JPS58178663U - 赤外線ガス分析計 - Google Patents

赤外線ガス分析計

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Publication number
JPS58178663U
JPS58178663U JP7731982U JP7731982U JPS58178663U JP S58178663 U JPS58178663 U JP S58178663U JP 7731982 U JP7731982 U JP 7731982U JP 7731982 U JP7731982 U JP 7731982U JP S58178663 U JPS58178663 U JP S58178663U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
infrared
gas
infrared light
gas analyzer
light beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP7731982U
Other languages
English (en)
Inventor
中野　昌芳
浜田　敏義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP7731982U priority Critical patent/JPS58178663U/ja
Publication of JPS58178663U publication Critical patent/JPS58178663U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図ないし第３歯は従来の赤外線ガス分析計の概略構
成図、第４図は本考案の一実施例の概略構成図、第５図
は第４図の反射板の表面状態説明図、第６図は尿考案の
他の実施例の概略構成図である。 ８・・・赤外線光束、１７・・・検出器、２０．３５・
・・検出部、２１・・・前部検出室、２２・・・後部検
出室１．３２．３９．３９Ａ・・・反射板、３６・・・
第１検出室、３７・・・第２検出室。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 赤外線光源と、この赤外線光源から放射される赤外線光
    束が照射され導入された試料ガスに含まれる被測定ガス
    の濃度に応じて吸収される測定セルと、前記測定セルを
    透過した赤外線光束が照射され前記測定ガスと同種類の
    ガスが充填される検・　　　山部と、この検出部の背面
    を全面遮光するように設けられ前記検出部を透過した赤
    外線光束を前記検出部に反射させる反射板とを備え、前
    記反射板による赤外線反射量により前記検出部の赤外線
    吸収量を変化させて出力特性を調節可能にしたことを特
    徴とする赤外線ガス分析計。
JP7731982U 1982-05-25 1982-05-25 赤外線ガス分析計 Pending JPS58178663U (ja)

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JP7731982U JPS58178663U (ja) 1982-05-25 1982-05-25 赤外線ガス分析計

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JP7731982U JPS58178663U (ja) 1982-05-25 1982-05-25 赤外線ガス分析計

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JPS58178663U true JPS58178663U (ja) 1983-11-29

Family

ID=30086586

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JP7731982U Pending JPS58178663U (ja) 1982-05-25 1982-05-25 赤外線ガス分析計

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