JPH0238A - 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
高コントラストハロゲン化銀写真感光材料Info
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 190
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 65
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims abstract description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 10
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 58
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 7
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004656 alkyl sulfonylamino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005242 carbamoyl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 5
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 3
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 claims description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 17
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 11
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 11
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 11
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 11
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 8
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 6
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 5
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 1-Phenylurea Chemical compound NC(=O)NC1=CC=CC=C1 LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical group [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UPPYOQWUJKAFSG-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2OC=NC2=C1 UPPYOQWUJKAFSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCYKTJONLYIENW-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazol-5-yl acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C2OC=NC2=C1 QCYKTJONLYIENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPKOCFTZJRJTQL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diamino-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(N)C=C1N DPKOCFTZJRJTQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQHGAEQBYRZJIX-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-chloro-6-phenylphenol Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O XQHGAEQBYRZJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPKNFEVLZVJGBM-UHFFFAOYSA-N 2-aminonaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(N)=CC=C21 QPKNFEVLZVJGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSKBOTPKGOLKID-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-2-hydroxyacetic acid Chemical compound OC(=O)C(O)NC1=CC=CC=C1 JSKBOTPKGOLKID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- OVOZYARDXPHRDL-UHFFFAOYSA-N 3,4-diaminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1N OVOZYARDXPHRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWJYHHBUMICTP-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1(C)CNNC1=O FJWJYHHBUMICTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVMDYSGSRGLSCG-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound OCC1CNNC1=O SVMDYSGSRGLSCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSFKCGABINPZRK-UHFFFAOYSA-N 4-aminopyrazol-3-one Chemical compound NC1=CN=NC1=O XSFKCGABINPZRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- PUMREIFKTMLCAF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-oxazole Chemical compound CC1=COC=N1 PUMREIFKTMLCAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JXRGUPLJCCDGKG-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzenesulfonyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 JXRGUPLJCCDGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMVPXBDOWDXXEN-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 KMVPXBDOWDXXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTFMLYSGIKHECT-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,3-oxazole Chemical compound O1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 NTFMLYSGIKHECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNMLYACWNIEIG-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1OC=N2 RWNMLYACWNIEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGOGTWDYLFKOHI-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1,3-benzoxazole Chemical compound BrC1=CC=C2OC=NC2=C1 PGOGTWDYLFKOHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWMQXAYLHOSRKA-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoxazole Chemical compound ClC1=CC=C2OC=NC2=C1 VWMQXAYLHOSRKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTXHXNYRARAIBV-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1,3-benzoxazole Chemical compound CCC1=CC=C2OC=NC2=C1 FTXHXNYRARAIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQKXTVYGHYXFX-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3-benzoxazole Chemical compound COC1=CC=C2OC=NC2=C1 IQQKXTVYGHYXFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzoxazole Chemical compound CC1=CC=C2OC=NC2=C1 UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYMHCFYHVYGFMS-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-oxazole Chemical compound CC1=CN=CO1 ZYMHCFYHVYGFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C=1C=C2OC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNQCZXWMJMGQHC-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-5-methyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=C(Cl)C(C)=CC2=C1OC=N2 SNQCZXWMJMGQHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZWNDAUMBWLYOQ-UHFFFAOYSA-N 6-methylbenzoxazole Chemical compound CC1=CC=C2N=COC2=C1 SZWNDAUMBWLYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJUQHJNPIQOMP-UHFFFAOYSA-N C(#N)BrCl Chemical compound C(#N)BrCl WLJUQHJNPIQOMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCGKYAORRXGWMN-UHFFFAOYSA-N CNS(=O)=O Chemical compound CNS(=O)=O KCGKYAORRXGWMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYECOJGRJDOGPP-UHFFFAOYSA-N Ethylurea Chemical compound CCNC(N)=O RYECOJGRJDOGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N N-ethylthiourea Chemical compound CCNC(N)=S GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N N-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008881 Oenanthe javanica Species 0.000 description 1
- 238000001016 Ostwald ripening Methods 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005195 alkyl amino carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N benalaxyl-M Chemical compound CC=1C=CC=C(C)C=1N([C@H](C)C(=O)OC)C(=O)CC1=CC=CC=C1 CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000006627 ethoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- NYONLFVSTRIQFN-UHFFFAOYSA-N ethyl 1,3-benzoxazole-5-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C2OC=NC2=C1 NYONLFVSTRIQFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000687 hydroquinonyl group Chemical group C1(O)=C(C=C(O)C=C1)* 0.000 description 1
- 239000012216 imaging agent Substances 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N p-toluenesulfonic acid Substances CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 235000017709 saponins Nutrition 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- XGMYMWYPSYIPQB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-(1,2-dicarboxylatoethoxy)butanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(C([O-])=O)OC(C([O-])=O)CC([O-])=O XGMYMWYPSYIPQB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は分光増感され、全整色に感度をもつ)\ロゲン
化銀写真感光材料に関するものであり、特に緑色光およ
び赤色光感度が高くコントラストの高い網点画像を比較
的迅速現像においても得られ、且つ処理後に色素汚染の
極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料に関するもので
ある。
化銀写真感光材料に関するものであり、特に緑色光およ
び赤色光感度が高くコントラストの高い網点画像を比較
的迅速現像においても得られ、且つ処理後に色素汚染の
極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料に関するもので
ある。
[従来の技術]
ハロゲン化銀感光材料を用いて、きわめてコントラスト
の高い写真画像を形成することができることは公知であ
る。例えば、ハロゲン化銀粒子の平均粒径が約0.5μ
m以下の微粒子で、粒度分布が狭く、且つ粒子の形が揃
っており、塩化銀の含有率が例えば50モル%以上とい
うように高い塩臭化銀または塩沃化銀乳剤よりなるハロ
ゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオン濃度の低い、現像主
薬としてハイドロキノンのみを含有するアルカリ性現像
液で処理することによりコントラストの高い網点画像あ
るいは線画を得る方法が知られている。
の高い写真画像を形成することができることは公知であ
る。例えば、ハロゲン化銀粒子の平均粒径が約0.5μ
m以下の微粒子で、粒度分布が狭く、且つ粒子の形が揃
っており、塩化銀の含有率が例えば50モル%以上とい
うように高い塩臭化銀または塩沃化銀乳剤よりなるハロ
ゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオン濃度の低い、現像主
薬としてハイドロキノンのみを含有するアルカリ性現像
液で処理することによりコントラストの高い網点画像あ
るいは線画を得る方法が知られている。
この種のハロゲン化銀感光材料は、リス型ハロゲン化銀
写真感光材料として知られており、通常写真製版過程で
、原稿の連続階調の濃度変化を、この濃度に比例する大
小の面積を有する網点の集合に変換するのに用いられて
いる。このような変換は、リスをハロゲン化銀写真感光
材料を用い、交叉線スクリーンまたはコンタクトスクリ
ーンを介して原稿の撮影を行い、次いで亜硫酸イオン濃
度が非常に低く、シかもハイドロキノン現像主薬のみを
含有するいわゆるリス型現像液で現像することによって
網点画像を形成させている。このリス型ハロゲン化銀写
真感光材料は、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液、
例えば市販の印画紙用現像液で処理しても、ガンマはた
かだか5ないし6であり、網点形成上、最も避けなけれ
ばならないフリンジも多発するので、網点ネガ/ポジ用
には、上記リスを現像液との組み合わせが不可欠である
とされている。このリスを現像液については、ジエーー
工−・シイ−・エールのジャーナル・オプ・ザ・フラン
クリン・インステイテユート(J、A。
写真感光材料として知られており、通常写真製版過程で
、原稿の連続階調の濃度変化を、この濃度に比例する大
小の面積を有する網点の集合に変換するのに用いられて
いる。このような変換は、リスをハロゲン化銀写真感光
材料を用い、交叉線スクリーンまたはコンタクトスクリ
ーンを介して原稿の撮影を行い、次いで亜硫酸イオン濃
度が非常に低く、シかもハイドロキノン現像主薬のみを
含有するいわゆるリス型現像液で現像することによって
網点画像を形成させている。このリス型ハロゲン化銀写
真感光材料は、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液、
例えば市販の印画紙用現像液で処理しても、ガンマはた
かだか5ないし6であり、網点形成上、最も避けなけれ
ばならないフリンジも多発するので、網点ネガ/ポジ用
には、上記リスを現像液との組み合わせが不可欠である
とされている。このリスを現像液については、ジエーー
工−・シイ−・エールのジャーナル・オプ・ザ・フラン
クリン・インステイテユート(J、A。
CYule : J、 Franklin In5tr
tuts)、第239巻、第221頁(1945)に
詳細に記載されており、実質的には、ハイドロキノンの
みを現像主薬として含み、現像主薬の酸化防止剤として
の役目を果たす亜硫酸イオン濃度が低い現像液である。
tuts)、第239巻、第221頁(1945)に
詳細に記載されており、実質的には、ハイドロキノンの
みを現像主薬として含み、現像主薬の酸化防止剤として
の役目を果たす亜硫酸イオン濃度が低い現像液である。
このような現像液は、その保恒性が悪く自動酸化を受け
やすいから、製版業者が常に品質の高い網ネガあるいは
網ポジ画像を得るためには、経時で減少している現像液
の活性度を一定に保つための現像液の管理が必要とされ
るが、その操作が煩雑になることは避けられない。
やすいから、製版業者が常に品質の高い網ネガあるいは
網ポジ画像を得るためには、経時で減少している現像液
の活性度を一定に保つための現像液の管理が必要とされ
るが、その操作が煩雑になることは避けられない。
さらにまた、リス現像処理においては、活性度を一定に
保つ現像液管理の他に、処理スピードが遅いという、2
つの大きな短所がある。
保つ現像液管理の他に、処理スピードが遅いという、2
つの大きな短所がある。
近年の印刷製版の流れとして、印刷プロセスの短縮化と
短時間化があげられ、製版フィルムの処理スピードに対
しての要望が高まっている。
短時間化があげられ、製版フィルムの処理スピードに対
しての要望が高まっている。
保恒性の高い現像液を用いて製版に適するような極めて
高いコントラストの画像を得る技術として、例えば特願
昭59−240147号明細書等にはテトラゾリウム塩
を含むハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法が開示さ
れている。この方法では亜硫酸イオン濃度の高い安定な
現像液を使用し得るとともに、従来のリス現像では行い
得なかった現像時間30秒前後、乾燥完了までの所要時
間90秒乃至100秒の迅速処理が可能である。
高いコントラストの画像を得る技術として、例えば特願
昭59−240147号明細書等にはテトラゾリウム塩
を含むハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法が開示さ
れている。この方法では亜硫酸イオン濃度の高い安定な
現像液を使用し得るとともに、従来のリス現像では行い
得なかった現像時間30秒前後、乾燥完了までの所要時
間90秒乃至100秒の迅速処理が可能である。
一方製版用としてのハロゲン化銀写真感光材料は一般に
緑色部に感光性を有するいわゆるオルソタイプの感光性
をもつことが要求される。
緑色部に感光性を有するいわゆるオルソタイプの感光性
をもつことが要求される。
感光性ハロゲン化銀乳剤は単独ではその感光波長域が狭
いので、その感光波長域を長波長側へ拡大することを目
的とした分光増感剤が用いられている。例えば、緑色光
に対する感度を付与するものとして、特公昭38−78
28号、同40−392号、同43−10251号、同
43−22884号、英国特許815,172号、同9
55゜961号、同955,912号、同142,22
8号、米国特許1,942゜854号、同1,950.
876号、同1,957,869号、同2,238,2
31号、同2,521,705号、同2,647,05
9号、特公昭43−2606号、同44−3644号、
同46−18106号、同46−18108号、同48
−15032号、同49−33782号、同り4−34
252号、同58−52574号、米国特許2,839
,403号、同3,567.458号、同3゜625.
698号等の明細書に記載されたシアニン色素並びにメ
ロシアニン色素があげられる。
いので、その感光波長域を長波長側へ拡大することを目
的とした分光増感剤が用いられている。例えば、緑色光
に対する感度を付与するものとして、特公昭38−78
28号、同40−392号、同43−10251号、同
43−22884号、英国特許815,172号、同9
55゜961号、同955,912号、同142,22
8号、米国特許1,942゜854号、同1,950.
876号、同1,957,869号、同2,238,2
31号、同2,521,705号、同2,647,05
9号、特公昭43−2606号、同44−3644号、
同46−18106号、同46−18108号、同48
−15032号、同49−33782号、同り4−34
252号、同58−52574号、米国特許2,839
,403号、同3,567.458号、同3゜625.
698号等の明細書に記載されたシアニン色素並びにメ
ロシアニン色素があげられる。
[発明が解決しようとする問題点]
これらの分光増感剤は、特定の波長領域の感度を高める
ということと同時に、−大凶な特性として例えば、 (1) 他の添加剤の影響を受けたり、添加剤の効果
に影響を与えないこと (2)日時が経過した場合にも感度低下やカプリの増大
等の写真特性変化を生じさせないこと、 (3)処理後に色素汚染を生じさせないこと、等の性質
が要求されるが、前記のような比較的迅速な現像を行っ
た場合、処理後の色素汚染が大きくなり実用上大きな問
題となっている。
ということと同時に、−大凶な特性として例えば、 (1) 他の添加剤の影響を受けたり、添加剤の効果
に影響を与えないこと (2)日時が経過した場合にも感度低下やカプリの増大
等の写真特性変化を生じさせないこと、 (3)処理後に色素汚染を生じさせないこと、等の性質
が要求されるが、前記のような比較的迅速な現像を行っ
た場合、処理後の色素汚染が大きくなり実用上大きな問
題となっている。
色素汚染を減するためにはゼラチン等の親水性コロイド
に対する染着性が少なく、且つ処理液中に流出し易い、
溶解性の高い分光増感剤を使用すればよく、従来も種々
の化合物が提案されているが、製版用として要求される
ような極めて高いコントラストを与える現像効果には分
光増感剤が大きな影響を及ぼす場合が多く、コントラス
トを低下させるなどの問題を生じて通常の感光材料にお
ける色素汚れ解決手段を高コントラスト現像を行うハロ
ゲン化銀写真感光材料に適用することは困難であった。
に対する染着性が少なく、且つ処理液中に流出し易い、
溶解性の高い分光増感剤を使用すればよく、従来も種々
の化合物が提案されているが、製版用として要求される
ような極めて高いコントラストを与える現像効果には分
光増感剤が大きな影響を及ぼす場合が多く、コントラス
トを低下させるなどの問題を生じて通常の感光材料にお
ける色素汚れ解決手段を高コントラスト現像を行うハロ
ゲン化銀写真感光材料に適用することは困難であった。
[発明の目的]
本発明の目的は前記のような問題点を解決し、感光度が
高く、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液を用いた迅
速な現像処理によって極めて高いコントラストが得られ
、且つ処理後の色素汚染の極めて少ないハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。
高く、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液を用いた迅
速な現像処理によって極めて高いコントラストが得られ
、且つ処理後の色素汚染の極めて少ないハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。
[問題点を解決するだめの手段]
本発明者等は種々検討の結果、支持体と該支持体上に塗
設されI;、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含
む親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、前記親水性コロイド層に含まれるハロゲン化
銀粒子が下記一般式[4]で示される化合物によって分
光増感され、且つ前記親水性コロイド層が下記一般式[
1]、[2]。
設されI;、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含
む親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、前記親水性コロイド層に含まれるハロゲン化
銀粒子が下記一般式[4]で示される化合物によって分
光増感され、且つ前記親水性コロイド層が下記一般式[
1]、[2]。
[3]で示される化合物の少くとも1種を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって前記の
目的を達成し得ることを見出した。
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって前記の
目的を達成し得ることを見出した。
一般式[41
Zはオキサゾール核、ベンゾオキサゾール核またはナフ
トオキサゾール核を完成するに必要な原子群を表わし、
これらの核は炭素原子上に置換基を有していでもよい。
トオキサゾール核を完成するに必要な原子群を表わし、
これらの核は炭素原子上に置換基を有していでもよい。
置換基の具体例としては、ハロゲン原子(例えばフッ素
原子、クロル原子、ブロム原子)、炭素数1〜6の無置
換アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基等)、炭素数1〜4のアルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基)、ヒドロキシ基、炭素数2〜6のアルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基等)、炭素数2〜5のアルキルカルボニ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオ
キシ基等)、フェニル基、ヒドロキシフェニル基等があ
げられる。
原子、クロル原子、ブロム原子)、炭素数1〜6の無置
換アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基等)、炭素数1〜4のアルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基)、ヒドロキシ基、炭素数2〜6のアルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基等)、炭素数2〜5のアルキルカルボニ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオ
キシ基等)、フェニル基、ヒドロキシフェニル基等があ
げられる。
これらの核の具体例としては、オキサゾール核としてオ
キサゾール、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキ
サゾール、4.5−ジメチルオキサゾール、4−フェニ
ルオキサゾールなど:ベンゾオキサゾール核としてベン
ゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5−
ブロモベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾ
ール、5・エチルベンゾオキサゾール、5・メトキシベ
ンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール
、5−エトキシカルボニルベンゾオキサゾール、5−ア
セチルオキシベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾ
オキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、6−メ
ドキシベンゾール、5.6−シメチルベンゾオキサゾー
ル、6−クロロ−5−メチルベンゾオキサゾールなど、
ナフトオキサゾール核としてす7ト[1,2−d]オキ
サゾール、ナ71− [2,1−d]オキサゾール、ナ
ツト[2,3−dlオキサゾール等の核をあげることが
できる。
キサゾール、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキ
サゾール、4.5−ジメチルオキサゾール、4−フェニ
ルオキサゾールなど:ベンゾオキサゾール核としてベン
ゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5−
ブロモベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾ
ール、5・エチルベンゾオキサゾール、5・メトキシベ
ンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール
、5−エトキシカルボニルベンゾオキサゾール、5−ア
セチルオキシベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾ
オキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、6−メ
ドキシベンゾール、5.6−シメチルベンゾオキサゾー
ル、6−クロロ−5−メチルベンゾオキサゾールなど、
ナフトオキサゾール核としてす7ト[1,2−d]オキ
サゾール、ナ71− [2,1−d]オキサゾール、ナ
ツト[2,3−dlオキサゾール等の核をあげることが
できる。
141は無置換もしくは置換アルキル基を表す。
置換基の例としては、ヒドロキシ基、スルホネート基、
カルボキシル基、ハロゲン原子(例工ばフッ素原子、塩
素原子)、炭素数1〜4の無置換または置換アルコキシ
基(アルコキシ基は更にスルホ基やヒドロキシ基で置換
されていてもよい)、炭素数2〜5のアルコキシカルボ
ニル基、炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、スルフ
ァモイル基、無置換または置換カルバモイル基(炭素数
1〜4のアルキル基で置換された置換カルバモイル基を
含む)、置換フェニル基(置換基の例としては、スルホ
基、カルボキシ基、ヒドロキシ基等)、ビニル基等があ
げられる。
カルボキシル基、ハロゲン原子(例工ばフッ素原子、塩
素原子)、炭素数1〜4の無置換または置換アルコキシ
基(アルコキシ基は更にスルホ基やヒドロキシ基で置換
されていてもよい)、炭素数2〜5のアルコキシカルボ
ニル基、炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、スルフ
ァモイル基、無置換または置換カルバモイル基(炭素数
1〜4のアルキル基で置換された置換カルバモイル基を
含む)、置換フェニル基(置換基の例としては、スルホ
基、カルボキシ基、ヒドロキシ基等)、ビニル基等があ
げられる。
無R換アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基があげられる。
基、プロピル基、ブチル基があげられる。
置換アルキル基の例としてはヒドロキシアルキル基とし
て2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基
など、スルホアルキル基として2・スルホエチル基、3
−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホ
ブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、2
−クロロ−3−スルホプロピル基など、2−スルホネー
トエチル基、3−スルホネートプロピル基、カルボキシ
アルキル基としてカルボキシメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシプロピル基など、2.2.2−1−リ
フルオロエチル基、2−、(3−スルホプロピルオキシ
)エチル基、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基
、エトキシカルボニルエチル基、メチルスルホニルエチ
ル基、スルファモイルアルキル基として2−スルファモ
イルエチル基、2−カルバモイルエチル基、2−N。
て2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基
など、スルホアルキル基として2・スルホエチル基、3
−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホ
ブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、2
−クロロ−3−スルホプロピル基など、2−スルホネー
トエチル基、3−スルホネートプロピル基、カルボキシ
アルキル基としてカルボキシメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシプロピル基など、2.2.2−1−リ
フルオロエチル基、2−、(3−スルホプロピルオキシ
)エチル基、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基
、エトキシカルボニルエチル基、メチルスルホニルエチ
ル基、スルファモイルアルキル基として2−スルファモ
イルエチル基、2−カルバモイルエチル基、2−N。
N−ジメチルカルバモイル、エチル基など、7エネチル
基、p−カルボキシフェネチル基、スルホアラルキル基
としてp−スルホフェネチル基、0−スルホフェネチル
基など、p−ヒドロキシフェネチル基、フェノキシエチ
ル基等が挙げられる。
基、p−カルボキシフェネチル基、スルホアラルキル基
としてp−スルホフェネチル基、0−スルホフェネチル
基など、p−ヒドロキシフェネチル基、フェノキシエチ
ル基等が挙げられる。
R4!はアルコキシカルボニルアルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、カルバ
モイルアルキル基、ヒドロキシ7エ二ル基、ヒドロキシ
アルキルフェニル基、フェニル基、アルコキシアルキル
基、または置換基(CHz芹A モジ< ハ(CI 2
九−OTCHa丁A ’k 表t。ここではAはニト
リル基、アルキルスルホニル基、スルホンアミド基、ア
ルキルスルホニルアミノ基、または炭素数1〜8のアル
コキシ基を表し、nは1〜4の整数値を表す。
アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、カルバ
モイルアルキル基、ヒドロキシ7エ二ル基、ヒドロキシ
アルキルフェニル基、フェニル基、アルコキシアルキル
基、または置換基(CHz芹A モジ< ハ(CI 2
九−OTCHa丁A ’k 表t。ここではAはニト
リル基、アルキルスルホニル基、スルホンアミド基、ア
ルキルスルホニルアミノ基、または炭素数1〜8のアル
コキシ基を表し、nは1〜4の整数値を表す。
R目が表す上記6基は置換基を有するものも含む。例え
ば上記基のアルキル部分がハロゲン原子で置換されたも
のも好ましく使用することができる。
ば上記基のアルキル部分がハロゲン原子で置換されたも
のも好ましく使用することができる。
R42の例としては、それぞれアルキル基がハロゲン原
子で置換されたアルコキシカルボニルアルキル基(例え
ばメトキシカルボニルフルオロメチル基、エトキシカル
ボニルフルオロメチル基、フルオロエトキシカルボニル
エチル基等)、ヒドロキン7 ルキル基(例えば2−ヒ
ドロキシフルオロエチル基、2二ヒドロキシフルオロプ
ロピル基、3−ヒドロキシフルオロプロピル基、2.3
−ジヒドロキシフルオロプロピル基等)、ヒドロキシア
ルコキンアルキル基(例えばヒドロキシメトキシフルオ
ロメチル基、2−(2−ヒドロキシフルオロエトキシ)
エチル基、2−ヒドロキシフルオ口エトキシメチル基等
)、カルバモイルアルキル基(N−アルキル置換、N、
N−ジアルキル置換、N−ヒドロキシアルキル置換、N
−アルキル−N−ヒドロキシアルキル置換、N、N−ジ
(ヒドロキシアルキル)置換の置換カルバモイルアルキ
ル基及び5・6員環の環状アミンのカルバモイルアルキ
ル基を含む)(例えば2−カルバモイルクロロエチル基
、2−N−(2−ヒドロキシエチル)カルバモイルクロ
ロエチル基、N−ヒドロキシフルオロエチルカルバモイ
ルメチル基、N、N−シ(2−ヒドロキシフルオロエチ
ル)カルバモイルメチル基、2−N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)カルバモイルクロロエチル基、N、N−
ジメチルカルバモイルクロロメチル基、モルホリノカル
バモイルクロロメチル基、ピペリジノカルバモイルメチ
ル基等)、ヒドロキシフェニル基、炭素数7〜9のヒド
ロキシアルキルフェニル基(例えばp−(2−ヒドロキ
シフルオロエチル)フェニルl、m−(1−ヒドロキシ
フルオロエチル)フェニル基等)、または置換基(CH
,冗Aもしくは(CH、崖0 【cH,九−Aを表す。
子で置換されたアルコキシカルボニルアルキル基(例え
ばメトキシカルボニルフルオロメチル基、エトキシカル
ボニルフルオロメチル基、フルオロエトキシカルボニル
エチル基等)、ヒドロキン7 ルキル基(例えば2−ヒ
ドロキシフルオロエチル基、2二ヒドロキシフルオロプ
ロピル基、3−ヒドロキシフルオロプロピル基、2.3
−ジヒドロキシフルオロプロピル基等)、ヒドロキシア
ルコキンアルキル基(例えばヒドロキシメトキシフルオ
ロメチル基、2−(2−ヒドロキシフルオロエトキシ)
エチル基、2−ヒドロキシフルオ口エトキシメチル基等
)、カルバモイルアルキル基(N−アルキル置換、N、
N−ジアルキル置換、N−ヒドロキシアルキル置換、N
−アルキル−N−ヒドロキシアルキル置換、N、N−ジ
(ヒドロキシアルキル)置換の置換カルバモイルアルキ
ル基及び5・6員環の環状アミンのカルバモイルアルキ
ル基を含む)(例えば2−カルバモイルクロロエチル基
、2−N−(2−ヒドロキシエチル)カルバモイルクロ
ロエチル基、N−ヒドロキシフルオロエチルカルバモイ
ルメチル基、N、N−シ(2−ヒドロキシフルオロエチ
ル)カルバモイルメチル基、2−N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)カルバモイルクロロエチル基、N、N−
ジメチルカルバモイルクロロメチル基、モルホリノカル
バモイルクロロメチル基、ピペリジノカルバモイルメチ
ル基等)、ヒドロキシフェニル基、炭素数7〜9のヒド
ロキシアルキルフェニル基(例えばp−(2−ヒドロキ
シフルオロエチル)フェニルl、m−(1−ヒドロキシ
フルオロエチル)フェニル基等)、または置換基(CH
,冗Aもしくは(CH、崖0 【cH,九−Aを表す。
ここでAはニトリル基、アルキルスルホニル基、スルホ
ンアミド基、アルキルスルホニルアミノ基、または低級
アルコキシ基を表すが、このうちアルキルスルホニル基
は、好ましくは炭素数1〜4個のアルキルスルホニル基
(例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)
であり、スルホンアミド基は、好ましくは炭素数1〜4
個のスルホンアミド基(例えばN−メチルスルホンアミ
ド、l、N、N−ジメチルスルホンアミド基等)であり
、アルキルスルホニルアミド基等)であり、アルキルス
ルホニルアミノ基は、好ましくは炭素数1〜4個のアル
キルスルホニルアミノ基(例えばメチルスルホニルアミ
ノ基等)であり、低級アルコキシ基は、好ましくは炭素
数1〜4個のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)である。nは1〜4の整数値を表す。
ンアミド基、アルキルスルホニルアミノ基、または低級
アルコキシ基を表すが、このうちアルキルスルホニル基
は、好ましくは炭素数1〜4個のアルキルスルホニル基
(例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)
であり、スルホンアミド基は、好ましくは炭素数1〜4
個のスルホンアミド基(例えばN−メチルスルホンアミ
ド、l、N、N−ジメチルスルホンアミド基等)であり
、アルキルスルホニルアミド基等)であり、アルキルス
ルホニルアミノ基は、好ましくは炭素数1〜4個のアル
キルスルホニルアミノ基(例えばメチルスルホニルアミ
ノ基等)であり、低級アルコキシ基は、好ましくは炭素
数1〜4個のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)である。nは1〜4の整数値を表す。
R4m及びR4′は同一でも異なっていてもよく、各々
水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4のもの
、例えばメチル基、エチル基など)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エト
キシ基など)、アルキルスルホニル基、スルホ基、塩素
原子、フッ素原子またはカルボキシル基を表す。
水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4のもの
、例えばメチル基、エチル基など)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エト
キシ基など)、アルキルスルホニル基、スルホ基、塩素
原子、フッ素原子またはカルボキシル基を表す。
上記一般式[4]で示した化合物において特に好ましい
ものは、R41がスルホ基またはカルボキシル基及び/
またはヒドロキシル基で置換された直鎖あるいは分岐の
炭素数1〜4個のアルキル基を表す場合であり、具体的
にはスルホエチル基、スルホプロピル基、3−スルホブ
チル基、4−スルホブチル基、カルボキシメチル基、カ
ルボキシエチル基、ヒドロキシエチル基、3−スルホ−
2−ヒドロキシプロピル基等があげられる。
ものは、R41がスルホ基またはカルボキシル基及び/
またはヒドロキシル基で置換された直鎖あるいは分岐の
炭素数1〜4個のアルキル基を表す場合であり、具体的
にはスルホエチル基、スルホプロピル基、3−スルホブ
チル基、4−スルホブチル基、カルボキシメチル基、カ
ルボキシエチル基、ヒドロキシエチル基、3−スルホ−
2−ヒドロキシプロピル基等があげられる。
次に本発明に用いられる上記一般式[4]で示される化
合物の代表的具体例をあげるが、本発明において使用す
る化合物がこれ等に限定されるもの[4]−1 [4]−2 ゝ−13 [4]−] 34]− [4]−5 [4]−] 94]−10 [4]−]1 [4]− [4]−] 74]−8 [4]−12 [4]−13 [4] OCH。
合物の代表的具体例をあげるが、本発明において使用す
る化合物がこれ等に限定されるもの[4]−1 [4]−2 ゝ−13 [4]−] 34]− [4]−5 [4]−] 94]−10 [4]−]1 [4]− [4]−] 74]−8 [4]−12 [4]−13 [4] OCH。
[4]−15
[4]−16
[4]−17
[4]−21
[4]−22
[4]−23
OCH3
OCH。
H3
[41
[4]−19
[4]
[41
[4]−25
[4]−26
[4]−27
[4]−28
[4]−29
[4]−33
[4]−34
[4]−35
[4]−30
[4]−31
[4]−32
[4]−36
[4]−37
本発明において使用される上記−大成[4]で示される
化合物は、特公昭46−549号、同46−18105
号、同46−18106号、同46−18108号、同
47−4085号、同58−52574号、米国特許2
,839.403号、同3,384.486号、同3.
625.698号、同3,480,439号、同3,5
67.458号等に記載されているジメチンメロシアニ
ンの合成方法に準じて合成することができる。
化合物は、特公昭46−549号、同46−18105
号、同46−18106号、同46−18108号、同
47−4085号、同58−52574号、米国特許2
,839.403号、同3,384.486号、同3.
625.698号、同3,480,439号、同3,5
67.458号等に記載されているジメチンメロシアニ
ンの合成方法に準じて合成することができる。
本発明において使用される上記一般式[4]で示される
メロシアニン色素をハロゲン化銀乳剤中に添加分散せし
めることは、従来公知の方法によって行うことができる
。例えば特公昭49−44895号、特開昭50−11
419号の明細書に記載の界面活性剤と共に分散させて
添加する方法、特開昭53−16624号、同53〜1
02732号、同53−102733号、米国特許第3
,469.987号、同3,676.147号の明細書
に記載の親水性基質との分散物として添加する方法、東
独特許第143.324号の明細書に記載の固溶体とし
て添加する方法等が挙げられる。その他メロシアニン色
素を水溶性溶媒、例えば水、エタノール、メチノール、
アセトン、n−プロパツール、フッソ化アルコール、ピ
リジン等の単独またはそれらの混合溶媒に溶解して乳剤
中に添加してもよい。添加の時期は乳剤製造工程中のど
の時期でも良いが、化学熟戊申あるいは化学熟成後が好
ましい。本発明に用いられるメロシアニン色素の添加量
は、ハロゲン化銀乳剤の分光増感を行う量、例えばハロ
ゲン化銀1モル当り10−’〜2 X 10−”モル、
このましくは10−4〜2 X 10−”モルである。
メロシアニン色素をハロゲン化銀乳剤中に添加分散せし
めることは、従来公知の方法によって行うことができる
。例えば特公昭49−44895号、特開昭50−11
419号の明細書に記載の界面活性剤と共に分散させて
添加する方法、特開昭53−16624号、同53〜1
02732号、同53−102733号、米国特許第3
,469.987号、同3,676.147号の明細書
に記載の親水性基質との分散物として添加する方法、東
独特許第143.324号の明細書に記載の固溶体とし
て添加する方法等が挙げられる。その他メロシアニン色
素を水溶性溶媒、例えば水、エタノール、メチノール、
アセトン、n−プロパツール、フッソ化アルコール、ピ
リジン等の単独またはそれらの混合溶媒に溶解して乳剤
中に添加してもよい。添加の時期は乳剤製造工程中のど
の時期でも良いが、化学熟戊申あるいは化学熟成後が好
ましい。本発明に用いられるメロシアニン色素の添加量
は、ハロゲン化銀乳剤の分光増感を行う量、例えばハロ
ゲン化銀1モル当り10−’〜2 X 10−”モル、
このましくは10−4〜2 X 10−”モルである。
また、本発明に使用するメロシアニン色素は、例えば、
特公昭43−4933号、同43−4936号、同46
18107号、同46−1999号、同47−1111
4号、同48−1762号、同48−1762号、同4
8−38408号、同56−38937号、同58−5
2574号、米国特許2,519.0旧号、同3,74
5,014号等の明細書中に開示された他の色素と任意
の量比で組み合わせて使用することにより強色増感する
ことができる。
特公昭43−4933号、同43−4936号、同46
18107号、同46−1999号、同47−1111
4号、同48−1762号、同48−1762号、同4
8−38408号、同56−38937号、同58−5
2574号、米国特許2,519.0旧号、同3,74
5,014号等の明細書中に開示された他の色素と任意
の量比で組み合わせて使用することにより強色増感する
ことができる。
以下一般式[1] 、[2] 、[3]について具体的
に説明する。
に説明する。
一般式[l]
式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nは0〜6、mはO
またはlを表わす。
わし、Rは2価の有機基を表わし、nは0〜6、mはO
またはlを表わす。
ここで、R3及びR2で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR2として好まし
くはアリール基である。
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR2として好まし
くはアリール基である。
R,及びR3で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、7ツ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブ]
・キシ、オクチルオキン、ドデシルオキシなど)、アシ
ルアミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ
、ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(
2,4−ジー(−アミルフェノキシ)ブチリルアミノな
ど)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニル
アミノ、ブタンスルホニルアミノ、ドデカンスルボニル
アミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(
例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、チオウ
レア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレ
アなど)、ヒドロギシ基、アミン基、アルキルアミノ基
(例えば、メチルアミン、ジメチルアミノなど)、カル
ボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキン
カルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げら
れる。Rで表わされる2価の有機基としては、例えばア
ルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フ
ェニレン、ナフチレンなど)、アラルキレン基等が挙げ
られるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セ
レノ基、カルポニ具体的化合物 アリール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良い
。Rで表わされる基には種々の置換基が導入できる。
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、7ツ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブ]
・キシ、オクチルオキン、ドデシルオキシなど)、アシ
ルアミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ
、ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(
2,4−ジー(−アミルフェノキシ)ブチリルアミノな
ど)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニル
アミノ、ブタンスルホニルアミノ、ドデカンスルボニル
アミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(
例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、チオウ
レア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレ
アなど)、ヒドロギシ基、アミン基、アルキルアミノ基
(例えば、メチルアミン、ジメチルアミノなど)、カル
ボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキン
カルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げら
れる。Rで表わされる2価の有機基としては、例えばア
ルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フ
ェニレン、ナフチレンなど)、アラルキレン基等が挙げ
られるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セ
レノ基、カルポニ具体的化合物 アリール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良い
。Rで表わされる基には種々の置換基が導入できる。
置−換基としては例えば、−C0NIINIIR,(R
4は上述したR1及びR3七同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
。
4は上述したR1及びR3七同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
。
Rとして好ましくはアルキレン基である。
−大成[11で表わされる化合物のうち好ましくはR3
及びR3が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=1でRがアルキレン基を表わす化合物である。
及びR3が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=1でRがアルキレン基を表わす化合物である。
上記−大成[1]で表される代表的な化合物を■
■
■7
■
■
」
■
■
■
tc511.。
■
■
=42
c6t1w
=53
tc、II+l
tc、I+、。
■
■
次に一般式[2]について説明する
R21で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキン基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキン基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。
R2,で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、デアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、デアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
R21として特に好ましいものはアリール基である。
R2Iのアリール基または不飽和へテa膿基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
がl〜20の単環まI;は2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、5を換アミノ基
(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アミン基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜3
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)などがある。
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
がl〜20の単環まI;は2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、5を換アミノ基
(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アミン基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜3
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)などがある。
一般式[2]のR22で表される基のうち置換されても
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
一般式[2]においてRoで表される基のうち置換され
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある R22で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある R22で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。
A、R換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
〇−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
一般式[2]のR21またはRoはその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
一般式[21のR21またはR2!はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.355゜105号に記載され
た基があげられる。一般式[21で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.355゜105号に記載され
た基があげられる。一般式[21で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
一般式[2−al
上記一般式[2−al中、
RzsおよびR24は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 R16は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R24及びR2Fは2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5OzCIIzCIItNII SO*
NIl、−0CH,SO!Nll、 −0−−CI−N
−)を表し、 Roは−N R/ Rl/または−OR,,を表し、R
’、R“及びR29は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フ
ェニル基(例えばフェニルTs、9−メチルフェニル基
、p−メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えば
α−ナフチル基、β−ナフチル基)を表し、 m、nは0または ■ を表す。
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 R16は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R24及びR2Fは2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5OzCIIzCIItNII SO*
NIl、−0CH,SO!Nll、 −0−−CI−N
−)を表し、 Roは−N R/ Rl/または−OR,,を表し、R
’、R“及びR29は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フ
ェニル基(例えばフェニルTs、9−メチルフェニル基
、p−メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えば
α−ナフチル基、β−ナフチル基)を表し、 m、nは0または ■ を表す。
R2,がOR2,を
一般式[21の具体例
表すとき
Yはイ
オウ原子を表すのが好ましい。
上記一般式[21及び[2
alで表される代表的な
C=0
CF。
−【6
■
※−N11N11CCOCII、CIl、So、CI、
C1,OH法−NIINIICCOCH,Cfl□5C
H2CH20HI =40 =33 一48 ※ ■ 濁1l −NIIN)IccN)Ic、 !H□次に、上記具体
的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例にとって
、その合成法を示す。
C1,OH法−NIINIICCOCH,Cfl□5C
H2CH20HI =40 =33 一48 ※ ■ 濁1l −NIIN)IccN)Ic、 !H□次に、上記具体
的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例にとって
、その合成法を示す。
化合物2−45の合成
合成スキーム
(B)
(A)
化α物4−二トロフェニルヒドラジン1539と500
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、!&後
に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回
洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち5
0gを1000m12のメタノールで加温溶解し、pd
/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧
したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、!&後
に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回
洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち5
0gを1000m12のメタノールで加温溶解し、pd
/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧
したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
この化合物(B)229をアセトニトリル200+n2
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
49のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得lこ 。
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
49のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得lこ 。
化合物(D)309を上記と同様に水添をして化合物(
E)20gを得た。
E)20gを得た。
化合物(E)10gをアセトニトリル100rnQに溶
解しエチルイソチオンアネート3.09を加え、1時間
還流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.09をメタノール5
0mffに溶解してメチルアミン(40%水溶液81a
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
解しエチルイソチオンアネート3.09を加え、1時間
還流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.09をメタノール5
0mffに溶解してメチルアミン(40%水溶液81a
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
化合物2−47の合成
合成スキーム
(B)
(C)
(D)
(E)
化合物2−47
化合物(B)229をピリジン200mQに溶解し攪拌
すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド2
29を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体を
とり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合成
スキームに従って化合物2−45と同様の反応により化
合物2−47を得た。
すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド2
29を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体を
とり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合成
スキームに従って化合物2−45と同様の反応により化
合物2−47を得た。
次に一般式[3]について説明する。
大成[3J 。
鳳
Ar NIINII CR1+
大成[3]中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促
進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルノJブト複素環基、
トリアゾール基などの米国特許第4゜385.108号
に記載された基が挙げられる。
タン基、複素環チオアミド基、メルノJブト複素環基、
トリアゾール基などの米国特許第4゜385.108号
に記載された基が挙げられる。
R11は置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イン70ビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イン70ビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキン等)、ペ
テロ環オキン(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキンカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、カルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−フェニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミン、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えは、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミノカルボニル
オキシ アミノカルボニルオキシ等)、アリールアミノカルボニ
ルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等
)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル
(例えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルフ
ァモイル(例えハ、フェニルスルファモイル等)等の6
基が挙げられる。
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキン等)、ペ
テロ環オキン(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキンカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、カルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−フェニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミン、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えは、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミノカルボニル
オキシ アミノカルボニルオキシ等)、アリールアミノカルボニ
ルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等
)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル
(例えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルフ
ァモイル(例えハ、フェニルスルファモイル等)等の6
基が挙げられる。
ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル シル基(例えば、アセチル、トリフルオロアセチル等)
、オキザリル基(例えば、エトキザリル等)等)等の置
換基で置換されていてもよい。
ルホニル シル基(例えば、アセチル、トリフルオロアセチル等)
、オキザリル基(例えば、エトキザリル等)等)等の置
換基で置換されていてもよい。
上記一般式[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。
以下に示すものがある。
=28
I
しul+tr 3
=24
※−N11N+1CCH□0C11ICI+20C1,
CIl、OII次に化合物3− 5の合成例について述べる。
CIl、OII次に化合物3− 5の合成例について述べる。
化合物3−
5の合成
合成スキーム
化合物2−45の合成法に準じて化合物3を
得 lこ 。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化金物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有される/10ゲン化銀1モ
ル当り、5 X 10−’ないし5 x lQ−’モル
までが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ない
し本発明のハロゲン化銀写真感光材料は支持体および該
支持体上に少なくとも一つのハロゲン化銀乳剤層と少な
くとも1つの親水性コロイド層を塗設してなり、このハ
ロゲン化銀乳剤層は支持体上に直接塗設されるか、ある
いはハロゲン化銀乳剤を含まない親水性コロイド層を介
して塗設され、親水性コロイド層は該ハロゲン化銀乳剤
層の上にあるいは支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に保
護層として塗設してもよい。また、ハロゲン化銀乳剤層
は異なる感度、例えば高感度および低感度のハロゲン化
銀乳剤層に分けてもよい。この場合、該ハロゲン化銀乳
剤層は、この層の間に、親水性コロイド層の中間層を設
けてもよいし、またハロゲン化銀乳剤層と保護層との間
には中間層を設けてもよい。本発明のヒドラジド化合物
が含有せしめられる層は、ハロゲン化銀乳剤層および/
または前記の各種親水性コロイド層である。
1]、[2]、[3]の化金物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有される/10ゲン化銀1モ
ル当り、5 X 10−’ないし5 x lQ−’モル
までが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ない
し本発明のハロゲン化銀写真感光材料は支持体および該
支持体上に少なくとも一つのハロゲン化銀乳剤層と少な
くとも1つの親水性コロイド層を塗設してなり、このハ
ロゲン化銀乳剤層は支持体上に直接塗設されるか、ある
いはハロゲン化銀乳剤を含まない親水性コロイド層を介
して塗設され、親水性コロイド層は該ハロゲン化銀乳剤
層の上にあるいは支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に保
護層として塗設してもよい。また、ハロゲン化銀乳剤層
は異なる感度、例えば高感度および低感度のハロゲン化
銀乳剤層に分けてもよい。この場合、該ハロゲン化銀乳
剤層は、この層の間に、親水性コロイド層の中間層を設
けてもよいし、またハロゲン化銀乳剤層と保護層との間
には中間層を設けてもよい。本発明のヒドラジド化合物
が含有せしめられる層は、ハロゲン化銀乳剤層および/
または前記の各種親水性コロイド層である。
本発明の最も好ましい実施様態は、本発明のヒドラジド
化合物がハロゲン化銀乳剤層に含有せしめられ、且つハ
ロゲン化銀乳剤層および親水性コロイド層に含まれる親
水性コロイドがゼラチンまたはゼラチン誘導体であるハ
ロゲン化銀写真感光材料である。
化合物がハロゲン化銀乳剤層に含有せしめられ、且つハ
ロゲン化銀乳剤層および親水性コロイド層に含まれる親
水性コロイドがゼラチンまたはゼラチン誘導体であるハ
ロゲン化銀写真感光材料である。
本発明のヒドラジド化合物をハロゲン化銀乳剤層および
/または親水性コロイド層に含有せしめるには、適宜の
水および有機溶媒にヒドラジド化合物を溶解して添加す
る方法、あるいは有機溶媒に溶かした液をゼラチンある
いはゼラチン誘導体等の親水性コロイドマトリックス中
に分散してから添加する方法またはラテックス中にに分
散して添加する方法等があげられる。本発明はこれらの
方法のいずれを用いてもよい。
/または親水性コロイド層に含有せしめるには、適宜の
水および有機溶媒にヒドラジド化合物を溶解して添加す
る方法、あるいは有機溶媒に溶かした液をゼラチンある
いはゼラチン誘導体等の親水性コロイドマトリックス中
に分散してから添加する方法またはラテックス中にに分
散して添加する方法等があげられる。本発明はこれらの
方法のいずれを用いてもよい。
本発明において用いられるヒドラジド化合物は、単独で
用いても好ましい画像特性を得ることができる。また、
このヒドラジド化合物は、2種以上を適宜の比率で組合
わせて用いても画像特性に悪影響を与えることはない。
用いても好ましい画像特性を得ることができる。また、
このヒドラジド化合物は、2種以上を適宜の比率で組合
わせて用いても画像特性に悪影響を与えることはない。
さらに本発明のヒドラジド化合物と本発明のヒドラジド
化合物を適宜の割合で用いてもよい。
化合物を適宜の割合で用いてもよい。
本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係わ
るヒドラジド化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加する
ことがあげられる。また本発明の別の好ましい実施態様
似おいては、ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド
層に直接隣接する親水性コロイド層、または中間層を介
して隣接する親水性コロイド層に添加される。
るヒドラジド化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加する
ことがあげられる。また本発明の別の好ましい実施態様
似おいては、ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド
層に直接隣接する親水性コロイド層、または中間層を介
して隣接する親水性コロイド層に添加される。
また別の態様としては、本発明に係わるヒドラジド化合
物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解して
オーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材料の
ハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布し
てハロゲン化銀写真感光材料に含有せしめてもよい。
物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解して
オーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材料の
ハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布し
てハロゲン化銀写真感光材料に含有せしめてもよい。
本発明において、本発明のヒドラジド化合物と結合し、
本発明のヒドラジド化合物の親水性を下げるアニオンを
併用すると、特に好ましい結果が得られる。このような
アニオンとしては例えば、過塩素酸等の無機酸の酸根、
スルホン酸、スルポン酸等の有機酸の一根、アニオン系
の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニオン
等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ド
デシルベンゼンスルホン酸アニオン類、アルキルナフタ
レンスルホン酸アニオン類、ラウリルスルフェートアユ
エン類、テトラフェニールボロン類、ジ2−エチルへキ
ンルスルホサクシネートアニオン類等のジアルキルスル
フオサクシネートアニオン、セチルポリエタノキシサル
フェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エス
テルアニオン、ステアリン酸アニオン類等、ポリアクリ
ル酸アニオン類等をあげることができる。
本発明のヒドラジド化合物の親水性を下げるアニオンを
併用すると、特に好ましい結果が得られる。このような
アニオンとしては例えば、過塩素酸等の無機酸の酸根、
スルホン酸、スルポン酸等の有機酸の一根、アニオン系
の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニオン
等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ド
デシルベンゼンスルホン酸アニオン類、アルキルナフタ
レンスルホン酸アニオン類、ラウリルスルフェートアユ
エン類、テトラフェニールボロン類、ジ2−エチルへキ
ンルスルホサクシネートアニオン類等のジアルキルスル
フオサクシネートアニオン、セチルポリエタノキシサル
フェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エス
テルアニオン、ステアリン酸アニオン類等、ポリアクリ
ル酸アニオン類等をあげることができる。
このようなアニオンは、本発明のヒドラジド化合物と予
め混合した後、親水性コロイド層併用添加してもよいし
、また、単独で本発明のテドゾリウムを含有しないハロ
ゲン化銀乳剤層また親水性コロイド層に添加することが
できる。
め混合した後、親水性コロイド層併用添加してもよいし
、また、単独で本発明のテドゾリウムを含有しないハロ
ゲン化銀乳剤層また親水性コロイド層に添加することが
できる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀としてはAgCQ/ A9Br比が100/ 0
乃至2/98の塩臭化銀が好ましく 、AgCQ/ A
9Br比90/10乃至50/ 50の組成を有するも
のが特に好ましい。
ン化銀としてはAgCQ/ A9Br比が100/ 0
乃至2/98の塩臭化銀が好ましく 、AgCQ/ A
9Br比90/10乃至50/ 50の組成を有するも
のが特に好ましい。
またハロゲン化銀粒子の平均粒径が0.10μ講乃至0
.40μmであり、(粒径分布の標準偏差)/(平均粒
径)X100で表わされる粒径分布の変動係数が15%
以下の単分散型のものが好ましい。
.40μmであり、(粒径分布の標準偏差)/(平均粒
径)X100で表わされる粒径分布の変動係数が15%
以下の単分散型のものが好ましい。
本発明において用いられるハロゲン化銀写真感光材料は
写真感光材料業界で公知の方法を用いる事が出来る。即
ち写真乳剤調製法、増感法、添加剤、親水性コロイド、
バインダー、支持体、処理剤、処理法等である。
写真感光材料業界で公知の方法を用いる事が出来る。即
ち写真乳剤調製法、増感法、添加剤、親水性コロイド、
バインダー、支持体、処理剤、処理法等である。
本発明の黒白用ハロゲン化銀写真感光材料の像生薬とし
ては次のものがあげられる。
ては次のものがあげられる。
HO−e CH−CHin OH型現像主薬の代表的な
ものとしては、ハイドロキノンがある。
ものとしては、ハイドロキノンがある。
また、HOfCH= CHケn NH,型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールまたはアミノピ
ラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ・6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−
クロロ−6・フェニルフェノール、4−アミノ−2−7
二二ルフエノール、3.4−ジアミノフェノール、3−
メチル−4,6−ジアミノフェノール、214−シアミ
ルゾルシノール、2,4.6−ドリアミノフエツールー
、N−メチル−p−アミンフェノール、N−β−ヒドロ
キシエチル−p−アミンフェノール、p・ヒドロキシフ
ェニルアミノ酢酸、2−アミノナフトール等がある。
は、オルト及びバラのアミノフェノールまたはアミノピ
ラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ・6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−
クロロ−6・フェニルフェノール、4−アミノ−2−7
二二ルフエノール、3.4−ジアミノフェノール、3−
メチル−4,6−ジアミノフェノール、214−シアミ
ルゾルシノール、2,4.6−ドリアミノフエツールー
、N−メチル−p−アミンフェノール、N−β−ヒドロ
キシエチル−p−アミンフェノール、p・ヒドロキシフ
ェニルアミノ酢酸、2−アミノナフトール等がある。
ペテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4.4−ジメチルー3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、1−7zニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等をあげるこ
とができる。
リドン、■−フェニルー4.4−ジメチルー3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、1−7zニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等をあげるこ
とができる。
その他、T、H,ジェームス著、ザ・セオリイオブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of tbe Photographic P
rocess。
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of tbe Photographic P
rocess。
Fourth Edition)第291〜334頁及
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3.100頁(1951)等に記載されているごとき
現像剤が本発明のハロゲン化銀写真感光材料に有効に使
用し得るものである。
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3.100頁(1951)等に記載されているごとき
現像剤が本発明のハロゲン化銀写真感光材料に有効に使
用し得るものである。
これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせ
てもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の処理に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸カリ、亜硫酸アンモン等の
亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわれることはな
く、本発明の1つの特徴としてあげることができる。そ
の他−般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ、
炭酸アルカリまたはアミンなどによるpHの調整とバッ
ファー機能をもたせること、及びブロムカリなど無機現
像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有機現像抑制剤
、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタ
ノール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアルキ
レンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスルホ
ン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類または前記化合
物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルアル
デヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸
ナトリウム、等のイオン強度調整剤等の添加を行うこと
は任意である。
てもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の処理に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸カリ、亜硫酸アンモン等の
亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわれることはな
く、本発明の1つの特徴としてあげることができる。そ
の他−般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ、
炭酸アルカリまたはアミンなどによるpHの調整とバッ
ファー機能をもたせること、及びブロムカリなど無機現
像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有機現像抑制剤
、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタ
ノール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアルキ
レンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスルホ
ン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類または前記化合
物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルアル
デヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸
ナトリウム、等のイオン強度調整剤等の添加を行うこと
は任意である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
極めて保存安定性に優れた感光特性を得ることができる
。
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
極めて保存安定性に優れた感光特性を得ることができる
。
上記の組成になる現像液のpH値は9〜13であるが、
保恒性および写真特性上からはpH値は10〜12の範
囲が好ましい。
保恒性および写真特性上からはpH値は10〜12の範
囲が好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することが出来る。処理温度は、例えば現像温度は5
0℃以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、また
現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが、
特に好ましくは40秒以内が好結果をもたらすことが多
い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定
、定着、さらに必要に応じて前高膜、中和等の工程を採
用することは任意であり、ことらは適宜省略することも
できる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像な
どいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現
像など機械現像であってもよい。
理することが出来る。処理温度は、例えば現像温度は5
0℃以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、また
現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが、
特に好ましくは40秒以内が好結果をもたらすことが多
い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定
、定着、さらに必要に応じて前高膜、中和等の工程を採
用することは任意であり、ことらは適宜省略することも
できる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像な
どいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現
像など機械現像であってもよい。
■実施例]
次に示すA液、B液、C液の溶液を用いて塩臭化銀乳剤
を調整した。
を調整した。
〈溶液A〉
オセインゼラチン 179ポリイ
ソグロビレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 5mff1θ%エタノール溶液蒸留
水 1280cc〈溶液B〉 硝酸銀 1709蒸留水
410mQく溶液C〉 塩化ナトリウム 40.9g臭化カ
リウム 35.7gボリイソプ
ロピレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩lθ%
エタノール溶液 3mffオセインゼラチン
11g蒸留水
40.7raQ溶液Aを40℃に@温した後EA
g値が160mvになる様に塩化ナトリウムを添加した
。
ソグロビレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 5mff1θ%エタノール溶液蒸留
水 1280cc〈溶液B〉 硝酸銀 1709蒸留水
410mQく溶液C〉 塩化ナトリウム 40.9g臭化カ
リウム 35.7gボリイソプ
ロピレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩lθ%
エタノール溶液 3mffオセインゼラチン
11g蒸留水
40.7raQ溶液Aを40℃に@温した後EA
g値が160mvになる様に塩化ナトリウムを添加した
。
次に特開昭57−92523号と同57−92524号
記載の混合攪拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。
記載の混合攪拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。
B液、C液を添加終了後、乳剤は10分間オストワルド
熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後、
オセインゼラチンの水溶液600m1オセインゼラチン
309含有)を加えて、55℃30分間攪拌により分散
した後、750IIQに調製した。
熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後、
オセインゼラチンの水溶液600m1オセインゼラチン
309含有)を加えて、55℃30分間攪拌により分散
した後、750IIQに調製した。
次にこの乳剤に対して全硫黄増感を施し、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザインデンを加えた。乳剤を分割し、表1に示した様
に本発明による一般式[1]、[2]、[3]の化合物
、または対比のため下記に示した増感色素([4]−(
a)〜(k)、3 X 1G−’モル/Ag1モルを各
々添加し色増感し、さらに各乳剤にヒドラジド化合物(
2]−8を700+ag/Ag 1モル添加し、n−ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム600mg/ A
g 1モル、スチレン・マレイン酸共重合体2g/Ag
1モルを加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上
にAg3.5g/lI2、ゼラチン量2.09/ l”
になる様に塗布した。その際ゼラチン量1.0g/m’
になる様に展剤としてl−デシル−2−(3−インペン
チル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダを30+1
g/+*”s硬膜剤としてホルマリン25119/ r
a”を含む硬膜保護層を重層塗表 [4]−(d) [4] (e) [41 (f) H 比較増感色素 [4 ]−(a) [41 (b) [4]−(c) [4] −(g) [4]−(h) [4 ] (i) [4]−(D [4]−(k) 上記試料片を下記の処方による現像液及び市販の定着液
とを用いて現像タンク容量40I2の自動現像機にて処
理した。
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザインデンを加えた。乳剤を分割し、表1に示した様
に本発明による一般式[1]、[2]、[3]の化合物
、または対比のため下記に示した増感色素([4]−(
a)〜(k)、3 X 1G−’モル/Ag1モルを各
々添加し色増感し、さらに各乳剤にヒドラジド化合物(
2]−8を700+ag/Ag 1モル添加し、n−ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム600mg/ A
g 1モル、スチレン・マレイン酸共重合体2g/Ag
1モルを加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上
にAg3.5g/lI2、ゼラチン量2.09/ l”
になる様に塗布した。その際ゼラチン量1.0g/m’
になる様に展剤としてl−デシル−2−(3−インペン
チル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダを30+1
g/+*”s硬膜剤としてホルマリン25119/ r
a”を含む硬膜保護層を重層塗表 [4]−(d) [4] (e) [41 (f) H 比較増感色素 [4 ]−(a) [41 (b) [4]−(c) [4] −(g) [4]−(h) [4 ] (i) [4]−(D [4]−(k) 上記試料片を下記の処方による現像液及び市販の定着液
とを用いて現像タンク容量40I2の自動現像機にて処
理した。
[現像処理条件]
(工 程) (温 度)
現 像 40℃
定 着 35℃
水 洗 30°C
乾 燥 50℃
[現像液組成]
(!Il成A)
(時 間)
15秒
10秒
10秒
10秒
しU
得られた試料それぞれ3片をとり、1片には感光針を用
い光学ウェッジを掛けてタングステン先によって階段露
光を与え、他の1片には大日本スクリーン製造(株)社
製コンタクトスクリーンGNNo、 2 (150L
)を用いキセノン光により網掛は露光を行った。また、
球りの1片は露光をかけずに次の処理をした。
い光学ウェッジを掛けてタングステン先によって階段露
光を与え、他の1片には大日本スクリーン製造(株)社
製コンタクトスクリーンGNNo、 2 (150L
)を用いキセノン光により網掛は露光を行った。また、
球りの1片は露光をかけずに次の処理をした。
(、リ ン 酸
(組成り)
5g
現像液の使用時に純水500mQ中に上記組成A1組成
りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
現像済試料でウェッジ露光をかけたものについては写真
特性曲線を書き光学濃度2.5のところの感度を試料N
o、Iを基準で相対値を算出し、ガンマは光学濃度1.
0から2.5までの直線部のjanθ値を示した。
特性曲線を書き光学濃度2.5のところの感度を試料N
o、Iを基準で相対値を算出し、ガンマは光学濃度1.
0から2.5までの直線部のjanθ値を示した。
キャノン光を用い、印刷製版用カメラで組撮影を行った
ものについては、形成された網の品質(ドツト品質)を
評価した。
ものについては、形成された網の品質(ドツト品質)を
評価した。
ドツト品質は網点部面積とクリア部面積が等しいいわゆ
る50%ドツトについては網点の周辺に生ずるフリンジ
(ボケ)の状態を目視判定しフリンジの小なるものを5
とした5段階表示で評価した。
る50%ドツトについては網点の周辺に生ずるフリンジ
(ボケ)の状態を目視判定しフリンジの小なるものを5
とした5段階表示で評価した。
即ち゛5パは優れていることであり、1“は極めて悪い
ことである。50%ドツト品質が“3Nを下回る場合、
一般にこれを許容することができない。
ことである。50%ドツト品質が“3Nを下回る場合、
一般にこれを許容することができない。
また、露光をかけずに処理をした試料については4枚重
ねをし、フィルムの残色を目視評価し5段階評価を行い
、°“5“は無色、′l#は強い橙色系の残色を示した
。一般製版用として“3″を下回る残色は大きな欠点と
されるレベルである。
ねをし、フィルムの残色を目視評価し5段階評価を行い
、°“5“は無色、′l#は強い橙色系の残色を示した
。一般製版用として“3″を下回る残色は大きな欠点と
されるレベルである。
表2に示した様に本発明による一般式[4]で示される
増感色素によって色増感され試料のみ、相対感度が高く
、極めて硬調で、しかも残色の少ない試料であることが
分かる。
増感色素によって色増感され試料のみ、相対感度が高く
、極めて硬調で、しかも残色の少ない試料であることが
分かる。
〈実施例2〉
実施例1と全く同様な方法で試料を作成した。
但し増感色素には[4]−4と[4]−14及び[4]
−24を表3に示した量で添加を行った。また、ヒドラ
ジド塩としては本発明にかかる一般式[1]、[2]。
−24を表3に示した量で添加を行った。また、ヒドラ
ジド塩としては本発明にかかる一般式[1]、[2]。
[3]のもの、対比化合物(a”e)を表3のように7
0019/Ag1モル添加した。試料作成後実施例1と
同一に3片の試料をそれぞれ、ウェッジ露光網掛は露光
および残色試料とした。
0019/Ag1モル添加した。試料作成後実施例1と
同一に3片の試料をそれぞれ、ウェッジ露光網掛は露光
および残色試料とした。
(a)
(b)
(c)
(d)
対比ヒ
ドラジド化合物の構造は下記の通りであ(e)
表
式[4]で示される化合物は類似の構造を有する増感色
素とは異なり、一般弐[1]、[2’l、[3]で示さ
れる化合物と組み合せ使用する場合において特異的に高
コントラストの画像をyflIXシ、且つ色素汚染が極
めて少ない。これにより亜硫酸イオン濃度の高い保恒性
の良好な現像液による短時間の剋理によっても極めて高
いコントラストの画像が得られ、且つ処理後の色素汚染
の極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料を製造するこ
とが可能となった。
素とは異なり、一般弐[1]、[2’l、[3]で示さ
れる化合物と組み合せ使用する場合において特異的に高
コントラストの画像をyflIXシ、且つ色素汚染が極
めて少ない。これにより亜硫酸イオン濃度の高い保恒性
の良好な現像液による短時間の剋理によっても極めて高
いコントラストの画像が得られ、且つ処理後の色素汚染
の極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料を製造するこ
とが可能となった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体と該支持体上に塗設された少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、前記親水性コロイド層に
含まれるハロゲン化銀粒子が下記一般式[4]で示され
る化合物によって分光増感され、かつ前記親水性コロイ
ド層が下記一般式[1]、[2]、[3]で示される化
合物の少くとも1種を含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。 一般式[4] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Zはオキサゾール核、ベンゾオキサゾール核ま
たはナフトオキサゾール核を形成するのに必要な非金属
原子群を表わす。R^4^1は無置換または置換アルキ
ル基を表わす。R^4^2はアルコキシカルボニルアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ
アルキル基、カルバモイルアルキル基、ヒドロキシフェ
ニル基、ヒドロキシアルキルフェニル基、▲数式、化学
式、表等があります▼を表わす。ここでAはニトリル基
、アルキルスルホニル基、スルホンアミド基、アルキル
スルホニルアミノ基、または低級アルコキシ基を表わし
、nは1〜4の整数値を表す。R^4^3、R^4^4
は同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、塩素原子またはカルボキシル基を
表す。] 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
っても、異なっていてもよい。)一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を、R_2_2は水素原子、置換してもよいアルコ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリー
ルオキシ基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシ
ル基、またはスルフィン酸基を表す。)一般式[3] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_3_1は
置換アルキル基を表す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP357288A JPH0238A (ja) | 1987-10-19 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26320187 | 1987-10-19 | ||
| JP62-263201 | 1987-10-19 | ||
| JP357288A JPH0238A (ja) | 1987-10-19 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0238A true JPH0238A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26337191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP357288A Pending JPH0238A (ja) | 1987-10-19 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0238A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102330872A (zh) * | 2011-07-27 | 2012-01-25 | 中国电力工程顾问集团西北电力设计院 | 一种埋地管道防冻方法 |
-
1988
- 1988-01-11 JP JP357288A patent/JPH0238A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102330872A (zh) * | 2011-07-27 | 2012-01-25 | 中国电力工程顾问集团西北电力设计院 | 一种埋地管道防冻方法 |
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