JPH0239149U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0239149U JPH0239149U JP11691688U JP11691688U JPH0239149U JP H0239149 U JPH0239149 U JP H0239149U JP 11691688 U JP11691688 U JP 11691688U JP 11691688 U JP11691688 U JP 11691688U JP H0239149 U JPH0239149 U JP H0239149U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- target
- ray
- slit
- emitted
- Prior art date
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- Pending
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
第１図は従来の装置の構成図、第２図は本考案
実施例の構成図である。図において１はＸ線管、
２はフイラメント、３は電子流、４はターゲツト
、５は一次Ｘ線、６はスリツト、７は試料、８は
蛍光Ｘ線、９はＸ線検出器、１０は第２のターゲ
ツト、１１はターゲツト１０の特性Ｘ線である。
実施例の構成図である。図において１はＸ線管、
２はフイラメント、３は電子流、４はターゲツト
、５は一次Ｘ線、６はスリツト、７は試料、８は
蛍光Ｘ線、９はＸ線検出器、１０は第２のターゲ
ツト、１１はターゲツト１０の特性Ｘ線である。
Claims (1)
- Ｘ線管のターゲツトから放射される一次Ｘ線で
励起されて二次Ｘ線を放射する第２のＸ線発生タ
ーゲツトと、上記第２のターゲツトからその表面
に対して微小の角度で放射されるＸ線が通過する
スリツトと、上記スリツトを通過したＸ線が微小
の入射角をもつて入射するように設置される平板
状の試料と、上記試料と対向するように設置され
てその試料の表面で発生した蛍光Ｘ線を検出する
Ｘ線検出器とよりなる全反射蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11691688U JPH0239149U (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11691688U JPH0239149U (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0239149U true JPH0239149U (ja) | 1990-03-15 |
Family
ID=31359893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11691688U Pending JPH0239149U (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0239149U (ja) |
-
1988
- 1988-09-07 JP JP11691688U patent/JPH0239149U/ja active Pending
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