JPH0797672B2 - レーザー光軸調整装置 - Google Patents
レーザー光軸調整装置Info
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- JPH0797672B2 JPH0797672B2 JP16780688A JP16780688A JPH0797672B2 JP H0797672 B2 JPH0797672 B2 JP H0797672B2 JP 16780688 A JP16780688 A JP 16780688A JP 16780688 A JP16780688 A JP 16780688A JP H0797672 B2 JPH0797672 B2 JP H0797672B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2366—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media comprising a gas as the active medium
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 金属蒸気又はガスをレーザー媒質とするレーザー装置を
レーザー増幅器として複数台直列に並べて使用するレー
ザー増幅装置において、レーザー光軸を調整する装置に
関する。
レーザー増幅器として複数台直列に並べて使用するレー
ザー増幅装置において、レーザー光軸を調整する装置に
関する。
（従来の技術） 複数台のレーザー装置を、１台をレーザー発振器とし
て、それ以外をレーザー増幅器として使用し全体で高い
レーザー出力を得るレーザー増幅装置は概略第２図の様
な構成をしている。
て、それ以外をレーザー増幅器として使用し全体で高い
レーザー出力を得るレーザー増幅装置は概略第２図の様
な構成をしている。
レーザー発振器11は全反射鏡13a及び部分反射鏡13bから
成る共振器によりレーザービーム20を出射する。
成る共振器によりレーザービーム20を出射する。
レーザービーム20は２枚の全反射鏡14a,14bにより光軸
を調整されてレーザー増幅器12に入射し、同増幅器によ
りレーザー出力が高められたレーザービーム21となって
出射する。レーザー増幅器の台数が更に多い場合にも上
記のくり返しで構成される。
を調整されてレーザー増幅器12に入射し、同増幅器によ
りレーザー出力が高められたレーザービーム21となって
出射する。レーザー増幅器の台数が更に多い場合にも上
記のくり返しで構成される。
この様なレーザー増幅装置でレーザー出力を最大に維持
するためには、レーザービームの光軸がレーザー増幅器
の幾何学的な軸に正確に調整されていることが必要であ
る。
するためには、レーザービームの光軸がレーザー増幅器
の幾何学的な軸に正確に調整されていることが必要であ
る。
ところが実際には振動、熱的原因などによりレーザー光
軸は初期設定した値からずれるケースが多く、このため
全反射鏡14a,14bを適宜再調整して光軸を正常な位置に
あわせる作業が必要となる。
軸は初期設定した値からずれるケースが多く、このため
全反射鏡14a,14bを適宜再調整して光軸を正常な位置に
あわせる作業が必要となる。
従来レーザー光軸の調整を自動的に行なう方法は第３図
に示す様な方法であった。
に示す様な方法であった。
反射鏡15bを部分反射鏡として、レーザービーム20の一
部分の光が透過する様にして２次元位置検出器16aに入
射させる。位置検出器16aは入射ビームの光軸が正常で
あるべき位置からずれた場合は変位を検出し、制御装置
17aを経由して反射鏡15aの角度を変化させレーザービー
ム20が位置検出器16の正常な位置に入射する様に調整す
る。同様に反射鏡15bは、レーザー増幅器12を出射し、
部分反射鏡15cを透過して位置検出器16bに入射したビー
ム位置のずれをもとに制御装置17bを経由して反射鏡15b
の角度を調整する。
部分の光が透過する様にして２次元位置検出器16aに入
射させる。位置検出器16aは入射ビームの光軸が正常で
あるべき位置からずれた場合は変位を検出し、制御装置
17aを経由して反射鏡15aの角度を変化させレーザービー
ム20が位置検出器16の正常な位置に入射する様に調整す
る。同様に反射鏡15bは、レーザー増幅器12を出射し、
部分反射鏡15cを透過して位置検出器16bに入射したビー
ム位置のずれをもとに制御装置17bを経由して反射鏡15b
の角度を調整する。
（発明が解決しようとする課題） この様な従来構成では反射鏡15b,15cに100％反射鏡でな
く95％程度の反射率の鏡を使用するために調整個所が多
くなるにつれて出射レーザービームを損失するという問
題があった。
く95％程度の反射率の鏡を使用するために調整個所が多
くなるにつれて出射レーザービームを損失するという問
題があった。
（課題を解決するための手段） 本発明は、レーザー発振器とレーザー増幅器と、前記発
振器から増幅器へのレーザー光軸調整用の全反射鏡を備
えた銅蒸気レーザー増幅装置において、当該銅蒸気レー
ザー波長と異なる波長のヘリウムネオン参照用レーザー
を前記レーザー光軸に平行に入射せしめ、前記レーザー
光軸調整用全反射鏡を銅蒸気レーザー波長を全反射し、
前記参照用レーザー波長が部分透過できる様にダイクロ
イックミラーを選択し、この部分透過した参照用レーザ
ーの位置を位置検出器で検出してビーム位置がずれた時
に前記レーザー光軸調整用全反射鏡の角度を調整する制
御装置を備えたことを特徴とするレーザー光軸調整装置
である。
振器から増幅器へのレーザー光軸調整用の全反射鏡を備
えた銅蒸気レーザー増幅装置において、当該銅蒸気レー
ザー波長と異なる波長のヘリウムネオン参照用レーザー
を前記レーザー光軸に平行に入射せしめ、前記レーザー
光軸調整用全反射鏡を銅蒸気レーザー波長を全反射し、
前記参照用レーザー波長が部分透過できる様にダイクロ
イックミラーを選択し、この部分透過した参照用レーザ
ーの位置を位置検出器で検出してビーム位置がずれた時
に前記レーザー光軸調整用全反射鏡の角度を調整する制
御装置を備えたことを特徴とするレーザー光軸調整装置
である。
（作用） 本発明によれば反射鏡2a,2b,2cがレーザービーム20,21
に対して全反射鏡で構成することが可能なためレーザー
増幅装置からのレーザー出力の損失が全くないという作
用を奏する。
に対して全反射鏡で構成することが可能なためレーザー
増幅装置からのレーザー出力の損失が全くないという作
用を奏する。
（実 施 例） 第１図に本発明の一実施例を示す。
レーザー発振器11からのレーザービーム20は反射鏡2a,2
bで反射した後レーザー増幅器12に入射し、同増幅器出
射ビーム21は反射鏡2cで反射する。
bで反射した後レーザー増幅器12に入射し、同増幅器出
射ビーム21は反射鏡2cで反射する。
レーザー発振器11の全反射ミラー13aの外側に参照用レ
ーザー１を設置し参照用レーザービーム３をレーザービ
ーム20の中心軸上に通す。
ーザー１を設置し参照用レーザービーム３をレーザービ
ーム20の中心軸上に通す。
参照用レーザービーム３の波長をヘリウム−ネオンの62
9nmとしてレーザー発振器11のレーザービーム20の波長
（510nm,578nm）と異なる波長に選択することにより、
レーザービームに存在する鏡に以下の機能を付与するこ
とが可能となる。
9nmとしてレーザー発振器11のレーザービーム20の波長
（510nm,578nm）と異なる波長に選択することにより、
レーザービームに存在する鏡に以下の機能を付与するこ
とが可能となる。
反射鏡13a,13bはダイクロイックミラ（２色鏡）を採用
してレーザービーム20に対してはそれぞれ全反射鏡、部
分反射鏡として機能するが、参照用レーザービーム３を
透過させる機能のものを選択した。
してレーザービーム20に対してはそれぞれ全反射鏡、部
分反射鏡として機能するが、参照用レーザービーム３を
透過させる機能のものを選択した。
反射鏡2a,2b,2cも同じくダイクロイックミラーを用いレ
ーザービーム20,21に対しては全反射鏡として機能する
が、参照用レーザービーム３を部分透過させる機能のも
のを選択した。
ーザービーム20,21に対しては全反射鏡として機能する
が、参照用レーザービーム３を部分透過させる機能のも
のを選択した。
これによりレーザー光軸調整は参照用レーザービーム３
に対して、第３図を元に従来例で説明した方法と同様な
方法で行なうことが可能となる。
に対して、第３図を元に従来例で説明した方法と同様な
方法で行なうことが可能となる。
反射鏡2a,2b,2cがレーザービーム20,21に対して全反射
鏡で構成することが可能なためレーザー増幅装置からの
レーザー出力の損失が全くないという特長を有する。
鏡で構成することが可能なためレーザー増幅装置からの
レーザー出力の損失が全くないという特長を有する。
レーザー発振器11、レーザー増幅器12が銅蒸気レーザー
（波長510nm）の場合には、参照用レーザー１としてHeN
aレーザー（波長629nm）を使用することにより、波長が
50nm以上離れているために銅蒸気レーザービームを全反
射させながら、HeNe参照用レーザービームを部分透過さ
せながら光軸調整に使用するということが可能となる。
（波長510nm）の場合には、参照用レーザー１としてHeN
aレーザー（波長629nm）を使用することにより、波長が
50nm以上離れているために銅蒸気レーザービームを全反
射させながら、HeNe参照用レーザービームを部分透過さ
せながら光軸調整に使用するということが可能となる。
以上説明した通り、本発明では反射鏡2a,2b,2cがレーザ
ービーム20,21に対して全反射鏡で構成することが可能
なためレーザー増幅装置からのレーザー出力の損失が全
くないという効果を奏する。
ービーム20,21に対して全反射鏡で構成することが可能
なためレーザー増幅装置からのレーザー出力の損失が全
くないという効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図はレー
ザー増幅装置の原理を示す構成図、第３図は従来のレー
ザー光軸調整装置を示す構成図である。 １……参照用レーザー、2a,2b,2c……反射鏡 ３……参照用レーザービーム ３′,3″……部分透過参照用レーザービーム 11……金属蒸気又はガスレーザー発振器 12……金属蒸気又はガスレーザー増幅器 13a,13b……金属蒸気又はガスレーザー用共振器鏡 14a,14b……反射鏡、15a……全反射鏡 15b,15c……部分反射鏡 16a,16b……２次元位置検出器 17a,17b……レーザービーム補正用制御装置
ザー増幅装置の原理を示す構成図、第３図は従来のレー
ザー光軸調整装置を示す構成図である。 １……参照用レーザー、2a,2b,2c……反射鏡 ３……参照用レーザービーム ３′,3″……部分透過参照用レーザービーム 11……金属蒸気又はガスレーザー発振器 12……金属蒸気又はガスレーザー増幅器 13a,13b……金属蒸気又はガスレーザー用共振器鏡 14a,14b……反射鏡、15a……全反射鏡 15b,15c……部分反射鏡 16a,16b……２次元位置検出器 17a,17b……レーザービーム補正用制御装置
Claims (1)
- 【請求項１】レーザー発振器とレーザー増幅器と、前記
発振器から増幅器へのレーザー光軸調整用の全反射鏡を
備えた銅蒸気レーザー増幅装置において、当該銅蒸気レ
ーザー波長と異なる波長のヘリウムネオン参照用レーザ
ーを前記レーザー光軸に平行に入射せしめ、前記レーザ
ー光軸調整用全反射鏡を銅蒸気レーザー波長を全反射
し、前記参照用レーザー波長が部分透過できる様にダイ
クロイックミラーを選択し、この部分透過した参照用レ
ーザーの位置を位置検出器で検出してビーム位置がずれ
た時に前記レーザー光軸調整用全反射鏡の角度を調整す
る制御装置を備えたことを特徴とするレーザー光軸調整
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16780688A JPH0797672B2 (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | レーザー光軸調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16780688A JPH0797672B2 (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | レーザー光軸調整装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0218977A JPH0218977A (ja) | 1990-01-23 |
| JPH0797672B2 true JPH0797672B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=15856454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16780688A Expired - Fee Related JPH0797672B2 (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | レーザー光軸調整装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797672B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017022351A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | 三菱重工業株式会社 | レーザ光の反射スポットの位置検出システム、レーザ光軸アライメントシステム及びレーザ光軸アライメント方法 |
| US20190157828A1 (en) * | 2017-11-21 | 2019-05-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and Systems for Aligning Master Oscillator Power Amplifier Systems |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0767895A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-03-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 抗菌性人工血管及び抗菌性手術用縫合糸 |
| JP2008258314A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Toshiba Corp | 光共振器自動補正装置及び光共振器自動補正方法 |
| JP5110633B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2012-12-26 | ギガフォトン株式会社 | レーザ光軸調整装置及びレーザ光軸調整方法 |
| JP5110634B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2012-12-26 | ギガフォトン株式会社 | レーザ光軸調整装置及びレーザ光軸調整方法 |
-
1988
- 1988-07-07 JP JP16780688A patent/JPH0797672B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017022351A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | 三菱重工業株式会社 | レーザ光の反射スポットの位置検出システム、レーザ光軸アライメントシステム及びレーザ光軸アライメント方法 |
| US20190157828A1 (en) * | 2017-11-21 | 2019-05-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and Systems for Aligning Master Oscillator Power Amplifier Systems |
| US11588293B2 (en) * | 2017-11-21 | 2023-02-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and systems for aligning master oscillator power amplifier systems |
| US11973302B2 (en) * | 2017-11-21 | 2024-04-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and systems for aligning master oscillator power amplifier systems |
| US20240297476A1 (en) * | 2017-11-21 | 2024-09-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and systems for aligning master oscillator power amplifier systems |
| US12347997B2 (en) * | 2017-11-21 | 2025-07-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and systems for aligning master oscillator power amplifier systems |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0218977A (ja) | 1990-01-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |