JPH0239582A - 狭帯域化レーザ装置 - Google Patents
狭帯域化レーザ装置Info
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- JPH0239582A JPH0239582A JP19023688A JP19023688A JPH0239582A JP H0239582 A JPH0239582 A JP H0239582A JP 19023688 A JP19023688 A JP 19023688A JP 19023688 A JP19023688 A JP 19023688A JP H0239582 A JPH0239582 A JP H0239582A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/137—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
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- Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は狭帯域化レーザ装置に関する。
（従来の技術）
レーザ発振器から放出されるレーザ光は本来そのスペク
トル幅が比較的狭く単色光源として種々の技術に適用さ
れている。ところで、このレーザ光のスペクトル幅をよ
り狭く （以下、狭帯域化と指称する）する必要のある
技術がある。例えば、紫外域に発振波長を持つエキシマ
レーザをフォトリソグラフィに応用する場合である。つ
まり、フォトリソグラフィでは色消し効果を持つ縮小投
影レンズを使用するが、この縮小投影レンズが製作困難
で使用できない場合にエキシマレーザを使用してレンズ
を色消しでないものとすることがある。
トル幅が比較的狭く単色光源として種々の技術に適用さ
れている。ところで、このレーザ光のスペクトル幅をよ
り狭く （以下、狭帯域化と指称する）する必要のある
技術がある。例えば、紫外域に発振波長を持つエキシマ
レーザをフォトリソグラフィに応用する場合である。つ
まり、フォトリソグラフィでは色消し効果を持つ縮小投
影レンズを使用するが、この縮小投影レンズが製作困難
で使用できない場合にエキシマレーザを使用してレンズ
を色消しでないものとすることがある。
ところで、かかる狭帯域化の技術としては次に示すよう
なものがある。第６図に示す技術は、レーザ媒質１の両
端側にレーザ媒質を挟む如くそれぞれ出力ミラー２及び
高反射ミラー３を配置するとともにレーザ媒質１と高反
射ミラー３との間にピンホール４及び各プリズム５，６
を配置したものである。この場合、各プリズム５，６の
屈折率に対する波長の関係からレーザ光７のスペクトル
幅が狭帯域化される。次に第７図に示す技術は狭帯域化
素子としてグレーティング８を使用したものであり、第
８図に示す技術はエタロン９を使用してものであって、
それぞれグレーティング８及びエタロン９の光軸に対す
る傾きを変えることによって放出されるレーザ光１０．
１１のスペクトル幅の中心波長が変わるものとなってい
る。又、以上の技術の他にプリズムとグレーティングと
を組み合わせた技術もある。
なものがある。第６図に示す技術は、レーザ媒質１の両
端側にレーザ媒質を挟む如くそれぞれ出力ミラー２及び
高反射ミラー３を配置するとともにレーザ媒質１と高反
射ミラー３との間にピンホール４及び各プリズム５，６
を配置したものである。この場合、各プリズム５，６の
屈折率に対する波長の関係からレーザ光７のスペクトル
幅が狭帯域化される。次に第７図に示す技術は狭帯域化
素子としてグレーティング８を使用したものであり、第
８図に示す技術はエタロン９を使用してものであって、
それぞれグレーティング８及びエタロン９の光軸に対す
る傾きを変えることによって放出されるレーザ光１０．
１１のスペクトル幅の中心波長が変わるものとなってい
る。又、以上の技術の他にプリズムとグレーティングと
を組み合わせた技術もある。
しかしながら、以上のような各技術を用いて狭帯域化を
行ってもその中心波長が変動することがある。この波長
変動の原因は、出力ミラーと高反射ミラーとから構成さ
れる光共振器の機械的な不安定性、熱による光学部品の
屈折率の変動等が挙げられる。このように中心波長が変
動すると、例えばフォトリソグラフィでは焦点位置が変
動して像がぼけてしまう。
行ってもその中心波長が変動することがある。この波長
変動の原因は、出力ミラーと高反射ミラーとから構成さ
れる光共振器の機械的な不安定性、熱による光学部品の
屈折率の変動等が挙げられる。このように中心波長が変
動すると、例えばフォトリソグラフィでは焦点位置が変
動して像がぼけてしまう。
（発明が解決しようとする課題）
以上のようにレーザ光の波長を狭帯域化しようとしても
その中心波長が変動してしまう。
その中心波長が変動してしまう。
そこで本発明は、中心波長の変動を無くして安定した狭
帯域化ができる狭帯域化レーザ装置を提供することを目
的とする。
帯域化ができる狭帯域化レーザ装置を提供することを目
的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明は、レーザ発振器と、このレーザ発振器から放出
されるレーザ光のスペクトル幅を狭めかつレーザ光の光
路における配置状態によりレーザ光の中心波長を変える
狭帯域化素子と、この狭帯域化素子の前記配置状態を変
化させる配置調整手段と、レーザ光の一部を受けて干渉
縞を得る干渉計と、この干渉計で現われる干渉縞の少な
くとも２ケ所に配置されて干渉縞の光強度を検出する各
光検出器と、各光強度の差から狭帯域化素子に対して所
望の中心波長を得る配置に正す調整方向を検出し、この
調整方向に作動するように所定調整量に応じた配置調整
信号を配置調整手段に送出する波長安定化手段とを備え
て上記目的を達成しようとする狭帯域化レーザ装置であ
る。
されるレーザ光のスペクトル幅を狭めかつレーザ光の光
路における配置状態によりレーザ光の中心波長を変える
狭帯域化素子と、この狭帯域化素子の前記配置状態を変
化させる配置調整手段と、レーザ光の一部を受けて干渉
縞を得る干渉計と、この干渉計で現われる干渉縞の少な
くとも２ケ所に配置されて干渉縞の光強度を検出する各
光検出器と、各光強度の差から狭帯域化素子に対して所
望の中心波長を得る配置に正す調整方向を検出し、この
調整方向に作動するように所定調整量に応じた配置調整
信号を配置調整手段に送出する波長安定化手段とを備え
て上記目的を達成しようとする狭帯域化レーザ装置であ
る。
（作用）
このような手段を備えたことにより、レーザ発振器から
放出されたレーザ光はその一部が干渉計に送られて干渉
縞が得られる。この干渉縞の現われる少なくとも２ケ所
に配置された光検出器はそれぞれ干渉縞の各光強度を検
出して配置調整手段に送る。この配置調整手段は各光検
出器で検出された各光強度の差から狭帯域化素子に対し
て所望の中心波長を得る配置に正す調整方向を検出し、
この調整方向に応じて狭帯域化素子の配置状態を変える
。
放出されたレーザ光はその一部が干渉計に送られて干渉
縞が得られる。この干渉縞の現われる少なくとも２ケ所
に配置された光検出器はそれぞれ干渉縞の各光強度を検
出して配置調整手段に送る。この配置調整手段は各光検
出器で検出された各光強度の差から狭帯域化素子に対し
て所望の中心波長を得る配置に正す調整方向を検出し、
この調整方向に応じて狭帯域化素子の配置状態を変える
。
（実施例）
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は狭帯域化レーザ装置の構成図である。
同図において２０はレーザ発振器であって、このレーザ
発振器２０はレーザ媒質２１の両端にレーザ媒質２１を
挟む如く出力ミラー２２及び高反射ミラー３２が配置さ
れている。なお、出力ミラー２２と高反射ミラー２３と
で光共振器が構成される。このレーザ発振器２０のレー
ザ媒質２１と高反射ミラー２３との間の光軸上には狭帯
域化素子としてのエタロン２４が配置されている。この
エタロン２４は光共振器の光軸に対して傾き角度を変化
させる配置調整機構２５で支持されている。
発振器２０はレーザ媒質２１の両端にレーザ媒質２１を
挟む如く出力ミラー２２及び高反射ミラー３２が配置さ
れている。なお、出力ミラー２２と高反射ミラー２３と
で光共振器が構成される。このレーザ発振器２０のレー
ザ媒質２１と高反射ミラー２３との間の光軸上には狭帯
域化素子としてのエタロン２４が配置されている。この
エタロン２４は光共振器の光軸に対して傾き角度を変化
させる配置調整機構２５で支持されている。
この配置調整機構２５は、エタロン２４を支持する可動
軸２６を有し、この可動軸２６が支点２７を中心として
回動自在に設けられている。そして、この可動軸２６の
一端には電動マイクロメータ２８の駆動端が接触してい
る。なお、電動マイクロメータ２８はマイクロメータ駆
動回路２９によって駆動するようになっている。ところ
で、この電動マイクロメータ２８は圧電素子に変えても
よい。
軸２６を有し、この可動軸２６が支点２７を中心として
回動自在に設けられている。そして、この可動軸２６の
一端には電動マイクロメータ２８の駆動端が接触してい
る。なお、電動マイクロメータ２８はマイクロメータ駆
動回路２９によって駆動するようになっている。ところ
で、この電動マイクロメータ２８は圧電素子に変えても
よい。
一方、レーザ発振器２０から放出されるレーザ光Ｑの光
路上にはビームスプリッタ３０が配置され、このビーム
スプリッタ３０で分岐されたレーザ光Ｑの一部Ｑａが反
射ミラー３１で反射してファブリペ・口干渉計３２に送
られるようになっている。このファブリペロ干渉計３２
はレーザ光Ｑａを受けてその干渉縞Ｗを得るもので、各
光学レンズ３３，３４．３５等から構成されている。な
お、干渉縞Ｗはその光強度が分りやすく示しである。
路上にはビームスプリッタ３０が配置され、このビーム
スプリッタ３０で分岐されたレーザ光Ｑの一部Ｑａが反
射ミラー３１で反射してファブリペ・口干渉計３２に送
られるようになっている。このファブリペロ干渉計３２
はレーザ光Ｑａを受けてその干渉縞Ｗを得るもので、各
光学レンズ３３，３４．３５等から構成されている。な
お、干渉縞Ｗはその光強度が分りやすく示しである。
ところで、このファブリペロ干渉計３２で得られる干渉
光の照射される部位にはピンホール付板３６が配置され
るとともにこのピンホール付板３６の各ピンホール３６
ａ、３６ｂを通してファブリペロ干渉計３２を望む如く
各光検出器３７゜３８か配置されている。これら光検出
器３７゜３８は例えばビンフォトダイオードが使用され
ている。なお、実際には第２図に示すように基台３９上
に各光検出器３７．３８を設けるとともにピンホール付
板３７を設け、基台３９を電動マイクロメータ４０によ
ってその位置を干渉光の照射方向に対して垂直方向に移
動可能としている。これら光検出器３７．３８は各ピン
ホール３６ａ。
光の照射される部位にはピンホール付板３６が配置され
るとともにこのピンホール付板３６の各ピンホール３６
ａ、３６ｂを通してファブリペロ干渉計３２を望む如く
各光検出器３７゜３８か配置されている。これら光検出
器３７゜３８は例えばビンフォトダイオードが使用され
ている。なお、実際には第２図に示すように基台３９上
に各光検出器３７．３８を設けるとともにピンホール付
板３７を設け、基台３９を電動マイクロメータ４０によ
ってその位置を干渉光の照射方向に対して垂直方向に移
動可能としている。これら光検出器３７．３８は各ピン
ホール３６ａ。
３６ｂを通して干渉縞Ｗの光強度を検出するもので、そ
の配置位置は第３図（ａ）に示すようにレーザ光Ｑの中
心波長が所望の波長からずれていないときに同一の光強
度ｅｌを検出する位置となっている。そして、これら光
検出器３７．３８から出力される各光検出信号は波長安
定化手段４１に送られるようになっている。
の配置位置は第３図（ａ）に示すようにレーザ光Ｑの中
心波長が所望の波長からずれていないときに同一の光強
度ｅｌを検出する位置となっている。そして、これら光
検出器３７．３８から出力される各光検出信号は波長安
定化手段４１に送られるようになっている。
この波長安定化手段４１は各光検出器３７゜３８で検出
される各光強度の変化からレーザ発振器２０から放出さ
れるレーザ光Ｑの波長の変化方向を検出し、この検出結
果に応じてマイクロメータ駆動回路２９に配置調整信号
Ｓを送出する機能を有するものである。具体的には各光
検出器３７３８ごとの処理系が備えられ、それぞれ増幅
器４２．４３、積分器４４．４５及びサンプルホールド
回路４６．４７が直列接続されている。そして、各サン
プルホールド回路４６．４７の出力が差動増幅回路４８
に送られている。しかして、この差動増幅回路４εから
配置調整信号Ｓが送出されるようになっている。つまり
、レーザ光のＱの中心波長が変動すると干渉縞Ｗの各ピ
ークの現われる位置が移動する。これにより、各光検出
器３７．３８で検出される各光強度が変化し、これら光
強度の変化が差動増幅回路４８の出力となって現われる
。
される各光強度の変化からレーザ発振器２０から放出さ
れるレーザ光Ｑの波長の変化方向を検出し、この検出結
果に応じてマイクロメータ駆動回路２９に配置調整信号
Ｓを送出する機能を有するものである。具体的には各光
検出器３７３８ごとの処理系が備えられ、それぞれ増幅
器４２．４３、積分器４４．４５及びサンプルホールド
回路４６．４７が直列接続されている。そして、各サン
プルホールド回路４６．４７の出力が差動増幅回路４８
に送られている。しかして、この差動増幅回路４εから
配置調整信号Ｓが送出されるようになっている。つまり
、レーザ光のＱの中心波長が変動すると干渉縞Ｗの各ピ
ークの現われる位置が移動する。これにより、各光検出
器３７．３８で検出される各光強度が変化し、これら光
強度の変化が差動増幅回路４８の出力となって現われる
。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明する
。
。
レーザ発振器２０から放出されたレーザ光Ｑはその一部
Ｑａがビームスプリッタ３０で分岐され、さらに反射ミ
ラー３１で反射してファブリペロ干渉計３２に送られる
。このファブリペロ干渉計３２はレーザ光Ｑａを受けて
干渉光を得る。これにより、ピンホール付板３６上には
ローレンツ型のピークを有する干渉縞Ｗが現われる。な
お、このとき第２図に示す電動マイクロメータ４０によ
って各光検出器３７．３８が移動されて第３図（ａ）に
示すように干渉縞Ｗにおける同一光強度ｅｌに対応する
位置に配置される。この状態であれば、各光検出器３７
．３８はそれぞれ受光した各光強度に応じた各光検出信
号を出力する。これら光検出信号はそれぞれ増幅器４２
．４３で増幅されて後に各積分器４４．４５で積分され
る。そして、各サンプルホールド回路４６．４７で所定
のサンプル周期毎にサンプルされて差動増幅回路４８に
送られる。ここで、各光強度はｅｌで同一となっている
ので、差動増幅回路４８の出力は「ｏ」となる。これに
より、エタロン２４の傾きは現状の状態に保持される。
Ｑａがビームスプリッタ３０で分岐され、さらに反射ミ
ラー３１で反射してファブリペロ干渉計３２に送られる
。このファブリペロ干渉計３２はレーザ光Ｑａを受けて
干渉光を得る。これにより、ピンホール付板３６上には
ローレンツ型のピークを有する干渉縞Ｗが現われる。な
お、このとき第２図に示す電動マイクロメータ４０によ
って各光検出器３７．３８が移動されて第３図（ａ）に
示すように干渉縞Ｗにおける同一光強度ｅｌに対応する
位置に配置される。この状態であれば、各光検出器３７
．３８はそれぞれ受光した各光強度に応じた各光検出信
号を出力する。これら光検出信号はそれぞれ増幅器４２
．４３で増幅されて後に各積分器４４．４５で積分され
る。そして、各サンプルホールド回路４６．４７で所定
のサンプル周期毎にサンプルされて差動増幅回路４８に
送られる。ここで、各光強度はｅｌで同一となっている
ので、差動増幅回路４８の出力は「ｏ」となる。これに
より、エタロン２４の傾きは現状の状態に保持される。
さて、この状態にレーザ光Ｑの中心波長が変化すると、
第３図（ｂ）（ｃ）に示すように干渉縞Ｗのピーク位置
は移動する。ここで、レーザ光Ｑの中心波長が長波長側
に変動すると、干渉縞Ｗは第３図（ｂ）に示すように図
面において下方に移動する。そうすると、光検出器３７
で検出する光強度はｅｌより低い光強度ｅ２となるとと
もに光検出器３８で検出する光強度はｅｌより高い光強
度ｅ３となる。しかるに、差動増幅回路４８は例えば負
方向で各光強度ｅ２． ｅ３の光強度差に応じたレベル
の配置調整信号Ｓをマイクロメータ駆動回路２９へ送出
する。このマイクロメータ駆動回路２９は配置調整信号
Ｓを受けると電動マイクロメータ２８に駆動制御信号を
送出してエタロン２４の傾き角度を変化させる。この結
果、レーザ光Ｑの中心波長は所望の波長になる。
第３図（ｂ）（ｃ）に示すように干渉縞Ｗのピーク位置
は移動する。ここで、レーザ光Ｑの中心波長が長波長側
に変動すると、干渉縞Ｗは第３図（ｂ）に示すように図
面において下方に移動する。そうすると、光検出器３７
で検出する光強度はｅｌより低い光強度ｅ２となるとと
もに光検出器３８で検出する光強度はｅｌより高い光強
度ｅ３となる。しかるに、差動増幅回路４８は例えば負
方向で各光強度ｅ２． ｅ３の光強度差に応じたレベル
の配置調整信号Ｓをマイクロメータ駆動回路２９へ送出
する。このマイクロメータ駆動回路２９は配置調整信号
Ｓを受けると電動マイクロメータ２８に駆動制御信号を
送出してエタロン２４の傾き角度を変化させる。この結
果、レーザ光Ｑの中心波長は所望の波長になる。
又、レーザ光Ｑの中心波長が短波長側に変動すると、上
記の場合とは逆に干渉縞Ｗは第３図（ｃ）に示すように
図面において上方に移動する。そうすると、光検出器３
７で検出する光強度はｅｌより高い光強度ｅ４となると
ともに光検出器３８で検出する光強度はｅｌより低い光
強度ｅ５となる。しかるに、差動増幅回路４８は例えば
正方向で各光強度ｅ４． ｅ５の光強度差に応じたレベ
ルの配置調整信号Ｓをマイクロメータ駆動回路２９へ送
出する。このマイクロメータ駆動回路２９は上記同様に
配置調整信号Ｓを受けるとマイクロメータ２８に駆動制
御信号を送出してエタロン２４の傾き角度を変化させる
。この結果、レーザ光Ｑの中心波長は所望の波長になる
。
記の場合とは逆に干渉縞Ｗは第３図（ｃ）に示すように
図面において上方に移動する。そうすると、光検出器３
７で検出する光強度はｅｌより高い光強度ｅ４となると
ともに光検出器３８で検出する光強度はｅｌより低い光
強度ｅ５となる。しかるに、差動増幅回路４８は例えば
正方向で各光強度ｅ４． ｅ５の光強度差に応じたレベ
ルの配置調整信号Ｓをマイクロメータ駆動回路２９へ送
出する。このマイクロメータ駆動回路２９は上記同様に
配置調整信号Ｓを受けるとマイクロメータ２８に駆動制
御信号を送出してエタロン２４の傾き角度を変化させる
。この結果、レーザ光Ｑの中心波長は所望の波長になる
。
このように上記一実施例においては、レーザ光Ｑの一部
がファブリペロ干渉計３２に送られて干渉縞Ｗを得てこ
の干渉縞Ｗの現われる２ケ所でそれぞれ干渉縞Ｗの各光
強度を検出し、これら光強度の変化からレーザ光Ｑの中
心波長の変化方向を検出し、この変化方向に応じてエタ
ロン２４の傾き角度を変えるようにしたので、光共振器
の機械的な不安定性や熱による光学部品の屈折率の変動
によりレーザ光Ｑの中心波長が変動したとしてもその波
長変動の方向及びその大きさが検出できて所望の波長に
一定に保つことができる。例えば、ＫｒＦエキシマレー
ザ発振装置をエタロンを用いて狭帯域化した場合、２０
０Ｈｚ （波長５ ａｒｍ）で作動させているときに
０．００５〜０．Ｏ１ｎｍ／分程度の波長変動があった
が、本発明を適用すると常時±０．００１ ｒｖ／分の
変動に押えることができ、安定性をより向上させること
ができる。又、パルスレーザ発振装置で１パルスごとの
出力が不安定な場合にも適用できる。すなわち、第４図
に示すように１パルスごとの出力が変動しても１パルス
ごとの各干渉縞Ｗ、Ｗ−における同一光強度の部分を検
出するように各光検出器３７．３８を配置するからであ
る。
がファブリペロ干渉計３２に送られて干渉縞Ｗを得てこ
の干渉縞Ｗの現われる２ケ所でそれぞれ干渉縞Ｗの各光
強度を検出し、これら光強度の変化からレーザ光Ｑの中
心波長の変化方向を検出し、この変化方向に応じてエタ
ロン２４の傾き角度を変えるようにしたので、光共振器
の機械的な不安定性や熱による光学部品の屈折率の変動
によりレーザ光Ｑの中心波長が変動したとしてもその波
長変動の方向及びその大きさが検出できて所望の波長に
一定に保つことができる。例えば、ＫｒＦエキシマレー
ザ発振装置をエタロンを用いて狭帯域化した場合、２０
０Ｈｚ （波長５ ａｒｍ）で作動させているときに
０．００５〜０．Ｏ１ｎｍ／分程度の波長変動があった
が、本発明を適用すると常時±０．００１ ｒｖ／分の
変動に押えることができ、安定性をより向上させること
ができる。又、パルスレーザ発振装置で１パルスごとの
出力が不安定な場合にも適用できる。すなわち、第４図
に示すように１パルスごとの出力が変動しても１パルス
ごとの各干渉縞Ｗ、Ｗ−における同一光強度の部分を検
出するように各光検出器３７．３８を配置するからであ
る。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものでなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、各
光検出器３７．３８の配置位置はレーザ光Ｑの波長が所
望波長になったときに干渉縞Ｗにおける同一光強度とな
るところであれば、第５図に示すように２つのピークで
の光強度を検出したり２以上のピークでの光強度を検出
するように配置してもよい。さらに、光検出器は２つと
限らず多数設けてもよい。又、狭帯域化素子としてはエ
タロンに限らず第６図及び第７図に示すようにプリズム
、グレーティングを用いてもよい。
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、各
光検出器３７．３８の配置位置はレーザ光Ｑの波長が所
望波長になったときに干渉縞Ｗにおける同一光強度とな
るところであれば、第５図に示すように２つのピークで
の光強度を検出したり２以上のピークでの光強度を検出
するように配置してもよい。さらに、光検出器は２つと
限らず多数設けてもよい。又、狭帯域化素子としてはエ
タロンに限らず第６図及び第７図に示すようにプリズム
、グレーティングを用いてもよい。
この場合、プリズムではそのプリズムの配置位置から所
望の波長を選択するようにし、又グレーティングでは光
軸に対する傾き角度を調整することにより所望の波長を
得ることになる。さらに、上記一実施例では各光強度ｅ
２． ｅ３の光強度差に応じたレベルの配置調整信号Ｓ
をマイクロメータ駆動回路２９へ送出しているが、これ
を各光強度差からエタロン２４の調整方向を検出し、こ
の調整方向に対して所定量の配置調整信号を一定周期毎
に送出してエタロン２４の配置状態を調整するようにし
てもよい。
望の波長を選択するようにし、又グレーティングでは光
軸に対する傾き角度を調整することにより所望の波長を
得ることになる。さらに、上記一実施例では各光強度ｅ
２． ｅ３の光強度差に応じたレベルの配置調整信号Ｓ
をマイクロメータ駆動回路２９へ送出しているが、これ
を各光強度差からエタロン２４の調整方向を検出し、こ
の調整方向に対して所定量の配置調整信号を一定周期毎
に送出してエタロン２４の配置状態を調整するようにし
てもよい。
［発明の効果］
以上詳記したように本発明によれば、中心波長の変動を
無くして安定した狭帯域化ができる狭帯域化レーザ装置
を提供できる。
無くして安定した狭帯域化ができる狭帯域化レーザ装置
を提供できる。
第１図乃至第４図は本発明に係わる狭帯域化レーザ装置
の一実施例を説明するための図であって、第１図は構成
図、第２図は光検出器の配置状態を示す図、第３図は波
長の安定化の作用を説明するための図、第４図は適用例
を説明するための図、第５図は変形例を説明するための
図、第６図乃至第８図は従来技術の構成図である。 ２０・・・レーザ発振器、２１・・・レーザ媒質、２２
・・・出力ミラー ２３・・・高反射ミラー２４・・・
エタロン、２５・・・配置調整機構、３２・・・ファブ
リペロ干渉計、３６・・・ピンホール付板、３７゜３８
・・・光検出器、 ・・・波長安定化手段。
の一実施例を説明するための図であって、第１図は構成
図、第２図は光検出器の配置状態を示す図、第３図は波
長の安定化の作用を説明するための図、第４図は適用例
を説明するための図、第５図は変形例を説明するための
図、第６図乃至第８図は従来技術の構成図である。 ２０・・・レーザ発振器、２１・・・レーザ媒質、２２
・・・出力ミラー ２３・・・高反射ミラー２４・・・
エタロン、２５・・・配置調整機構、３２・・・ファブ
リペロ干渉計、３６・・・ピンホール付板、３７゜３８
・・・光検出器、 ・・・波長安定化手段。
Claims (1)
- レーザ発振器と、このレーザ発振器から放出されるレ
ーザ光のスペクトル幅を狭めかつ前記レーザ光の光路に
おける配置状態により前記レーザ光の中心波長を変える
狭帯域化素子と、この狭帯域化素子の前記配置状態を変
化させる配置調整手段と、前記レーザ光の一部を受けて
干渉縞を得る干渉計と、この干渉計で現われる干渉縞の
少なくとも２ケ所に配置されて前記干渉縞の光強度を検
出する各光検出器と、前記各光強度の差から前記狭帯域
化素子に対して所望の中心波長を得る配置に正す調整方
向を検出し、この調整方向に作動するように所定調整量
に応じた配置調整信号を前記配置調整手段に送出する波
長安定化手段とを具備したことを特徴とする狭帯域化レ
ーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19023688A JPH0239582A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 狭帯域化レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19023688A JPH0239582A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 狭帯域化レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0239582A true JPH0239582A (ja) | 1990-02-08 |
Family
ID=16254761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19023688A Pending JPH0239582A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 狭帯域化レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0239582A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002097936A3 (en) * | 2001-05-31 | 2003-05-01 | Altitun Ab | Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser |
| JP2004526334A (ja) * | 2001-05-11 | 2004-08-26 | サイマー， インコーポレイテッド | ４ＫＨｚガス放電レーザシステム |
| US6859469B2 (en) | 2001-12-11 | 2005-02-22 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and apparatus for laser wavelength stabilization |
| US7038782B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-05-02 | Adc Telecommunications, Inc. | Robust wavelength locker for control of laser wavelength |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP19023688A patent/JPH0239582A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004526334A (ja) * | 2001-05-11 | 2004-08-26 | サイマー， インコーポレイテッド | ４ＫＨｚガス放電レーザシステム |
| WO2002097936A3 (en) * | 2001-05-31 | 2003-05-01 | Altitun Ab | Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser |
| US6859469B2 (en) | 2001-12-11 | 2005-02-22 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and apparatus for laser wavelength stabilization |
| US7038782B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-05-02 | Adc Telecommunications, Inc. | Robust wavelength locker for control of laser wavelength |
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