in which a high-contrast halftone dot image or line image is obtained by processing a photosensitive material with an alkaline developer containing only hydroquinone as a developing agent and having a low concentration of sulfite ions.

この種のハロゲン化銀感光材料は、リス型ハロゲン化銀
写真感光材料として知られており、通常写真製版過程で
、原稿の連続階調の濃度変化を、この濃度に比例する大
小の面積を有する網点の集合に変換するのに用いられて
いる。このような変換は、リスをハロゲン化銀写真感光
材料を用い、交叉線スクリーンまたはコンタクトスクリ
ーンを介して原稿の撮影を行い、次いで亜硫酸イオン濃
度が非常に低く、シかもハイドロキノン現像主薬のみを
含有するいわゆるリス型現像液で現像することによって
網点画像を形成させている。このリス型ハロゲン化銀写
真感光材料は、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液、
例えば市販の印画紙用現像液で処理しても、ガンマはた
かだか5ないし6であり、網点形成上、最も避けなけれ
ばならないフリンジも多発するので、網点ネガ/ポジ用
には、上記リスを現像液との組み合わせが不可欠である
とされている。このリスを現像液については、ジエーー
工−・シイ−・エールのジャーナル・オプ・ザ・フラン
クリン・インステイテユート(J、A。
This type of silver halide light-sensitive material is known as a lithium-type silver halide photographic light-sensitive material, and has an area of a size proportional to the continuous tone density change of the original during the photolithography process. It is used to convert to a set of halftone dots. Such conversion involves photographing the original through a cross-line screen or contact screen using a silver halide photographic light-sensitive material, which then has a very low concentration of sulfite ions and contains only a hydroquinone developing agent. A halftone image is formed by developing with a so-called Lith type developer. This lithium-type silver halide photographic light-sensitive material is produced using a conventional developer with a high concentration of sulfite ions.
For example, even if processed with a commercially available developing solution for photographic paper, the gamma is only 5 or 6, and fringes, which must be avoided in halftone dot formation, occur frequently. It is said that the combination with a developer is essential. Regarding this developer, please refer to the Journal of the Franklin Institute (J, A.

CYule : J、 Franklin In5tr
 tuts)、第239巻、第221頁(1945)に
詳細に記載されており、実質的には、ハイドロキノンの
みを現像主薬として含み、現像主薬の酸化防止剤として
の役目を果たす亜硫酸イオン濃度が低い現像液である。
CYule: J, Franklin In5tr
tuts), Vol. 239, p. 221 (1945), and contains essentially only hydroquinone as a developing agent, and has a low concentration of sulfite ions, which act as an antioxidant for the developing agent. It is a developer.

このような現像液は、その保恒性が悪く自動酸化を受け
やすいから、製版業者が常に品質の高い網ネガあるいは
網ポジ画像を得るためには、経時で減少している現像液
の活性度を一定に保つための現像液の管理が必要とされ
るが、その操作が煩雑になることは避けられない。
Such developers have poor shelf life and are susceptible to auto-oxidation, so in order for plate makers to consistently obtain high-quality halftone negative or halftone positive images, they must reduce the activity of the developer, which decreases over time. Although it is necessary to manage the developer to maintain a constant value, this operation inevitably becomes complicated.

さらにまた、リス現像処理においては、活性度を一定に
保つ現像液管理の他に、処理スピードが遅いという、2
つの大きな短所がある。
Furthermore, in Lith development processing, in addition to managing the developer to keep the activity constant, there are two other problems: the processing speed is slow.
There are two major disadvantages.

近年の印刷製版の流れとして、印刷プロセスの短縮化と
短時間化があげられ、製版フィルムの処理スピードに対
しての要望が高まっている。
The trend in printing plate making in recent years has been to shorten the printing process and shorten the time, and there is an increasing demand for processing speed of plate making film.

保恒性の高い現像液を用いて製版に適するような極めて
高いコントラストの画像を得る技術として、例えば特願
昭59−240147号明細書等にはテトラゾリウム塩
を含むハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法が開示さ
れている。この方法では亜硫酸イオン濃度の高い安定な
現像液を使用し得るとともに、従来のリス現像では行い
得なかった現像時間30秒前後、乾燥完了までの所要時
間90秒乃至100秒の迅速処理が可能である。
For example, Japanese Patent Application No. 59-240147 uses a silver halide photographic light-sensitive material containing a tetrazolium salt as a technique for obtaining an extremely high contrast image suitable for plate making using a developer with high stability. A method is disclosed. This method allows the use of a stable developer with a high concentration of sulfite ions, and enables rapid processing with a development time of around 30 seconds and a drying time of 90 to 100 seconds, which was not possible with conventional lithography. be.

一方製版用としてのハロゲン化銀写真感光材料は一般に
緑色部に感光性を有するいわゆるオルソタイプの感光性
をもつことが要求される。
On the other hand, silver halide photographic materials for plate making are generally required to have so-called orthotype photosensitivity, which is photosensitivity in the green area.

感光性ハロゲン化銀乳剤は単独ではその感光波長域が狭
いので、その感光波長域を長波長側へ拡大することを目
的とした分光増感剤が用いられている。例えば、緑色光
に対する感度を付与するものとして、特公昭38−78
28号、同40−392号、同43−10251号、同
43−22884号、英国特許815,172号、同9
55゜961号、同955,912号、同142,22
8号、米国特許1,942゜854号、同1,950.
876号、同1,957,869号、同2,238,2
31号、同2,521,705号、同2,647,05
9号、特公昭43−2606号、同44−3644号、
同46−18106号、同46−18108号、同48
−15032号、同49−33782号、同り4−34
252号、同58−52574号、米国特許2,839
,403号、同3,567.458号、同3゜625.
698号等の明細書に記載されたシアニン色素並びにメ
ロシアニン色素があげられる。
Since a photosensitive silver halide emulsion alone has a narrow wavelength range of sensitivity, a spectral sensitizer is used for the purpose of expanding the wavelength range of sensitivity to longer wavelengths. For example, as a device that imparts sensitivity to green light,
No. 28, No. 40-392, No. 43-10251, No. 43-22884, British Patent No. 815,172, No. 9
55°961, 955,912, 142,22
No. 8, U.S. Patent No. 1,942°854, U.S. Patent No. 1,950.
No. 876, No. 1,957,869, No. 2,238,2
No. 31, No. 2,521,705, No. 2,647,05
No. 9, Special Publication No. 43-2606, No. 44-3644,
No. 46-18106, No. 46-18108, No. 48
-15032, 49-33782, 4-34
No. 252, No. 58-52574, U.S. Patent No. 2,839
, No. 403, No. 3,567.458, No. 3゜625.
Examples include cyanine dyes and merocyanine dyes described in specifications such as No. 698.

[発明が解決しようとする問題点] これらの分光増感剤は、特定の波長領域の感度を高める
ということと同時に、−大凶な特性として例えば、 (1)  他の添加剤の影響を受けたり、添加剤の効果
に影響を与えないこと (2)日時が経過した場合にも感度低下やカプリの増大
等の写真特性変化を生じさせないこと、 (3)処理後に色素汚染を生じさせないこと、等の性質
が要求されるが、前記のような比較的迅速な現像を行っ
た場合、処理後の色素汚染が大きくなり実用上大きな問
題となっている。
[Problems to be solved by the invention] At the same time, these spectral sensitizers increase the sensitivity in a specific wavelength range, and at the same time, they have major negative characteristics such as: (1) being affected by other additives; (2) There should be no change in photographic properties such as a decrease in sensitivity or an increase in capri even after the passage of time; (3) There should be no dye staining after processing, etc. However, when relatively rapid development as described above is performed, dye staining after processing increases, which is a big problem in practice.

色素汚染を減するためにはゼラチン等の親水性コロイド
に対する染着性が少なく、且つ処理液中に流出し易い、
溶解性の高い分光増感剤を使用すればよく、従来も種々
の化合物が提案されているが、製版用として要求される
ような極めて高いコントラストを与える現像効果には分
光増感剤が大きな影響を及ぼす場合が多く、コントラス
トを低下させるなどの問題を生じて通常の感光材料にお
ける色素汚れ解決手段を高コントラスト現像を行うハロ
ゲン化銀写真感光材料に適用することは困難であった。
In order to reduce dye staining, it is necessary to use a material that has little staining property against hydrophilic colloids such as gelatin, and which easily flows out into the processing solution.
It is sufficient to use a spectral sensitizer with high solubility, and various compounds have been proposed in the past, but spectral sensitizers have a major influence on the development effect that provides the extremely high contrast required for plate making. This often causes problems such as a decrease in contrast, making it difficult to apply the means for solving dye stains in ordinary light-sensitive materials to silver halide photographic light-sensitive materials that undergo high-contrast development.

[発明の目的] 本発明の目的は前記のような問題点を解決し、感光度が
高く、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液を用いた迅
速な現像処理によって極めて高いコントラストが得られ
、且つ処理後の色素汚染の極めて少ないハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。
[Object of the Invention] The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide an extremely high contrast by rapid processing using a normal developer having high photosensitivity and high sulfite ion concentration, and An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material with extremely little dye staining after processing.

[問題点を解決するだめの手段] 本発明者等は種々検討の結果、支持体と該支持体上に塗
設されI;、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含
む親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、前記親水性コロイド層に含まれるハロゲン化
銀粒子が下記一般式[4]で示される化合物によって分
光増感され、且つ前記親水性コロイド層が下記一般式[
1]、[2]。
[Means for Solving the Problems] As a result of various studies, the present inventors have developed a support and a hydrophilic colloid layer coated on the support, including at least one silver halide emulsion layer. In the silver halide photographic light-sensitive material, the silver halide grains contained in the hydrophilic colloid layer are spectrally sensitized by a compound represented by the following general formula [4], and the hydrophilic colloid layer has a compound represented by the following general formula [4].
1], [2].

[3]で示される化合物の少くとも1種を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって前記の
目的を達成し得ることを見出した。
It has been found that the above object can be achieved by a silver halide photographic material containing at least one of the compounds shown in [3].

一般式[41 Zはオキサゾール核、ベンゾオキサゾール核またはナフ
トオキサゾール核を完成するに必要な原子群を表わし、
これらの核は炭素原子上に置換基を有していでもよい。
General formula [41 Z represents an atomic group necessary to complete an oxazole nucleus, benzoxazole nucleus or naphthoxazole nucleus,
These nuclei may have substituents on carbon atoms.

置換基の具体例としては、ハロゲン原子(例えばフッ素
原子、クロル原子、ブロム原子)、炭素数1〜6の無置
換アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基等)、炭素数1〜4のアルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基)、ヒドロキシ基、炭素数2〜6のアルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基等)、炭素数2〜5のアルキルカルボニ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオ
キシ基等)、フェニル基、ヒドロキシフェニル基等があ
げられる。
Specific examples of substituents include halogen atoms (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), unsubstituted alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.) , an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (e.g. methoxy group, ethoxy group, propoxy group,
butoxy group), hydroxyl group, alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), alkylcarbonyloxy group having 2 to 5 carbon atoms (e.g. acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), Examples include phenyl group and hydroxyphenyl group.

これらの核の具体例としては、オキサゾール核としてオ
キサゾール、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキ
サゾール、4.5−ジメチルオキサゾール、4−フェニ
ルオキサゾールなど:ベンゾオキサゾール核としてベン
ゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5−
ブロモベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾ
ール、5・エチルベンゾオキサゾール、5・メトキシベ
ンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール
、5−エトキシカルボニルベンゾオキサゾール、5−ア
セチルオキシベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾ
オキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、6−メ
ドキシベンゾール、5.6−シメチルベンゾオキサゾー
ル、6−クロロ−5−メチルベンゾオキサゾールなど、
ナフトオキサゾール核としてす7ト[1,2−d]オキ
サゾール、ナ71− [2,1−d]オキサゾール、ナ
ツト[2,3−dlオキサゾール等の核をあげることが
できる。
Specific examples of these nuclei include oxazole, 4-methyloxazole, 5-methyloxazole, 4.5-dimethyloxazole, 4-phenyloxazole, etc. as the oxazole nucleus; benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, etc. as the benzoxazole nucleus; 5-
Bromobenzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-ethylbenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole, 5-ethoxycarbonylbenzoxazole, 5-acetyloxybenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6- Methylbenzoxazole, 6-medoxybenzole, 5,6-dimethylbenzoxazole, 6-chloro-5-methylbenzoxazole, etc.
Examples of the naphthoxazole nucleus include nuclei such as soot[1,2-d]oxazole, na71-[2,1-d]oxazole, and naphtho[2,3-dloxazole.

141は無置換もしくは置換アルキル基を表す。141 represents an unsubstituted or substituted alkyl group.

置換基の例としては、ヒドロキシ基、スルホネート基、
カルボキシル基、ハロゲン原子(例工ばフッ素原子、塩
素原子)、炭素数1〜4の無置換または置換アルコキシ
基(アルコキシ基は更にスルホ基やヒドロキシ基で置換
されていてもよい)、炭素数2〜5のアルコキシカルボ
ニル基、炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、スルフ
ァモイル基、無置換または置換カルバモイル基(炭素数
1〜4のアルキル基で置換された置換カルバモイル基を
含む)、置換フェニル基(置換基の例としては、スルホ
基、カルボキシ基、ヒドロキシ基等)、ビニル基等があ
げられる。
Examples of substituents include hydroxy group, sulfonate group,
Carboxyl group, halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom), unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (alkoxy group may be further substituted with a sulfo group or hydroxy group), 2 carbon atoms ~5 alkoxycarbonyl groups, alkylsulfonyl groups having 1 to 4 carbon atoms, sulfamoyl groups, unsubstituted or substituted carbamoyl groups (including substituted carbamoyl groups substituted with alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms), substituted phenyl groups ( Examples of the substituent include a sulfo group, a carboxy group, a hydroxy group, etc.), a vinyl group, and the like.

無R換アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基があげられる。
Specific examples of the R-free alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.

置換アルキル基の例としてはヒドロキシアルキル基とし
て2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基
など、スルホアルキル基として2・スルホエチル基、3
−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホ
ブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、2
−クロロ−3−スルホプロピル基など、2−スルホネー
トエチル基、3−スルホネートプロピル基、カルボキシ
アルキル基としてカルボキシメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシプロピル基など、2.2.2−1−リ
フルオロエチル基、2−、(3−スルホプロピルオキシ
)エチル基、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基
、エトキシカルボニルエチル基、メチルスルホニルエチ
ル基、スルファモイルアルキル基として2−スルファモ
イルエチル基、2−カルバモイルエチル基、2−N。
Examples of substituted alkyl groups include 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group as hydroxyalkyl group, 2-sulfoethyl group, 3-hydroxypropyl group as sulfoalkyl group, etc.
-Sulfopropyl group, 3-sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, 2-hydroxy-3-sulfopropyl group, 2
-Chloro-3-sulfopropyl group, etc., 2-sulfonate ethyl group, 3-sulfonate propyl group, carboxyalkyl group such as carboxymethyl group, carboxyethyl group, carboxypropyl group, 2.2.2-1-lifluoroethyl group, 2-, (3-sulfopropyloxy)ethyl group, 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl group, ethoxycarbonylethyl group, methylsulfonylethyl group, 2-sulfamoylethyl group as a sulfamoylalkyl group, 2-carbamoylethyl group, 2-N.

N−ジメチルカルバモイル、エチル基など、7エネチル
基、p−カルボキシフェネチル基、スルホアラルキル基
としてp−スルホフェネチル基、0−スルホフェネチル
基など、p−ヒドロキシフェネチル基、フェノキシエチ
ル基等が挙げられる。
N-dimethylcarbamoyl, ethyl group, etc., 7enethyl group, p-carboxyphenethyl group, sulfoaralkyl group include p-sulfophenethyl group, 0-sulfophenethyl group, p-hydroxyphenethyl group, phenoxyethyl group, and the like.

R4!はアルコキシカルボニルアルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、カルバ
モイルアルキル基、ヒドロキシ7エ二ル基、ヒドロキシ
アルキルフェニル基、フェニル基、アルコキシアルキル
基、または置換基(CHz芹A モジ< ハ(CI 2
 九−OTCHa丁A ’k 表t。ここではAはニト
リル基、アルキルスルホニル基、スルホンアミド基、ア
ルキルスルホニルアミノ基、または炭素数1〜8のアル
コキシ基を表し、nは1〜4の整数値を表す。
R4! is an alkoxycarbonylalkyl group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxyalkyl group, a carbamoylalkyl group, a hydroxy7enyl group, a hydroxyalkylphenyl group, a phenyl group, an alkoxyalkyl group, or a substituent (CHz Seri 2
9-OTCHadingA'k table t. Here, A represents a nitrile group, an alkylsulfonyl group, a sulfonamido group, an alkylsulfonylamino group, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer value of 1 to 4.

R目が表す上記6基は置換基を有するものも含む。例え
ば上記基のアルキル部分がハロゲン原子で置換されたも
のも好ましく使用することができる。
The above six groups represented by the R eye also include those having substituents. For example, those in which the alkyl moiety of the above group is substituted with a halogen atom can also be preferably used.

R42の例としては、それぞれアルキル基がハロゲン原
子で置換されたアルコキシカルボニルアルキル基(例え
ばメトキシカルボニルフルオロメチル基、エトキシカル
ボニルフルオロメチル基、フルオロエトキシカルボニル
エチル基等)、ヒドロキン7 ルキル基(例えば2−ヒ
ドロキシフルオロエチル基、2二ヒドロキシフルオロプ
ロピル基、3−ヒドロキシフルオロプロピル基、2.3
−ジヒドロキシフルオロプロピル基等)、ヒドロキシア
ルコキンアルキル基(例えばヒドロキシメトキシフルオ
ロメチル基、2−(2−ヒドロキシフルオロエトキシ)
エチル基、2−ヒドロキシフルオ口エトキシメチル基等
)、カルバモイルアルキル基(N−アルキル置換、N、
N−ジアルキル置換、N−ヒドロキシアルキル置換、N
−アルキル−N−ヒドロキシアルキル置換、N、N−ジ
(ヒドロキシアルキル)置換の置換カルバモイルアルキ
ル基及び5・6員環の環状アミンのカルバモイルアルキ
ル基を含む)(例えば2−カルバモイルクロロエチル基
、2−N−(2−ヒドロキシエチル)カルバモイルクロ
ロエチル基、N−ヒドロキシフルオロエチルカルバモイ
ルメチル基、N、N−シ(2−ヒドロキシフルオロエチ
ル)カルバモイルメチル基、2−N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)カルバモイルクロロエチル基、N、N−
ジメチルカルバモイルクロロメチル基、モルホリノカル
バモイルクロロメチル基、ピペリジノカルバモイルメチ
ル基等)、ヒドロキシフェニル基、炭素数7〜9のヒド
ロキシアルキルフェニル基(例えばp−(2−ヒドロキ
シフルオロエチル)フェニルl、m−(1−ヒドロキシ
フルオロエチル)フェニル基等)、または置換基(CH
,冗Aもしくは(CH、崖0 【cH,九−Aを表す。
Examples of R42 include an alkoxycarbonylalkyl group in which each alkyl group is substituted with a halogen atom (e.g., methoxycarbonylfluoromethyl group, ethoxycarbonylfluoromethyl group, fluoroethoxycarbonylethyl group, etc.), a hydroquine group (e.g., 2- Hydroxyfluoroethyl group, 2-hydroxyfluoropropyl group, 3-hydroxyfluoropropyl group, 2.3
-dihydroxyfluoropropyl group, etc.), hydroxyalcokyne alkyl group (e.g. hydroxymethoxyfluoromethyl group, 2-(2-hydroxyfluoroethoxy)
ethyl group, 2-hydroxyfluoroethoxymethyl group, etc.), carbamoyl alkyl group (N-alkyl substitution, N,
N-dialkyl substitution, N-hydroxyalkyl substitution, N
-alkyl-N-hydroxyalkyl-substituted, N,N-di(hydroxyalkyl)-substituted substituted carbamoyl alkyl groups, and carbamoyl alkyl groups of 5- and 6-membered cyclic amines) (e.g., 2-carbamoylchloroethyl groups, 2-carbamoylchloroethyl groups, -N-(2-hydroxyethyl)carbamoylchloroethyl group, N-hydroxyfluoroethylcarbamoylmethyl group, N,N-cy(2-hydroxyfluoroethyl)carbamoylmethyl group, 2-N,N-di(2-hydroxy ethyl) carbamoylchloroethyl group, N, N-
dimethylcarbamoylchloromethyl group, morpholinocarbamoylchloromethyl group, piperidinocarbamoylmethyl group, etc.), hydroxyphenyl group, hydroxyalkylphenyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. p-(2-hydroxyfluoroethyl)phenyl l, m -(1-hydroxyfluoroethyl)phenyl group, etc.), or a substituent (CH
, red A or (CH, cliff 0 [cH, represents 9-A.

ここでAはニトリル基、アルキルスルホニル基、スルホ
ンアミド基、アルキルスルホニルアミノ基、または低級
アルコキシ基を表すが、このうちアルキルスルホニル基
は、好ましくは炭素数1〜4個のアルキルスルホニル基
(例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)
であり、スルホンアミド基は、好ましくは炭素数1〜4
個のスルホンアミド基(例えばN−メチルスルホンアミ
ド、l、N、N−ジメチルスルホンアミド基等)であり
、アルキルスルホニルアミド基等)であり、アルキルス
ルホニルアミノ基は、好ましくは炭素数1〜4個のアル
キルスルホニルアミノ基(例えばメチルスルホニルアミ
ノ基等)であり、低級アルコキシ基は、好ましくは炭素
数1〜4個のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)である。nは1〜4の整数値を表す。
Here, A represents a nitrile group, an alkylsulfonyl group, a sulfonamido group, an alkylsulfonylamino group, or a lower alkoxy group, and among these, the alkylsulfonyl group is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl sulfonyl group, ethylsulfonyl group, etc.)
and the sulfonamide group preferably has 1 to 4 carbon atoms.
sulfonamide groups (for example, N-methylsulfonamide, l,N,N-dimethylsulfonamide groups, etc.), alkylsulfonylamino groups, etc.), and the alkylsulfonylamino group preferably has 1 to 4 carbon atoms. The lower alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.). n represents an integer value of 1-4.

R4m及びR4′は同一でも異なっていてもよく、各々
水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4のもの
、例えばメチル基、エチル基など)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エト
キシ基など)、アルキルスルホニル基、スルホ基、塩素
原子、フッ素原子またはカルボキシル基を表す。
R4m and R4' may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably one having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group), or an alkoxy group (preferably one having 1 to 4 carbon atoms). methoxy group, ethoxy group, etc.), alkylsulfonyl group, sulfo group, chlorine atom, fluorine atom, or carboxyl group.

上記一般式[4]で示した化合物において特に好ましい
ものは、R41がスルホ基またはカルボキシル基及び/
またはヒドロキシル基で置換された直鎖あるいは分岐の
炭素数1〜4個のアルキル基を表す場合であり、具体的
にはスルホエチル基、スルホプロピル基、3−スルホブ
チル基、4−スルホブチル基、カルボキシメチル基、カ
ルボキシエチル基、ヒドロキシエチル基、3−スルホ−
2−ヒドロキシプロピル基等があげられる。
Particularly preferred compounds of the above general formula [4] include R41 in which R41 is a sulfo group or a carboxyl group and/or
or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with a hydroxyl group, specifically sulfoethyl group, sulfopropyl group, 3-sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, carboxymethyl group, carboxyethyl group, hydroxyethyl group, 3-sulfo-
Examples include 2-hydroxypropyl group.

次に本発明に用いられる上記一般式[4]で示される化
合物の代表的具体例をあげるが、本発明において使用す
る化合物がこれ等に限定されるもの[4]−1 [4]−2 ゝ−13 [4]−] 34]− [4]−5 [4]−] 94]−10 [4]−]1 [4]− [4]−] 74]−8 [4]−12 [4]−13 [4] OCH。
Next, typical specific examples of the compound represented by the above general formula [4] used in the present invention will be given, but the compounds used in the present invention are limited to these [4]-1 [4]-2ゝ-13 [4]-] 34]-[4]-5 [4]-] 94]-10 [4]-]1 [4]- [4]-] 74]-8 [4]-12 [ 4]-13 [4] OCH.

[4]−15 [4]−16 [4]−17 [4]−21 [4]−22 [4]−23 OCH3 OCH。[4]-15 [4]-16 [4]-17 [4]-21 [4]-22 [4]-23 OCH3 OCH.

H3 [41 [4]−19 [4] [41 [4]−25 [4]−26 [4]−27 [4]−28 [4]−29 [4]−33 [4]−34 [4]−35 [4]−30 [4]−31 [4]−32 [4]−36 [4]−37 本発明において使用される上記−大成[4]で示される
化合物は、特公昭46−549号、同46−18105
号、同46−18106号、同46−18108号、同
47−4085号、同58−52574号、米国特許2
,839.403号、同3,384.486号、同3.
625.698号、同3,480,439号、同3,5
67.458号等に記載されているジメチンメロシアニ
ンの合成方法に準じて合成することができる。
H3 [41 [4]-19 [4] [41 [4]-25 [4]-26 [4]-27 [4]-28 [4]-29 [4]-33 [4]-34 [4 ]-35 [4]-30 [4]-31 [4]-32 [4]-36 [4]-37 The compound represented by the above-Taisei [4] used in the present invention is No. 549, 46-18105
No. 46-18106, No. 46-18108, No. 47-4085, No. 58-52574, U.S. Patent 2
, 839.403, 3,384.486, 3.
No. 625.698, No. 3,480,439, No. 3,5
It can be synthesized according to the method for synthesizing dimethine merocyanine described in No. 67.458 and the like.

本発明において使用される上記一般式[4]で示される
メロシアニン色素をハロゲン化銀乳剤中に添加分散せし
めることは、従来公知の方法によって行うことができる
。例えば特公昭49−44895号、特開昭50−11
419号の明細書に記載の界面活性剤と共に分散させて
添加する方法、特開昭53−16624号、同53〜1
02732号、同53−102733号、米国特許第3
,469.987号、同3,676.147号の明細書
に記載の親水性基質との分散物として添加する方法、東
独特許第143.324号の明細書に記載の固溶体とし
て添加する方法等が挙げられる。その他メロシアニン色
素を水溶性溶媒、例えば水、エタノール、メチノール、
アセトン、n−プロパツール、フッソ化アルコール、ピ
リジン等の単独またはそれらの混合溶媒に溶解して乳剤
中に添加してもよい。添加の時期は乳剤製造工程中のど
の時期でも良いが、化学熟戊申あるいは化学熟成後が好
ましい。本発明に用いられるメロシアニン色素の添加量
は、ハロゲン化銀乳剤の分光増感を行う量、例えばハロ
ゲン化銀1モル当り10−’〜2 X 10−”モル、
このましくは10−4〜2 X 10−”モルである。
The merocyanine dye represented by the above general formula [4] used in the present invention can be added and dispersed in a silver halide emulsion by a conventionally known method. For example, JP-A No. 49-44895, JP-A No. 50-11
The method of dispersing and adding with a surfactant described in the specification of No. 419, JP-A-53-16624, No. 53-1
No. 02732, No. 53-102733, U.S. Patent No. 3
, 469.987 and 3,676.147, a method of adding as a solid solution as described in the specification of East German Patent No. 143.324, etc. can be mentioned. Other merocyanine dyes can be used in water-soluble solvents such as water, ethanol, methanol,
It may be dissolved in a solvent such as acetone, n-propertool, fluorinated alcohol, pyridine, etc. alone or in a mixture thereof and added to the emulsion. It may be added at any time during the emulsion manufacturing process, but it is preferably added during chemical ripening or after chemical ripening. The amount of the merocyanine dye used in the present invention is the amount for spectral sensitization of the silver halide emulsion, for example, from 10-' to 2 x 10-' mol per 1 mol of silver halide.
Preferably it is 10-4 to 2 x 10-'' moles.

また、本発明に使用するメロシアニン色素は、例えば、
特公昭43−4933号、同43−4936号、同46
18107号、同46−1999号、同47−1111
4号、同48−1762号、同48−1762号、同4
8−38408号、同56−38937号、同58−5
2574号、米国特許2,519.0旧号、同3,74
5,014号等の明細書中に開示された他の色素と任意
の量比で組み合わせて使用することにより強色増感する
ことができる。
Further, the merocyanine dye used in the present invention is, for example,
Special Publication No. 43-4933, No. 43-4936, No. 46
No. 18107, No. 46-1999, No. 47-1111
No. 4, No. 48-1762, No. 48-1762, No. 4
No. 8-38408, No. 56-38937, No. 58-5
No. 2574, U.S. Patent No. 2,519.0 Old No. 3,74
Supercolor sensitization can be achieved by using it in combination with other dyes disclosed in specifications such as No. 5,014 in any quantitative ratio.

以下一般式[1] 、[2] 、[3]について具体的
に説明する。
General formulas [1], [2], and [3] will be specifically explained below.

一般式[l] 式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nは0〜6、mはO
またはlを表わす。
General formula [l] In the formula, R1 and R2 represent an aryl group or a heterocyclic group, R represents a divalent organic group, n is 0 to 6, and m is O
or represents l.

ここで、R3及びR2で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR2として好まし
くはアリール基である。
Here, examples of the aryl group represented by R3 and R2 include a phenyl group, a naphthyl group, etc., and examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a benzothiazolyl group, a quinolyl group, a thienyl group, etc., which are preferably used as R1 and R2. is an aryl group.

R,及びR3で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、7ツ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブ]
・キシ、オクチルオキン、ドデシルオキシなど)、アシ
ルアミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ
、ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(
2,4−ジー(−アミルフェノキシ)ブチリルアミノな
ど)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニル
アミノ、ブタンスルホニルアミノ、ドデカンスルボニル
アミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(
例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、チオウ
レア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレ
アなど)、ヒドロギシ基、アミン基、アルキルアミノ基
(例えば、メチルアミン、ジメチルアミノなど)、カル
ボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキン
カルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げら
れる。Rで表わされる2価の有機基としては、例えばア
ルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フ
ェニレン、ナフチレンなど)、アラルキレン基等が挙げ
られるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セ
レノ基、カルポニ具体的化合物 アリール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良い
。Rで表わされる基には種々の置換基が導入できる。
Various substituents can be introduced into the aryl group or heterocyclic group represented by R and R3. Examples of substituents include halogen atoms (e.g., chlorine, heptadoxylate, etc.), alkyl groups (e.g., methyl, ethyl, dodecyl, etc.), alkoxy groups (e.g., methoxy, ethoxy, impropoxy, butyl), etc.
・oxy, octyloquine, dodecyloxy, etc.), acylamino groups (e.g. acetylamino, pivallylamino, benzoylamino, tetradecanoylamino, α-(
2,4-di(-amylphenoxy)butyrylamino, etc.), sulfonylamino groups (e.g., methanesulfonylamino, butanesulfonylamino, dodecanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), urea groups (
(e.g., phenylurea, ethylurea, etc.), thiourea groups (e.g., phenylthiourea, ethylthiourea, etc.), hydroxy groups, amine groups, alkylamino groups (e.g., methylamine, dimethylamino, etc.), carboxy groups, alkoxycarbonyl groups (e.g. , Etquin carbonyl), carbamoyl group, sulfo group, etc. Examples of the divalent organic group represented by R include alkylene groups (e.g., methylene, ethylene, trimethylene, tetramethylene, etc.), arylene groups (e.g., phenylene, naphthylene, etc.), aralkylene groups, etc. The bond may contain an oxy group, thio group, seleno group, carbonyl group (specifically aryl group), sulfonyl group, etc. Various substituents can be introduced into the group represented by R.

置−換基としては例えば、−C0NIINIIR,(R
4は上述したR1及びR3七同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
Examples of the substituent include -C0NIINIIR, (R
4 represents the same meaning as R1 and R3 described above), an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a hydroxy group,
Examples include a carboxy group, an acyl group, an aryl group, and the like.

Rとして好ましくはアルキレン基である。R is preferably an alkylene group.

−大成[11で表わされる化合物のうち好ましくはR3
及びR3が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=1でRがアルキレン基を表わす化合物である。
- Taisei [Among the compounds represented by 11, preferably R3
and R3 is a substituted or unsubstituted phenyl group, and n=
A compound in which m=1 and R represents an alkylene group.

上記−大成[1]で表される代表的な化合物を■ ■ ■7 ■ ■ 」 ■ ■ ■ tc511.。The representative compound represented by Taisei [1] above is ■ ■ ■7 ■ ■ ” ■ ■ ■ tc511. .

■ ■ =42 c6t1w =53 tc、II+l tc、I+、。■ ■ =42 c6t1w =53 tc, II+l tc, I+,.

■ ■ 次に一般式[2]について説明する R21で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキン基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。
■■ Next, the aliphatic group represented by R21, which will be explained in general formula [2], preferably has 6 carbon atoms.
Among the above, it is particularly a straight chain, branched or cyclic alkyl group having 8 to 50 carbon atoms. The branched alkyl group herein may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, or a sulfoxy group.

R2,で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
The aromatic group represented by R2 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、デアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
Examples include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrorazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a deazole ring, and a benzothiazole ring, among which those containing a benzene ring are preferred.

R21として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R21 is an aryl group.

R2Iのアリール基または不飽和へテa膿基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
がl〜20の単環まI;は2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、5を換アミノ基
(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アミン基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜3
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)などがある。
The aryl group or unsaturated hetamine group of R2I may be substituted, and typical substituents include linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably monomers in which the alkyl moiety has 1 to 20 carbon atoms). 2 rings), alkoxy groups (preferably those having 1 to 20 carbon atoms), 5-substituted amino groups (preferably amine groups substituted with alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms), acylamino group (preferably carbon number 2-3
0), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), and a ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).

一般式[2]のR22で表される基のうち置換されても
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
Among the groups represented by R22 in general formula [2], the optionally substituted alkoxy group has 1 to 20 carbon atoms, and may be substituted with a halogen atom, an aryl group, or the like.

一般式[2]においてRoで表される基のうち置換され
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある R22で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。
Among the groups represented by Ro in general formula [2], the optionally substituted aryloxy group or heterocyclic oxy group is preferably a monocyclic group, and the substituents include a halogen atom alkyl group, an alkoxy group, Among the groups represented by R22, which include a cyano group, preferred are an optionally substituted alkoxy group or an amino group.

A、R換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
It may be a cyclic structure containing an alkyl group, an alkoxy group, or a 10--3--N- group bond that may be substituted with A or R. However, R1 is never a hydrazino group.

一般式[2]のR21またはRoはその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
R21 or Ro in the general formula [2] may have a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein.

バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and is relatively inert to photography, such as an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a fninoxy group,
It can be selected from alkylphenoxy groups, etc.

一般式[21のR21またはR2!はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.355゜105号に記載され
た基があげられる。一般式[21で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
General formula [R21 or R2 of 21! may have a group incorporated therein that enhances adsorption to the silver halide grain surface. Such adsorption groups include thiourea group,
Examples include groups described in US Pat. No. 4,355,105, such as a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group. Among the compounds represented by the general formula [21], the compounds represented by the following general formula [2-al] are particularly preferred.

一般式[2−al 上記一般式[2−al中、 RzsおよびR24は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 R16は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R24及びR2Fは2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5OzCIIzCIItNII  SO*
NIl、−0CH,SO!Nll、 −0−−CI−N
−)を表し、 Roは−N R/ Rl/または−OR,,を表し、R
’、R“及びR29は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フ
ェニル基(例えばフェニルTs、9−メチルフェニル基
、p−メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えば
α−ナフチル基、β−ナフチル基)を表し、 m、nは0または ■ を表す。
General formula [2-al In the above general formula [2-al, Rzs and R24 are hydrogen atoms, optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, butyl group, dodecyl group, 2-hydroxypropyl group, -cyanoethyl group, 2-chloroethyl group), optionally substituted phenyl group, naphthyl group, cyclohexyl group, pyridyl group, pyrrolidyl group (e.g. phenyl group, p-methylphenyl group, naphthyl group, a-hydroxynaphthyl group, cyclohexyl group) group, p-methylcyclohexyl group, pyridyl group, 4-propyl-2-pyridyl group, pyrrolidyl group, 4-methyl-
2-pyrrolidyl group), R16 is a hydrogen atom or an optionally substituted benzyl group,
Alkoxy and alkyl groups (e.g. benzyl, p-
methylbenzyl group, methoxy group, ethoxy group, ethyl group, butyl group), R24 and R2F represent a divalent aromatic group (e.g. phenylene group or naphthylene group),
Y represents a sulfur atom or an oxygen atom, and L represents a divalent bonding group (e.g. -5OzCIIzCIItNIISO*
NIl, -0CH, SO! Nll, -0--CI-N
-), Ro represents -NR/Rl/ or -OR,, R
', R'' and R29 are hydrogen atoms, optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, dodecyl group), phenyl groups (e.g. phenyl Ts, 9-methylphenyl group, p-methoxyphenyl group), or naphthyl It represents a group (eg, α-naphthyl group, β-naphthyl group), and m and n represent 0 or ■.

R2,がOR2,を 一般式[21の具体例 表すとき Yはイ オウ原子を表すのが好ましい。R2, is OR2, Specific example of general formula [21] When expressing Y is I Preferably it represents an oxatom.

上記一般式[21及び[2 alで表される代表的な C=0 CF。The above general formulas [21 and [2 A typical example represented by al. C=0 C.F.

−【6 ■ ※−N11N11CCOCII、CIl、So、CI、
C1,OH法−NIINIICCOCH,Cfl□5C
H2CH20HI =40 =33 一48 ※ ■ 濁1l −NIIN)IccN)Ic、 !H□次に、上記具体
的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例にとって
、その合成法を示す。
-[6 ■ *-N11N11CCOCII, CIl, So, CI,
C1,OH method-NIINIICCOCH,Cfl□5C
H2CH20HI =40 =33 -48 * ■ turbidity 1l -NIIN)IccN)Ic, ! H□Next, a method for synthesizing the compound 2-45°2-47 from among the above-mentioned specific compounds will be shown as an example.

化合物2−45の合成 合成スキーム (B) (A) 化α物4−二トロフェニルヒドラジン1539と500
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、!&後
に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回
洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち5
0gを1000m12のメタノールで加温溶解し、pd
/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧
したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
Synthesis of compound 2-45 Synthesis scheme (B) (A) α-compound 4-nitrophenylhydrazine 1539 and 500
Mix mQ of diethyl oxalate and reflux for 1 hour. As the reaction progresses, ethanol is removed! & Later, it is cooled to precipitate crystals. Filter, wash several times with petroleum ether and recrystallize. Next, 5 of the obtained crystals (A)
Dissolve 0g in 1000ml of methanol by heating, and
Compound (B) is obtained by reduction under a /C (palladium/carbon) catalyst in a H2 atmosphere pressurized at 50 Psi.

この化合物(B)229をアセトニトリル200+n2
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
49のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得lこ 。
Add this compound (B) 229 to acetonitrile 200+n2
and pyridine 169 at room temperature.
A solution of No. 49 in acetonitrile was added dropwise. After filtering off insoluble matter, the filtrate was concentrated and purified by recrystallization to obtain 31 g of Compound (D).

化合物(D)309を上記と同様に水添をして化合物(
E)20gを得た。
Compound (D) 309 was hydrogenated in the same manner as above to obtain compound (
E) 20g was obtained.

化合物(E)10gをアセトニトリル100rnQに溶
解しエチルイソチオンアネート3.09を加え、1時間
還流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.09をメタノール5
0mffに溶解してメチルアミン(40%水溶液81a
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
10 g of compound (E) was dissolved in 100 rnQ of acetonitrile, 3.09 g of ethyl isothionanate was added, and the mixture was refluxed for 1 hour. After distilling off the solvent, the compound (F) 7 was purified by crystallization.
.. Obtained 0g. Compound (F) 5.09 methanol 5
Methylamine (40% aqueous solution 81a) was dissolved in 0 mff.
) was added and stirred. After slightly concentrating methanol, the precipitated solid was taken out, recrystallized and purified to obtain Compound 2-45.

化合物2−47の合成 合成スキーム (B) (C) (D) (E) 化合物2−47 化合物(B)229をピリジン200mQに溶解し攪拌
すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド2
29を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体を
とり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合成
スキームに従って化合物2−45と同様の反応により化
合物2−47を得た。
Synthesis of Compound 2-47 Synthesis Scheme (B) (C) (D) (E) Compound 2-47 Dissolve compound (B) 229 in 200 mQ of pyridine and add p-nitrobenzenesulfonyl chloride 2 to a stirrer.
Added 29. The reaction mixture was poured with water, and the precipitated solid was taken out to obtain compound (C). This compound (C) was subjected to the same reaction as compound 2-45 according to the synthesis scheme to obtain compound 2-47.

次に一般式[3]について説明する。Next, general formula [3] will be explained.

大成[3J    。Taisei [3J].

鳳 Ar NIINII CR1+ 大成[3]中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促
進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
Otori Ar NIINII CR1+ In Taisei [3], Ar represents an aryl group containing at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption promoting group, but the diffusion-resistant group is commonly used in immobile photographic additives such as couplers. Preferred are ballast groups. The ballast group is a group having 8 or more carbon atoms and is relatively inert to photography, and may be selected from, for example, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group, etc. I can do it.

ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルノJブト複素環基、
トリアゾール基などの米国特許第4゜385.108号
に記載された基が挙げられる。
Examples of silver halide adsorption promoting groups include thiourea group, thiourethane group, heterocyclic thioamide group, merno-J buto-heterocyclic group,
Included are the groups described in U.S. Pat. No. 4,385,108, such as triazole groups.

R11は置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イン70ビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
R11 represents a substituted alkyl group, and the alkyl group represents a linear, branched, or cyclic alkyl group, and examples thereof include groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, in70biru, pentyl, and cyclohexyl.

これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキン等)、ペ
テロ環オキン(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキンカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、カルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−フェニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミン、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えは、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミノカルボニル
オキシ アミノカルボニルオキシ等)、アリールアミノカルボニ
ルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等
)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル
(例えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルフ
ァモイル(例えハ、フェニルスルファモイル等)等の6
基が挙げられる。
Substituents introduced into these alkyl groups include alkoxy (e.g. methoxy, ethoxy, etc.), aryloxy (e.g. phenoxy, p-chlorphenoquine, etc.), peterocyclic okyne (e.g. pyridyloxy, etc.), mercapto, alkylthio ( methylthio, ethylthio, etc.), arylthio (e.g., phenylthio, p-chlorophenylthio, etc.), heterocyclic thio (e.g., pyridylthio, pyrimidylthio, thiadiazolylthio, etc.), alkylsulfonyl (e.g., methanesulfonyl, butanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl (e.g., benzenesulfonyl, etc.), heterocyclic sulfonyl (e.g., pyridylsulfonyl, morpholinosulfonyl, etc.), acyl (e.g., acetyl, benzoyl, etc.), cyano, chlor, bromine, alkoxycarbonyl (e.g., ethoxycarbonyl, methoxycarbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl (e.g. phenoxycarbonyl, etc.), carboxy, carbamoyl, alkylcarbamoyl (e.g. N-methylcarbamoyl, N,N-
dimethylcarbamoyl, etc.), arylcarbamoyl (e.g., N-phenylcarbamoyl, etc.), amino, alkylamino (e.g., methylamine, N,N-dimethylamino, etc.), arylamino (e.g., phenylamino,
naphthylamino, etc.), acylamino (e.g., acetylamino, benzoylamino, etc.), alkoxycarbonylamino (e.g., ethoxycarbonylamino, etc.), aryloxycarbonylamino (e.g., phenoxycarbonylamino, etc.), acyloxy (e.g., acetyloxy, benzoyl), (oxy, etc.), alkylaminocarbonyloxy (aminocarbonyloxy, etc.), arylaminocarbonyloxy (e.g., phenylaminocarbonyloxy, etc.), sulfo, sulfamoyl, alkylsulfamoyl (e.g., methylsulfamoyl, etc.), arylsulfamoyl (e.g., phenylsulfamoyl, etc.) 6
Examples include groups.

ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル シル基(例えば、アセチル、トリフルオロアセチル等)
、オキザリル基(例えば、エトキザリル等)等)等の置
換基で置換されていてもよい。
The hydrogen atom of hydrazine is a sulfonyl group (e.g., methanesulfonyl syl group (e.g., acetyl, trifluoroacetyl, etc.))
, oxalyl group (eg, ethoxalyl, etc.)).

上記一般式[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。
Representative compounds represented by the above general formula [3] include:
There are the following.

=28 I しul+tr 3 =24 ※−N11N+1CCH□0C11ICI+20C1,
CIl、OII次に化合物3− 5の合成例について述べる。
=28 I sul+tr 3 =24 *-N11N+1CCH□0C11ICI+20C1,
CII, OII Next, a synthesis example of compound 3-5 will be described.

化合物3− 5の合成 合成スキーム 化合物2−45の合成法に準じて化合物3を 得 lこ 。Compound 3- Synthesis of 5 Synthesis scheme Compound 3 was prepared according to the synthesis method of compound 2-45. It's a good deal.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化金物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有される/10ゲン化銀1モ
ル当り、5 X 10−’ないし5 x lQ−’モル
までが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ない
し本発明のハロゲン化銀写真感光材料は支持体および該
支持体上に少なくとも一つのハロゲン化銀乳剤層と少な
くとも1つの親水性コロイド層を塗設してなり、このハ
ロゲン化銀乳剤層は支持体上に直接塗設されるか、ある
いはハロゲン化銀乳剤を含まない親水性コロイド層を介
して塗設され、親水性コロイド層は該ハロゲン化銀乳剤
層の上にあるいは支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に保
護層として塗設してもよい。また、ハロゲン化銀乳剤層
は異なる感度、例えば高感度および低感度のハロゲン化
銀乳剤層に分けてもよい。この場合、該ハロゲン化銀乳
剤層は、この層の間に、親水性コロイド層の中間層を設
けてもよいし、またハロゲン化銀乳剤層と保護層との間
には中間層を設けてもよい。本発明のヒドラジド化合物
が含有せしめられる層は、ハロゲン化銀乳剤層および/
または前記の各種親水性コロイド層である。
General formula [
1], [2], and [3] are 5 x 10-' to 5 x lQ- per mole of silver halide/10 contained in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention. The silver halide photographic material of the present invention preferably comprises a support and at least one silver halide emulsion layer and at least one hydrophilic colloid layer on the support. The silver halide emulsion layer is coated directly on the support, or coated via a hydrophilic colloid layer that does not contain the silver halide emulsion, and the hydrophilic colloid layer is coated on the support. It may be coated as a protective layer on the silver halide emulsion layer or between the support and the silver halide emulsion layer. The silver halide emulsion layer may also be divided into silver halide emulsion layers of different sensitivities, eg high and low sensitivity. In this case, the silver halide emulsion layer may have an intermediate layer of a hydrophilic colloid layer between these layers, or an intermediate layer between the silver halide emulsion layer and the protective layer. Good too. The layer containing the hydrazide compound of the present invention includes a silver halide emulsion layer and/or a silver halide emulsion layer.
Or the various hydrophilic colloid layers described above.

本発明の最も好ましい実施様態は、本発明のヒドラジド
化合物がハロゲン化銀乳剤層に含有せしめられ、且つハ
ロゲン化銀乳剤層および親水性コロイド層に含まれる親
水性コロイドがゼラチンまたはゼラチン誘導体であるハ
ロゲン化銀写真感光材料である。
In the most preferred embodiment of the present invention, the hydrazide compound of the present invention is contained in a silver halide emulsion layer, and the hydrophilic colloid contained in the silver halide emulsion layer and the hydrophilic colloid layer is gelatin or a gelatin derivative. It is a silver oxide photographic material.

本発明のヒドラジド化合物をハロゲン化銀乳剤層および
/または親水性コロイド層に含有せしめるには、適宜の
水および有機溶媒にヒドラジド化合物を溶解して添加す
る方法、あるいは有機溶媒に溶かした液をゼラチンある
いはゼラチン誘導体等の親水性コロイドマトリックス中
に分散してから添加する方法またはラテックス中にに分
散して添加する方法等があげられる。本発明はこれらの
方法のいずれを用いてもよい。
In order to incorporate the hydrazide compound of the present invention into the silver halide emulsion layer and/or the hydrophilic colloid layer, the hydrazide compound is dissolved in appropriate water and an organic solvent and then added, or a solution dissolved in an organic solvent is added to the gelatin layer. Alternatively, a method of adding after being dispersed in a hydrophilic colloid matrix such as a gelatin derivative or a method of adding after being dispersed in latex can be mentioned. The present invention may use any of these methods.

本発明において用いられるヒドラジド化合物は、単独で
用いても好ましい画像特性を得ることができる。また、
このヒドラジド化合物は、2種以上を適宜の比率で組合
わせて用いても画像特性に悪影響を与えることはない。
The hydrazide compound used in the present invention can obtain preferable image characteristics even when used alone. Also,
Two or more of these hydrazide compounds may be used in combination in an appropriate ratio without adversely affecting image characteristics.

さらに本発明のヒドラジド化合物と本発明のヒドラジド
化合物を適宜の割合で用いてもよい。
Furthermore, the hydrazide compound of the present invention and the hydrazide compound of the present invention may be used in an appropriate ratio.

本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係わ
るヒドラジド化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加する
ことがあげられる。また本発明の別の好ましい実施態様
似おいては、ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド
層に直接隣接する親水性コロイド層、または中間層を介
して隣接する親水性コロイド層に添加される。
One preferred embodiment of the present invention is to add the hydrazide compound according to the present invention to a silver halide emulsion layer. In another preferred embodiment of the present invention, the hydrophilic colloid layer is added to a hydrophilic colloid layer directly adjacent to a hydrophilic colloid layer containing a silver halide emulsion layer, or to an adjacent hydrophilic colloid layer via an intermediate layer. .

また別の態様としては、本発明に係わるヒドラジド化合
物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解して
オーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材料の
ハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布し
てハロゲン化銀写真感光材料に含有せしめてもよい。
In another embodiment, the hydrazide compound according to the present invention is dissolved in a suitable organic solvent, for example, alcohols such as methanol and ethanol, ethers, esters, etc., and a silver halide photographic light-sensitive material is prepared by an overcoating method or the like. It may be incorporated into the silver halide photographic material by directly coating the outermost layer on the side of the silver halide emulsion layer.

本発明において、本発明のヒドラジド化合物と結合し、
本発明のヒドラジド化合物の親水性を下げるアニオンを
併用すると、特に好ましい結果が得られる。このような
アニオンとしては例えば、過塩素酸等の無機酸の酸根、
スルホン酸、スルポン酸等の有機酸の一根、アニオン系
の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニオン
等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ド
デシルベンゼンスルホン酸アニオン類、アルキルナフタ
レンスルホン酸アニオン類、ラウリルスルフェートアユ
エン類、テトラフェニールボロン類、ジ2−エチルへキ
ンルスルホサクシネートアニオン類等のジアルキルスル
フオサクシネートアニオン、セチルポリエタノキシサル
フェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エス
テルアニオン、ステアリン酸アニオン類等、ポリアクリ
ル酸アニオン類等をあげることができる。
In the present invention, combined with the hydrazide compound of the present invention,
Particularly favorable results are obtained when an anion that reduces the hydrophilicity of the hydrazide compound of the present invention is used in combination. Examples of such anions include acid groups of inorganic acids such as perchloric acid,
A base of organic acids such as sulfonic acid and sulfonic acid, anionic activators, specifically lower alkylbenzenesulfonic acid anions such as p-toluenesulfonic acid anions, p-dodecylbenzenesulfonic acid anions, alkylnaphthalenesulfonic acids Anions, dialkyl sulfosuccinate anions such as lauryl sulfate ayunes, tetraphenyl borons, di-2-ethyl hequinyl sulfosuccinate anions, polyether alcohol sulfate ester anions such as cetyl polyethanoxy sulfate anions , stearate anions, polyacrylate anions, and the like.

このようなアニオンは、本発明のヒドラジド化合物と予
め混合した後、親水性コロイド層併用添加してもよいし
、また、単独で本発明のテドゾリウムを含有しないハロ
ゲン化銀乳剤層また親水性コロイド層に添加することが
できる。
Such anions may be mixed in advance with the hydrazide compound of the present invention and then added together with the hydrophilic colloid layer, or may be added alone to the tedozolium-free silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer of the present invention. can be added to.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀としてはAgCQ/ A9Br比が100/ 0
乃至2/98の塩臭化銀が好ましく 、AgCQ/ A
9Br比90/10乃至50/ 50の組成を有するも
のが特に好ましい。
The silver halide used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention has an AgCQ/A9Br ratio of 100/0.
Silver chlorobromide of 2/98 to 2/98 is preferred, AgCQ/A
Particularly preferred are those having a 9Br ratio of 90/10 to 50/50.

またハロゲン化銀粒子の平均粒径が0.10μ講乃至0
.40μmであり、(粒径分布の標準偏差)/(平均粒
径)X100で表わされる粒径分布の変動係数が15%
以下の単分散型のものが好ましい。
In addition, the average grain size of silver halide grains is 0.10 μm to 0.
.. 40 μm, and the coefficient of variation of the particle size distribution expressed as (standard deviation of particle size distribution)/(average particle size) x 100 is 15%.
The following monodisperse types are preferred.

本発明において用いられるハロゲン化銀写真感光材料は
写真感光材料業界で公知の方法を用いる事が出来る。即
ち写真乳剤調製法、増感法、添加剤、親水性コロイド、
バインダー、支持体、処理剤、処理法等である。
The silver halide photographic material used in the present invention can be produced by methods known in the photographic material industry. Namely, photographic emulsion preparation methods, sensitization methods, additives, hydrophilic colloids,
These include binders, supports, processing agents, processing methods, etc.

本発明の黒白用ハロゲン化銀写真感光材料の像生薬とし
ては次のものがあげられる。
Examples of the imaging agents for the black and white silver halide photographic light-sensitive material of the present invention include the following.

HO−e CH−CHin OH型現像主薬の代表的な
ものとしては、ハイドロキノンがある。
HO-e CH-CHin A typical example of an OH type developing agent is hydroquinone.

また、HOfCH= CHケn NH,型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールまたはアミノピ
ラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ・6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−
クロロ−6・フェニルフェノール、4−アミノ−2−7
二二ルフエノール、3.4−ジアミノフェノール、3−
メチル−4,6−ジアミノフェノール、214−シアミ
ルゾルシノール、2,4.6−ドリアミノフエツールー
、N−メチル−p−アミンフェノール、N−β−ヒドロ
キシエチル−p−アミンフェノール、p・ヒドロキシフ
ェニルアミノ酢酸、2−アミノナフトール等がある。
In addition, as the HOfCH=CHkenNH, type developer, ortho and rose aminophenol or aminopyrazolone are typical, and 4-aminophenol, 2-aminophenol,
-Amino 6-phenylphenol, 2-amino-4-
Chloro-6 phenylphenol, 4-amino-2-7
Dynylphenol, 3,4-diaminophenol, 3-
Methyl-4,6-diaminophenol, 214-cyamylsorcinol, 2,4,6-dolyaminofetu, N-methyl-p-aminephenol, N-β-hydroxyethyl-p-aminephenol, p. Examples include hydroxyphenylaminoacetic acid and 2-aminonaphthol.

ペテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4.4−ジメチルー3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、1−7zニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等をあげるこ
とができる。
Examples of petrocyclic type developers include l-phenyl-3-pyrazolidone, ■-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, l-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, and 1-7z- 4-methyl-
Examples include 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone.

その他、T、H,ジェームス著、ザ・セオリイオブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of tbe Photographic P
rocess。
Other books include The Theory of the Photographic Process, 4th edition, by T. H. James.
ory of tbe Photographic P
rocess.

Fourth Edition)第291〜334頁及
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3.100頁(1951)等に記載されているごとき
現像剤が本発明のハロゲン化銀写真感光材料に有効に使
用し得るものである。
Fourth Edition, pages 291-334 and Journal of the American Chemical Society.
an Chemical 5ociety) Volume 73,
3.100 (1951) etc. can be effectively used in the silver halide photographic material of the present invention.

これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせ
てもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の処理に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸カリ、亜硫酸アンモン等の
亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわれることはな
く、本発明の1つの特徴としてあげることができる。そ
の他−般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ、
炭酸アルカリまたはアミンなどによるpHの調整とバッ
ファー機能をもたせること、及びブロムカリなど無機現
像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有機現像抑制剤
、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタ
ノール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアルキ
レンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスルホ
ン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類または前記化合
物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルアル
デヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸
ナトリウム、等のイオン強度調整剤等の添加を行うこと
は任意である。
These developers may be used alone or in combination of two or more types, but it is preferable to use two or more types in combination. Furthermore, even if a sulfite salt such as potassium sulfite or ammonium sulfite is used as a preservative in the developer used for processing the photosensitive material of the invention, the effects of the invention will not be impaired, and one of the effects of the invention is It can be mentioned as a feature. Others - caustic alkali, such as those used in general black and white developers;
pH adjustment and buffer function using alkali carbonates or amines, inorganic development inhibitors such as brompotali, organic development inhibitors such as benzotriazole, metal ion scavengers such as ethylenediaminetetraacetic acid, methanol, ethanol, benzyl alcohol, Development accelerators such as polyalkylene oxide, sodium alkylaryl sulfonates, surfactants such as natural saponins, sugars or alkyl esters of the above compounds, hardening agents such as glutaraldehyde, formalin, glyoxal, sodium sulfate, etc. It is optional to add an ionic strength regulator or the like.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
極めて保存安定性に優れた感光特性を得ることができる
The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention can be developed with a developer containing the above-mentioned development inhibitor, thereby obtaining photosensitive characteristics with extremely excellent storage stability.

上記の組成になる現像液のpH値は9〜13であるが、
保恒性および写真特性上からはpH値は10〜12の範
囲が好ましい。
The pH value of the developer having the above composition is 9 to 13,
From the viewpoint of stability and photographic properties, the pH value is preferably in the range of 10 to 12.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することが出来る。処理温度は、例えば現像温度は5
0℃以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、また
現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが、
特に好ましくは40秒以内が好結果をもたらすことが多
い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定
、定着、さらに必要に応じて前高膜、中和等の工程を採
用することは任意であり、ことらは適宜省略することも
できる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像な
どいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現
像など機械現像であってもよい。
The silver halide photographic material of the present invention can be processed under various conditions. The processing temperature is, for example, the development temperature is 5
The temperature is preferably 0°C or lower, particularly preferably around 30°C, and the development time is generally completed within 3 minutes.
Particularly preferably within 40 seconds often brings about good results. Furthermore, it is optional to employ processing steps other than development, such as washing with water, stopping, stabilizing, fixing, and if necessary, pre-coating, neutralizing, etc., and these steps can be omitted as appropriate. Furthermore, these treatments may be so-called manual development such as plate development or frame development, or mechanical development such as roller development or hanger development.

■実施例] 次に示すA液、B液、C液の溶液を用いて塩臭化銀乳剤
を調整した。
[Example] A silver chlorobromide emulsion was prepared using the following solutions of liquid A, liquid B, and liquid C.

〈溶液A〉 オセインゼラチン           179ポリイ
ソグロビレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩   5mff1θ%エタノール溶液蒸留
水      1280cc〈溶液B〉 硝酸銀               1709蒸留水
               410mQく溶液C〉 塩化ナトリウム          40.9g臭化カ
リウム            35.7gボリイソプ
ロピレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩lθ%
エタノール溶液   3mffオセインゼラチン   
        11g蒸留水           
   40.7raQ溶液Aを40℃に@温した後EA
g値が160mvになる様に塩化ナトリウムを添加した
<Solution A> Ossein gelatin 179 Polyisoglobylene-polyethylene oxydisuccinic acid ester sodium salt 5 mff 1θ% ethanol solution Distilled water 1280 cc <Solution B> Silver nitrate 1709 Distilled water 410 mQ Solution C> Sodium chloride 40.9 g Potassium bromide 35 .7g polyisopropylene oxydisuccinate sodium salt lθ%
Ethanol solution 3mff ossein gelatin
11g distilled water
EA after heating 40.7raQ solution A to 40℃
Sodium chloride was added so that the g value was 160 mv.

次に特開昭57−92523号と同57−92524号
記載の混合攪拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。
Next, solutions B and C were added by a double jet method using the mixer described in JP-A-57-92523 and JP-A-57-92524.

B液、C液を添加終了後、乳剤は10分間オストワルド
熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後、
オセインゼラチンの水溶液600m1オセインゼラチン
309含有)を加えて、55℃30分間攪拌により分散
した後、750IIQに調製した。
After addition of liquids B and C, the emulsion was subjected to Ostwald ripening for 10 minutes, and then desalted and washed with water in a conventional manner.
After adding 600 ml of an aqueous solution of ossein gelatin (containing ossein gelatin 309) and dispersing by stirring at 55° C. for 30 minutes, the solution was adjusted to 750 IIQ.

次にこの乳剤に対して全硫黄増感を施し、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザインデンを加えた。乳剤を分割し、表1に示した様
に本発明による一般式[1]、[2]、[3]の化合物
、または対比のため下記に示した増感色素([4]−(
a)〜(k)、3 X 1G−’モル/Ag1モルを各
々添加し色増感し、さらに各乳剤にヒドラジド化合物(
2]−8を700+ag/Ag 1モル添加し、n−ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム600mg/ A
g 1モル、スチレン・マレイン酸共重合体2g/Ag
1モルを加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上
にAg3.5g/lI2、ゼラチン量2.09/ l”
になる様に塗布した。その際ゼラチン量1.0g/m’
になる様に展剤としてl−デシル−2−(3−インペン
チル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダを30+1
g/+*”s硬膜剤としてホルマリン25119/ r
a”を含む硬膜保護層を重層塗表 [4]−(d) [4] (e) [41 (f) H 比較増感色素 [4 ]−(a) [41 (b) [4]−(c) [4] −(g) [4]−(h) [4 ] (i) [4]−(D [4]−(k) 上記試料片を下記の処方による現像液及び市販の定着液
とを用いて現像タンク容量40I2の自動現像機にて処
理した。
Next, this emulsion was subjected to total sulfur sensitization, and 6-methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-chitrazaindene was added as a stabilizer. The emulsion was divided, and as shown in Table 1, compounds of the general formulas [1], [2], [3] according to the present invention, or the sensitizing dyes ([4]-(
a) to (k), 3 x 1 G-' mol/Ag 1 mol were added to each for color sensitization, and a hydrazide compound (
2] -8 was added at 700+ag/Ag 1 mol, and sodium n-dodecylbenzenesulfonate was added at 600mg/A.
g 1 mol, styrene-maleic acid copolymer 2 g/Ag
1 mol of Ag and 3.5 g of Ag/lI2 on the polyethylene terephthalate film, gelatin amount of 2.09/l"
I applied it to make it look like this. At that time, the amount of gelatin is 1.0g/m'
Sodium l-decyl-2-(3-inpentyl)succinate-2-sulfonate was added as a vehicle to 30+1
g/+*”s Formalin 25119/r as a hardening agent
Multi-layer coating of hard film protective layer containing "a" [4] - (d) [4] (e) [41 (f) H Comparative sensitizing dye [4] - (a) [41 (b) [4] -(c) [4] -(g) [4]-(h) [4] (i) [4]-(D [4]-(k) The above sample piece was treated with a developer having the following formulation and a commercially available The film was processed using an automatic developing machine with a developing tank capacity of 40 I2 using a fixer.

[現像処理条件] (工 程)  (温 度) 現  像      40℃ 定  着      35℃ 水  洗      30°C 乾  燥      50℃ [現像液組成] (!Il成A) (時 間) 15秒 10秒 10秒 10秒 しU 得られた試料それぞれ3片をとり、1片には感光針を用
い光学ウェッジを掛けてタングステン先によって階段露
光を与え、他の1片には大日本スクリーン製造(株)社
製コンタクトスクリーンGNNo、 2 (150L 
)を用いキセノン光により網掛は露光を行った。また、
球りの1片は露光をかけずに次の処理をした。
[Development processing conditions] (Process) (Temperature) Development 40°C Fixing 35°C Washing with water 30°C Drying 50°C [Developer composition] (!Il composition A) (Time) 15 seconds 10 seconds 10 Wait for 10 seconds and take 3 pieces of each sample. One piece is exposed to stepwise light using a tungsten tip using a photosensitive needle and an optical wedge. contact screen GNNo. 2 (150L
) was used to expose the shaded areas to xenon light. Also,
One piece of the ball was subjected to the following processing without being exposed to light.

(、リ ン 酸 (組成り) 5g 現像液の使用時に純水500mQ中に上記組成A1組成
りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
(, Phosphoric acid (composition) 5g When using a developer, it was dissolved in the order of the above composition A1 in 500mQ of pure water and finished to 1Q and used.

現像済試料でウェッジ露光をかけたものについては写真
特性曲線を書き光学濃度2.5のところの感度を試料N
o、Iを基準で相対値を算出し、ガンマは光学濃度1.
0から2.5までの直線部のjanθ値を示した。
For developed samples subjected to wedge exposure, draw a photographic characteristic curve and calculate the sensitivity at an optical density of 2.5 for sample N.
Relative values are calculated based on o and I, and gamma is an optical density of 1.
The janθ values of the straight line portion from 0 to 2.5 are shown.

キャノン光を用い、印刷製版用カメラで組撮影を行った
ものについては、形成された網の品質(ドツト品質)を
評価した。
The quality of the formed mesh (dot quality) was evaluated for those that were photographed using a Canon optical camera for printing and plate making.

ドツト品質は網点部面積とクリア部面積が等しいいわゆ
る50%ドツトについては網点の周辺に生ずるフリンジ
(ボケ)の状態を目視判定しフリンジの小なるものを5
とした5段階表示で評価した。
For dot quality, for so-called 50% dots where the area of the halftone area and the clear area are equal, the state of the fringe (blur) that occurs around the halftone dot is visually judged, and the smaller fringe is evaluated as 5.
Evaluation was made on a five-point scale.

即ち゛5パは優れていることであり、1“は極めて悪い
ことである。50%ドツト品質が“3Nを下回る場合、
一般にこれを許容することができない。
In other words, 5% is excellent, and 1 is extremely poor. If the 50% dot quality is less than 3N,
Generally this cannot be tolerated.

また、露光をかけずに処理をした試料については4枚重
ねをし、フィルムの残色を目視評価し5段階評価を行い
、°“5“は無色、′l#は強い橙色系の残色を示した
。一般製版用として“3″を下回る残色は大きな欠点と
されるレベルである。
In addition, for samples processed without exposure, 4 films were stacked and the remaining color of the film was visually evaluated and evaluated on a 5-point scale. showed that. For general plate making, residual color below "3" is considered to be a major drawback.

表2に示した様に本発明による一般式[4]で示される
増感色素によって色増感され試料のみ、相対感度が高く
、極めて硬調で、しかも残色の少ない試料であることが
分かる。
As shown in Table 2, it can be seen that only the samples color-sensitized by the sensitizing dye represented by the general formula [4] according to the present invention have high relative sensitivity, extremely high contrast, and have little residual color.

〈実施例2〉 実施例1と全く同様な方法で試料を作成した。<Example 2> A sample was prepared in exactly the same manner as in Example 1.

但し増感色素には[4]−4と[4]−14及び[4]
−24を表3に示した量で添加を行った。また、ヒドラ
ジド塩としては本発明にかかる一般式[1]、[2]。
However, the sensitizing dyes include [4]-4, [4]-14, and [4]
-24 was added in the amount shown in Table 3. Further, as hydrazide salts, general formulas [1] and [2] according to the present invention are used.

[3]のもの、対比化合物(a”e)を表3のように7
0019/Ag1モル添加した。試料作成後実施例1と
同一に3片の試料をそれぞれ、ウェッジ露光網掛は露光
および残色試料とした。
[3], the contrast compound (a”e) is 7 as shown in Table 3.
0019/Ag1 mol was added. After preparing the samples, three pieces of samples were prepared in the same manner as in Example 1, and the wedge-exposed shading indicates exposed and residual color samples.

(a) (b) (c) (d) 対比ヒ ドラジド化合物の構造は下記の通りであ(e) 表 式[4]で示される化合物は類似の構造を有する増感色
素とは異なり、一般弐[1]、[2’l、[3]で示さ
れる化合物と組み合せ使用する場合において特異的に高
コントラストの画像をyflIXシ、且つ色素汚染が極
めて少ない。これにより亜硫酸イオン濃度の高い保恒性
の良好な現像液による短時間の剋理によっても極めて高
いコントラストの画像が得られ、且つ処理後の色素汚染
の極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料を製造するこ
とが可能となった。
(a) (b) (c) (d) The structure of the contrast hydrazide compound is as follows. (e) The compound represented by formula [4] is different from the sensitizing dye having a similar structure, and When used in combination with the compounds shown in [1], [2'l, and [3], yflIX produces specifically high-contrast images with extremely little dye staining. As a result, a silver halide photographic light-sensitive material is produced which can produce an image of extremely high contrast even by short-time processing using a developer with a high sulfite ion concentration and good stability, and which has extremely little dye staining after processing. It became possible.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 支持体と該支持体上に塗設された少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、前記親水性コロイド層に
含まれるハロゲン化銀粒子が下記一般式[4]で示され
る化合物によって分光増感され、かつ前記親水性コロイ
ド層が下記一般式[1]、[2]、[3]で示される化
合物の少くとも1種を含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。 一般式[4] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Zはオキサゾール核、ベンゾオキサゾール核ま
たはナフトオキサゾール核を形成するのに必要な非金属
原子群を表わす。R^4^1は無置換または置換アルキ
ル基を表わす。R^4^2はアルコキシカルボニルアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ
アルキル基、カルバモイルアルキル基、ヒドロキシフェ
ニル基、ヒドロキシアルキルフェニル基、▲数式、化学
式、表等があります▼を表わす。ここでAはニトリル基
、アルキルスルホニル基、スルホンアミド基、アルキル
スルホニルアミノ基、または低級アルコキシ基を表わし
、nは1〜4の整数値を表す。R^4^3、R^4^4
は同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、塩素原子またはカルボキシル基を
表す。] 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
っても、異なっていてもよい。)一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を、R_2_2は水素原子、置換してもよいアルコ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリー
ルオキシ基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシ
ル基、またはスルフィン酸基を表す。)一般式[3] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_3_1は
置換アルキル基を表す。)
[Scope of Claims] A silver halide photographic material comprising a support and a hydrophilic colloid layer coated on the support, including at least one silver halide emulsion layer, wherein the hydrophilic colloid layer contains: The silver halide grains are spectrally sensitized with a compound represented by the following general formula [4], and the hydrophilic colloid layer contains at least one of the compounds represented by the following general formulas [1], [2], and [3]. A silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing one type of silver halide photographic material. General Formula [4] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, Z represents a group of nonmetallic atoms necessary to form an oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, or naphthoxazole nucleus. R^4^1 represents an unsubstituted or substituted alkyl group. R^4^2 represents an alkoxycarbonylalkyl group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxyalkyl group, a carbamoylalkyl group, a hydroxyphenyl group, a hydroxyalkylphenyl group, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼. Here, A represents a nitrile group, an alkylsulfonyl group, a sulfonamido group, an alkylsulfonylamino group, or a lower alkoxy group, and n represents an integer value of 1 to 4. R^4^3, R^4^4
may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a chlorine atom or a carboxyl group. ] General formula [1] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R_1 and R_2 represent an aryl group or a heterocyclic group, R represents an organic bonding group, n is 0 to 6, m is 0
or 1, and when n is 2 or more, each R may be the same or different. ) General formula [2] ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. Represents an oxy group, an amino group, or an aryloxy group, and P_1 and P_2 represent a hydrogen atom, an acyl group, or a sulfinic acid group.) General formula [3] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, Ar represents an aryl group containing at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption promoting group, and R_3_1 represents a substituted alkyl group.)
JP357288A 1987-10-19 1988-01-11 Silver halide photographic sensitive material having high contrast Pending JPH0238A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP357288A JPH0238A (en) 1987-10-19 1988-01-11 Silver halide photographic sensitive material having high contrast

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26320187 1987-10-19
JP62-263201 1987-10-19
JP357288A JPH0238A (en) 1987-10-19 1988-01-11 Silver halide photographic sensitive material having high contrast

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0238A true JPH0238A (en) 1990-01-05

Family

ID=26337191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP357288A Pending JPH0238A (en) 1987-10-19 1988-01-11 Silver halide photographic sensitive material having high contrast

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0238A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102330872A (en) * 2011-07-27 2012-01-25 中国电力工程顾问集团西北电力设计院 Anti-freezing method for buried pipeline

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102330872A (en) * 2011-07-27 2012-01-25 中国电力工程顾问集团西北电力设计院 Anti-freezing method for buried pipeline

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0238A (en) Silver halide photographic sensitive material having high contrast
JPS62175753A (en) Color image forming method
US4307185A (en) Photographic silver halide emulsions
JPH0240A (en) Silver halide photographic sensitive material having high contrast
JPH0252A (en) High contrast image forming method
JPS63271335A (en) Silver halide emulsion and photographic sensitive material using same
JPH02103537A (en) Image forming method
JPH083606B2 (en) Spectrally sensitized silver halide photographic material
JPH0748102B2 (en) Spectrally sensitized silver halide photographic material
JP2822138B2 (en) Silver halide photographic material
JP2683743B2 (en) Silver halide photographic material
JPS61270745A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPS62265648A (en) Spectrally sensitized silver halide photographic sensitive material
JPH0354549A (en) High-contrast silver halide photographic sensitive material
JPH04131842A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPS6396651A (en) Spectrally sensitized silver halide photographic sensitive material of high sensitivity and low residual color
JPS62265658A (en) Spectrally sensitized silver halide photographic sensitive material
JPS63106648A (en) Spectrally sensitized silver halide photographic sensitive material
JPH01179941A (en) High-contrast image forming method
JPH053570B2 (en)
JPH0336541A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPS62251742A (en) Silver halide photographic sensitive material containing merocyanine dye
JPH0588811B2 (en)
JPH03253844A (en) Silver halide photographic sensitive material with glass base
JPS62265655A (en) Spectrally sensitized silver halide photographic sensitive material