JPH0239A - 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
高コントラストハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JPH0239A JPH0239A JP357388A JP357388A JPH0239A JP H0239 A JPH0239 A JP H0239A JP 357388 A JP357388 A JP 357388A JP 357388 A JP357388 A JP 357388A JP H0239 A JPH0239 A JP H0239A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- general formula
- formula
- formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 146
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 55
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 58
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 4
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 8
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 8
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 8
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 1-Phenylurea Chemical compound NC(=O)NC1=CC=CC=C1 LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- DFQVGTFDFGVTGK-KVVVOXFISA-M ClC(C(=O)[O-])CCCCCC\C=C/CCCCCCCC.[K+] Chemical compound ClC(C(=O)[O-])CCCCCC\C=C/CCCCCCCC.[K+] DFQVGTFDFGVTGK-KVVVOXFISA-M 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100136092 Drosophila melanogaster peng gene Proteins 0.000 description 2
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- HBNYJWAFDZLWRS-UHFFFAOYSA-N ethyl isothiocyanate Chemical compound CCN=C=S HBNYJWAFDZLWRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVXJIYJPQXRIEM-UHFFFAOYSA-N 1-$l^{1}-selanyl-n,n-dimethylmethanimidamide Chemical compound CN(C)C([Se])=N RVXJIYJPQXRIEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical group O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OTJDDUKPDMSZHT-UHFFFAOYSA-N 4-dodecylbenzenesulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 OTJDDUKPDMSZHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- JXRGUPLJCCDGKG-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzenesulfonyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 JXRGUPLJCCDGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMVPXBDOWDXXEN-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 KMVPXBDOWDXXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJUQHJNPIQOMP-UHFFFAOYSA-N C(#N)BrCl Chemical compound C(#N)BrCl WLJUQHJNPIQOMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXGNDYOCQCVEF-UHFFFAOYSA-N CC1=CC2=C(NN=N2)C=C1.BrC1=CC2=C(NN=N2)C=C1 Chemical compound CC1=CC2=C(NN=N2)C=C1.BrC1=CC2=C(NN=N2)C=C1 DHXGNDYOCQCVEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100491335 Caenorhabditis elegans mat-2 gene Proteins 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYECOJGRJDOGPP-UHFFFAOYSA-N Ethylurea Chemical compound CCNC(N)=O RYECOJGRJDOGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N N-ethylthiourea Chemical compound CCNC(N)=S GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N N-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 241000233855 Orchidaceae Species 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 241001481665 Protophormia terraenovae Species 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000223014 Syzygium aromaticum Species 0.000 description 1
- 235000016639 Syzygium aromaticum Nutrition 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005195 alkyl amino carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- FHQNDVKBVRQZQA-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)C=C.OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FHQNDVKBVRQZQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006627 ethoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010946 fine silver Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical group O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N selenourea Chemical compound NC(N)=[Se] IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/035—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein characterised by the crystal form or composition, e.g. mixed grain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/035—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein characterised by the crystal form or composition, e.g. mixed grain
- G03C2001/0357—Monodisperse emulsion
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は極めてコントラストの高いハロゲン化銀写真感
光材料に係る0本発明の写真感光材料は、例えば黄色安
全灯下で取り扱うことのできる^rレーザー・スキャナ
ー用線画感材あるいは返し感材用等の製版用ハロゲン化
銀写真感光材料として利用することができる。
光材料に係る0本発明の写真感光材料は、例えば黄色安
全灯下で取り扱うことのできる^rレーザー・スキャナ
ー用線画感材あるいは返し感材用等の製版用ハロゲン化
銀写真感光材料として利用することができる。
近年、製版工程の明室化が進み、白色蛍光灯下あるいは
黄色安全灯下での取り扱いが可能なハロゲン化銀写真感
光材料が広く使用されるようにな9てきた。
黄色安全灯下での取り扱いが可能なハロゲン化銀写真感
光材料が広く使用されるようにな9てきた。
このような明室で使用する感光材料を要求される性能は
、硬調で十分な最大濃度を有し、明室(白色蛍光灯下あ
るいは黄色安全灯下)で長時間の取り扱いが可能であり
、かつプリンターやスキャナー光源に対して高い感度を
有していることである。
、硬調で十分な最大濃度を有し、明室(白色蛍光灯下あ
るいは黄色安全灯下)で長時間の取り扱いが可能であり
、かつプリンターやスキャナー光源に対して高い感度を
有していることである。
一方、写真製版工程でスキャナーを用いることが一般的
に行なわれるようになっている。スキャナーはカラー原
稿を色分解したり、印刷原稿におけるレイアウトを行な
うために使用される。スキャナーの光源にはレーザー光
を用いることが一般的で、特に青色域に発光する^rレ
ーザーが多く用いられるが、このようなスキャナーを用
いる工程においても感光材料を明るい黄色安全灯下で取
扱い得るようにすることが求められている。
に行なわれるようになっている。スキャナーはカラー原
稿を色分解したり、印刷原稿におけるレイアウトを行な
うために使用される。スキャナーの光源にはレーザー光
を用いることが一般的で、特に青色域に発光する^rレ
ーザーが多く用いられるが、このようなスキャナーを用
いる工程においても感光材料を明るい黄色安全灯下で取
扱い得るようにすることが求められている。
また製版の工程においては連続階調をもつ原画の階調を
網点の面積に変換するいわゆる網掛けの過程が必要であ
るが、スキャナー露光の際感光材料にスクリーンを掛け
たり、或いはいわゆるドツトジェネレータによって直接
網点画像を得ることが一般に行なわれている。したがっ
て、こうしたスキャナーに用いられる感光材料としては
^rレーザー光に対し高い感光性を有し、且つ網点形成
に適した極めて高いコントラストを有するハロゲン化銀
写真感光材料が要求される。ll11点形成を行なうに
適した感光材料としては、例えば、ハロゲン化銀粒子の
平均粒径が約0.5μm以下の微粒子で、粒度分布が狭
く、かつ粒子の形が揃っており、塩化銀の含有率が例え
ば50モル%以上というように高い塩臭化銀または塩沃
化銀乳剤よりなるハロゲ′ン化銀感光材料を亜硫酸イオ
ン濃度の低い、現像主薬としてハイドロキノンのみを含
有するアルカリ性現像液で現像するいわゆるリス感光材
料が用いられているが、このような現像液は、その保恒
性が悪く自動酸化を受けやすいから、製版業者が常に品
質の高い網ネガあるいは網ポジ画像を得るためには、経
時或いは使用によって減少する現像液の活性度を一定に
保つための現像液の管理が必要とされその操作が煩雑に
なることを避けられ得ない。
網点の面積に変換するいわゆる網掛けの過程が必要であ
るが、スキャナー露光の際感光材料にスクリーンを掛け
たり、或いはいわゆるドツトジェネレータによって直接
網点画像を得ることが一般に行なわれている。したがっ
て、こうしたスキャナーに用いられる感光材料としては
^rレーザー光に対し高い感光性を有し、且つ網点形成
に適した極めて高いコントラストを有するハロゲン化銀
写真感光材料が要求される。ll11点形成を行なうに
適した感光材料としては、例えば、ハロゲン化銀粒子の
平均粒径が約0.5μm以下の微粒子で、粒度分布が狭
く、かつ粒子の形が揃っており、塩化銀の含有率が例え
ば50モル%以上というように高い塩臭化銀または塩沃
化銀乳剤よりなるハロゲ′ン化銀感光材料を亜硫酸イオ
ン濃度の低い、現像主薬としてハイドロキノンのみを含
有するアルカリ性現像液で現像するいわゆるリス感光材
料が用いられているが、このような現像液は、その保恒
性が悪く自動酸化を受けやすいから、製版業者が常に品
質の高い網ネガあるいは網ポジ画像を得るためには、経
時或いは使用によって減少する現像液の活性度を一定に
保つための現像液の管理が必要とされその操作が煩雑に
なることを避けられ得ない。
これらの問題を解決する方法の1つとして、特開昭54
−67419号公報には、テトラゾリウム化合物を含有
するハロゲン化銀写真感光材料が開示されている。この
写真感光材料はきわめて硬調で、すぐれた網点画像を形
成することができるが併用される増感色素等の各添加物
等の影響も大きく、こうした方法を用いた、^rレーザ
ー光に対す感度が高く、黄色安全灯によるカブリ発生の
少ない感光材料の製造は困難であった。
−67419号公報には、テトラゾリウム化合物を含有
するハロゲン化銀写真感光材料が開示されている。この
写真感光材料はきわめて硬調で、すぐれた網点画像を形
成することができるが併用される増感色素等の各添加物
等の影響も大きく、こうした方法を用いた、^rレーザ
ー光に対す感度が高く、黄色安全灯によるカブリ発生の
少ない感光材料の製造は困難であった。
本発明の目的は、黄色安全灯下での取り扱いが安全であ
って、しかも^rレーザー光源に対して高い感度を有し
、かつコントラストが高くすぐれた網点を与えるハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供するにある。
って、しかも^rレーザー光源に対して高い感度を有し
、かつコントラストが高くすぐれた網点を与えるハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供するにある。
本発明のその他の目的は、明7a書の記載から明らかに
なろう。
なろう。
上記目的は支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン
化銀乳剤層を設けたハロゲン化銀写真感光材料において
、上記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含まれる
ハロゲン化銀が平均粒径0.05〜0.5μ伯、単分散
度5〜25であり、かつ上記ハロゲン化銀乳剤層の少な
くとも一層中に下記一般式[1]、[2]、[3]で示
される化合物から選ばれる少なくとも一種類の化合物、
および下記一般式[4]で示される化合物から選ばれる
少なくとも一種類の化合物とを含有していることを特徴
とする以下一般式[1] 、[2] 、[3]について
具体的に説明する。
化銀乳剤層を設けたハロゲン化銀写真感光材料において
、上記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含まれる
ハロゲン化銀が平均粒径0.05〜0.5μ伯、単分散
度5〜25であり、かつ上記ハロゲン化銀乳剤層の少な
くとも一層中に下記一般式[1]、[2]、[3]で示
される化合物から選ばれる少なくとも一種類の化合物、
および下記一般式[4]で示される化合物から選ばれる
少なくとも一種類の化合物とを含有していることを特徴
とする以下一般式[1] 、[2] 、[3]について
具体的に説明する。
一般式[1]
式中、R8及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはθ〜6、lはO
またはlを表わす。
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはθ〜6、lはO
またはlを表わす。
ここで、R1及びR1で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR,とじて好まし
くはアリール基である。
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR,とじて好まし
くはアリール基である。
R1及びR2で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては倒えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インゾロボキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ビバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ ニルアミノ ウレア基(例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど
)、チオウレア基(例えば、フェニルチオウレア、エチ
ルチオウレアなど)、ヒドロキシ基、アミン基、アルキ
ルアミノ基(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノな
ど)、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば
、エトキシカルボニル)、カルバモイル基、スルホ基な
どが挙げられる。Rで表わされる2価の有機基としては
、例えばアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、
トリメチレン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(
例,t.ば、フェニレン、ナフチレンなト)、アラルキ
レン基等が挙げられるがアルキレン基は結合中にオキシ
基、チオ基、セレノ基、カルポニル基、−N−基(R3
は水素原子、アルキル基、アリール基を表わす)、スル
ホニル基等を含んでも良い。Rで表わされる基には種々
の置換基が導入できる。
には種々の置換基が導入できる。置換基としては倒えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インゾロボキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ビバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ ニルアミノ ウレア基(例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど
)、チオウレア基(例えば、フェニルチオウレア、エチ
ルチオウレアなど)、ヒドロキシ基、アミン基、アルキ
ルアミノ基(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノな
ど)、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば
、エトキシカルボニル)、カルバモイル基、スルホ基な
どが挙げられる。Rで表わされる2価の有機基としては
、例えばアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、
トリメチレン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(
例,t.ば、フェニレン、ナフチレンなト)、アラルキ
レン基等が挙げられるがアルキレン基は結合中にオキシ
基、チオ基、セレノ基、カルポニル基、−N−基(R3
は水素原子、アルキル基、アリール基を表わす)、スル
ホニル基等を含んでも良い。Rで表わされる基には種々
の置換基が導入できる。
置換基としては例えば、− CONHNHR. (R
4は上述したR.及びR2と同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
。
4は上述したR.及びR2と同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
。
Rとして好ましくはアルキレン基である。
一般式[1]で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR1が置換または未置換のフェニル基であり、n−
m=1でRがアルキレン基を表わす化合物である。
及びR1が置換または未置換のフェニル基であり、n−
m=1でRがアルキレン基を表わす化合物である。
上記一般式〔1〕で表される代表的な化合物を具体的化
合物 ■ tC−++ ■ ■ ■ =25 ■ ■ ■ ■ tC,H目 tc@H++ tC@H+ 。
合物 ■ tC−++ ■ ■ ■ =25 ■ ■ ■ ■ tC,H目 tc@H++ tC@H+ 。
■ −53
■
■ −52
次に一般式[21について説明する
R21で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキシ基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキシ基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。
R2,で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ビロラゾール環、キノリン環
、インキノリン環、ベンズイミダゾール環、デアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ビロラゾール環、キノリン環
、インキノリン環、ベンズイミダゾール環、デアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
RZ+として特に好ましいものはアリール基である。
R31のアリール基まt;は不飽和へテロ環基は置換さ
れていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたア
ミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30
を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)などがある。
れていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたア
ミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30
を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)などがある。
一般式[2]のR1ffで表される基のうち置換されて
もよいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであ
って、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていて
もよい。
もよいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであ
って、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていて
もよい。
一般式[2]においてR12で表される基のうち置換さ
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがあ
る R2.で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがあ
る R2.で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。
At1t換されてもよいアルキル基、アルコシ基または
一〇−−S−−N−基結合を含む環状構造であってもよ
い。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
一〇−−S−−N−基結合を含む環状構造であってもよ
い。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
一般式[2]のRlIまたはRoはその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
一般式[2]のR81またはR1はその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4.355゜105号に記載されI
;基があげられる。一般式[2]で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4.355゜105号に記載されI
;基があげられる。一般式[2]で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
一般式[2−al
上記一般式[2−al中、
RoおよびR14は水素原子、置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル
基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、
2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、
ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基
、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロ
ピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2
−ピロリジル基)を表し、 R1,は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、Ro及びRttは2価の芳香族基
(例えば7エ二レン基またはナフチレン基)を表し、Y
はイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合基
(例えば−S O! CH* Cf’f * N 11
S Oz N II、−0CH!So、NH,−0
−−C)l−N−)を表し、 R□は−NR’R“または−ORよ、を表し、R’、R
”及びRoは水素原子、置換されてもよいアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニル基
(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−メト
キシフェニル基)またはす7チル基(例えばα−ナフチ
ル基、β−ナフチル基)を表し、m、nは0または1を
表す。R8,がOR,、を表すときYはイオウ原子を表
すのが好ましい。
ル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル
基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、
2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、
ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基
、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロ
ピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2
−ピロリジル基)を表し、 R1,は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、Ro及びRttは2価の芳香族基
(例えば7エ二レン基またはナフチレン基)を表し、Y
はイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合基
(例えば−S O! CH* Cf’f * N 11
S Oz N II、−0CH!So、NH,−0
−−C)l−N−)を表し、 R□は−NR’R“または−ORよ、を表し、R’、R
”及びRoは水素原子、置換されてもよいアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニル基
(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−メト
キシフェニル基)またはす7チル基(例えばα−ナフチ
ル基、β−ナフチル基)を表し、m、nは0または1を
表す。R8,がOR,、を表すときYはイオウ原子を表
すのが好ましい。
上記一般式[2]及び[2−alで表される代表的な−
紋針[2]の具体例 ■ CF。
紋針[2]の具体例 ■ CF。
■
※→HNHCCOCH,Cllff1SO□CH,CH
20H※−NHNHCCOCH2CI2SCH,CH,
OHに、H,n =43 ※ ■ 1l −NHNHCCNHC、!11□ 次に、上記具体的化合物のうち化合物2−45゜2−4
7を例にとって、その合成法を示す。
20H※−NHNHCCOCH2CI2SCH,CH,
OHに、H,n =43 ※ ■ 1l −NHNHCCNHC、!11□ 次に、上記具体的化合物のうち化合物2−45゜2−4
7を例にとって、その合成法を示す。
化合物2−45の合成
合成スキーム
(A)
(B)
(E)
化合物4−ニトロフェニルヒドラジン1539と500
tnQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流す
る。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後
に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回
洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち5
09を1000+aQのメタノールで加温溶解し、pd
/ C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加
圧したH 、雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
tnQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流す
る。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後
に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回
洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち5
09を1000+aQのメタノールで加温溶解し、pd
/ C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加
圧したH 、雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
この化合物(B)22gをアセトニトリル200m<1
とピリジン16yの溶液に溶かし室温で化合物(C)2
49のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得た。
とピリジン16yの溶液に溶かし室温で化合物(C)2
49のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得た。
化合物(D )309を上記と同様に水添をして化合物
(E)20pを得た。
(E)20pを得た。
化合物(E)109をアセトニトリル100mffに溶
解しエチルイソチオシアネート3.0gを加え、1時間
還流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.09をメタノール5
0mffに溶解してメチルアミン(40%水溶液8mQ
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
解しエチルイソチオシアネート3.0gを加え、1時間
還流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.09をメタノール5
0mffに溶解してメチルアミン(40%水溶液8mQ
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
化合物2−47の合成
合成スキーム
(B)
(C)
(D)
(E)
化合物2−47
化a物(B)229をピリジン200m12に溶解し攪
拌すル中へ、p−二トロベンゼンスルホニルクロライド
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物(C)を得た。この化合物CC)を合
成スキームに従って化合物2−45と同様の反応により
化合物2−47を得た。
拌すル中へ、p−二トロベンゼンスルホニルクロライド
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物(C)を得た。この化合物CC)を合
成スキームに従って化合物2−45と同様の反応により
化合物2−47を得た。
次に一般式[31について説明する。
−紋針[31。
Ar NIINII CRs+
一般式[3]中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、
耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基
は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性
な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニ
ル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフ
ェノキシ基などの中から選ぶことができる。
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、
耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基
は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性
な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニ
ル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフ
ェノキシ基などの中から選ぶことができる。
ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4゜385.108号に
記載された基が挙げられる。
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4゜385.108号に
記載された基が挙げられる。
Rslは置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イングロビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イングロビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、ペ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メ・キシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、hルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−7エニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミノ、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えば、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミノカルボニル
オキシ(例えばメチルアミノカルボニルオキシ ルボニルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオ
キシ等)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファ
モイル(例えば、メチルスルファモイル等)、アリール
スルファモイル(例えば、フェニルスルファモイル等)
等の各店が挙げられる。
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、ペ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メ・キシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、hルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−7エニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミノ、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えば、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミノカルボニル
オキシ(例えばメチルアミノカルボニルオキシ ルボニルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオ
キシ等)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファ
モイル(例えば、メチルスルファモイル等)、アリール
スルファモイル(例えば、フェニルスルファモイル等)
等の各店が挙げられる。
ヒドラジンの水素丁子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、7ンル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。
ルホニル、トルエンスルホニル等)、7ンル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。
上記−紋針[31で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。
以下に示すものがある。
=14
ta
υ
一22
=24
※−N11N11CCI!QC)1IC11,QC)+
2CII!OH得 jこ 。
2CII!OH得 jこ 。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明の ハロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀
1 モル当り、 X 10−’ないし Xl0−’モル までか好まし く 更Iこ好まし く は X 10−’ない し 次に化合物3− 5の合成例について述べる。
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明の ハロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀
1 モル当り、 X 10−’ないし Xl0−’モル までか好まし く 更Iこ好まし く は X 10−’ない し 次に化合物3− 5の合成例について述べる。
化合物3−
5の合成
合成スキーム
化合物2−45の合成法に準じて化合物3を
一般式 [4]
〔但し一般式[4]中R41はアルキル基、具体的には
例えば炭素数1〜8のアルキル基、例えばメチル基、エ
チル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル
基、2−アセトキシエチル基、カルボキシメチル基、2
−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、4
−カルボキシブチル基、スルホエチル基、3−スルホプ
ロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル基、
ビニールメチル基、ベンジル基、フェネチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が好ましい
、2は5員環または6員環の複素環を形成するのに必要
な非金属原子群であり、前記複素環としては例えばチア
ゾール環、セレナゾール環、オキサゾール環、ベンゾチ
アゾール環、ベンゾセレナゾール環、ベンズオキサゾー
ル環、ナフトチアゾール環、ナフトセレナゾール環、ナ
フトオキサゾール環、ピリジン環、キノリン環等を挙げ
ることができ、さらにこれら複素環は置換基を有してい
てもよく、これら置換基は例えばハロゲン原子(例えば
塩素原子、臭素原子等)、例えばアルキル基好ましくは
炭素原子数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基等)、ハロゲン化アルキル基(例
えばトリフルオロメチル基等)、アルコキシ基好ましく
は炭素原子数1〜4のアルコキシ基(例えばメトキシ基
、エトキシ基、n−プロピルオキシ基等)、ヒドロキシ
基、アリール基(例えばフェニル基等)等が挙げられる
。Qlは5員環の複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表わし、これら複素環としては例えばローダニン
環、チオヒダントイン環、チオオキサゾリジンジオン環
、チオセレナゾリジンジオン環等を挙げることができ、
これら複素環は置換基を有していてもよく、これら置換
基はアルキル基好ましくは炭素原子数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、2−
ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチルオキシエチ
ル基、2−メトキシエチル基、2−アセトキシエチル基
、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3−
カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、2−
スルホエチル基、3−スルホプロピル基、3−スルホブ
チル基、4−スルホブチル基、ベンジル基、フェネチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基等)、アリール基(
例えばフェニル基、p−スルホフェニル基等)、ピリジ
ル基(例えば2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピ
リジル基、4−メチル−2−ピリジル基等)が挙げられ
る。また鵬は1または2を表わす、〕上記一般式[4]
で示される化合物は、例えば以下4−1〜4−25が挙
げられる。
例えば炭素数1〜8のアルキル基、例えばメチル基、エ
チル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル
基、2−アセトキシエチル基、カルボキシメチル基、2
−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、4
−カルボキシブチル基、スルホエチル基、3−スルホプ
ロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル基、
ビニールメチル基、ベンジル基、フェネチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が好ましい
、2は5員環または6員環の複素環を形成するのに必要
な非金属原子群であり、前記複素環としては例えばチア
ゾール環、セレナゾール環、オキサゾール環、ベンゾチ
アゾール環、ベンゾセレナゾール環、ベンズオキサゾー
ル環、ナフトチアゾール環、ナフトセレナゾール環、ナ
フトオキサゾール環、ピリジン環、キノリン環等を挙げ
ることができ、さらにこれら複素環は置換基を有してい
てもよく、これら置換基は例えばハロゲン原子(例えば
塩素原子、臭素原子等)、例えばアルキル基好ましくは
炭素原子数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基等)、ハロゲン化アルキル基(例
えばトリフルオロメチル基等)、アルコキシ基好ましく
は炭素原子数1〜4のアルコキシ基(例えばメトキシ基
、エトキシ基、n−プロピルオキシ基等)、ヒドロキシ
基、アリール基(例えばフェニル基等)等が挙げられる
。Qlは5員環の複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表わし、これら複素環としては例えばローダニン
環、チオヒダントイン環、チオオキサゾリジンジオン環
、チオセレナゾリジンジオン環等を挙げることができ、
これら複素環は置換基を有していてもよく、これら置換
基はアルキル基好ましくは炭素原子数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、2−
ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチルオキシエチ
ル基、2−メトキシエチル基、2−アセトキシエチル基
、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3−
カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、2−
スルホエチル基、3−スルホプロピル基、3−スルホブ
チル基、4−スルホブチル基、ベンジル基、フェネチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基等)、アリール基(
例えばフェニル基、p−スルホフェニル基等)、ピリジ
ル基(例えば2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピ
リジル基、4−メチル−2−ピリジル基等)が挙げられ
る。また鵬は1または2を表わす、〕上記一般式[4]
で示される化合物は、例えば以下4−1〜4−25が挙
げられる。
(例示化合物)
C1l 2 Cll = CH2
CI+3
2Hs
2HS
本発明で用いる上記一般式[4]で示される化合物は、
例えば米国特許第2,161,331号公報および西独
特許第936.071号公報等に記載されている方法に
基づいて容易に合成することができる。上記一般式[4
コで示される化合物をハロゲン化銀乳剤に使用するには
、塗布液中に添加溶解せしめるか、水あるいはメタノー
ル、エタノール、アセトン等の有機溶媒の単独もしくは
それらの混合物に溶解して任意の時期に塗布液中に添加
すればよい0通常は熟成終了後から塗布直前までの任意
の時期に添加すればよい、好ましくは、ハロゲン化銀乳
剤層に添加する。但し、必要に応じて写真性能上影響の
ない範囲でハロゲン化銀乳剤層に隣接する層、例えば保
護層、中間層等にも添加する。ことができる。
例えば米国特許第2,161,331号公報および西独
特許第936.071号公報等に記載されている方法に
基づいて容易に合成することができる。上記一般式[4
コで示される化合物をハロゲン化銀乳剤に使用するには
、塗布液中に添加溶解せしめるか、水あるいはメタノー
ル、エタノール、アセトン等の有機溶媒の単独もしくは
それらの混合物に溶解して任意の時期に塗布液中に添加
すればよい0通常は熟成終了後から塗布直前までの任意
の時期に添加すればよい、好ましくは、ハロゲン化銀乳
剤層に添加する。但し、必要に応じて写真性能上影響の
ない範囲でハロゲン化銀乳剤層に隣接する層、例えば保
護層、中間層等にも添加する。ことができる。
また、本発明で用いる上記一般式[4コで示される化合
物をハロゲン化銀乳剤に添加する場合の使用量について
は、ハロゲン化銀乳剤の種類、化合物の種類によって異
なるが、通常ハロゲン化銀1モルあたり5a+gから5
00agの広範囲にわたり、適宜効果の得られる最適量
を任意に選択することが次に本発明のハロゲン化銀写真
感光材料に用いるハロゲン化銀について説明する。ハロ
ゲン化銀としては、任意の組成のものを使用できる0例
えば塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、純臭化銀もしくは
塩沃臭化銀がある。このハロゲン化銀の粒子の平均径は
0.05〜0.5μ−の範囲のものが好ましく用いられ
るが、なかでも0.10〜0.40μ−のものが好適で
ある。
物をハロゲン化銀乳剤に添加する場合の使用量について
は、ハロゲン化銀乳剤の種類、化合物の種類によって異
なるが、通常ハロゲン化銀1モルあたり5a+gから5
00agの広範囲にわたり、適宜効果の得られる最適量
を任意に選択することが次に本発明のハロゲン化銀写真
感光材料に用いるハロゲン化銀について説明する。ハロ
ゲン化銀としては、任意の組成のものを使用できる0例
えば塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、純臭化銀もしくは
塩沃臭化銀がある。このハロゲン化銀の粒子の平均径は
0.05〜0.5μ−の範囲のものが好ましく用いられ
るが、なかでも0.10〜0.40μ−のものが好適で
ある。
本発明で用いるハロゲン化銀粒子の粒径分布は任意であ
るが、以下定義する単分散度の値が1〜30のものが好
ましく、更に好ましくは5〜2oの範囲となるように調
整する。
るが、以下定義する単分散度の値が1〜30のものが好
ましく、更に好ましくは5〜2oの範囲となるように調
整する。
ここで単分散度は、粒径の標準偏差を平均粒径で割った
値を100倍した数値として定義されるものである。な
おハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜上、立方晶粒子の場
合は校長で表し、その他の粒子く8面体、14面体等)
は、投影面積の平方根で算出する。
値を100倍した数値として定義されるものである。な
おハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜上、立方晶粒子の場
合は校長で表し、その他の粒子く8面体、14面体等)
は、投影面積の平方根で算出する。
本発明を実施する場合、例えばハロゲン化銀の粒子とし
て、その構造が少なくとも2層の多層積層構造を有する
タイプのものを用いることができ、例えばコア部に塩化
銀、シェル部に臭化銀逆にコア部が臭化銀、シェル部が
塩化銀である塩臭化銀粒子から成るものを用いることが
できる。このとき、沃素を任意の層に5モル%以内で含
有させることができる。
て、その構造が少なくとも2層の多層積層構造を有する
タイプのものを用いることができ、例えばコア部に塩化
銀、シェル部に臭化銀逆にコア部が臭化銀、シェル部が
塩化銀である塩臭化銀粒子から成るものを用いることが
できる。このとき、沃素を任意の層に5モル%以内で含
有させることができる。
さらにまた、ハロゲン化銀は種々の化学増感剤によって
増感することができる。その増感剤として、例えば、活
性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、アリルチオ
カルバミド、チオ尿素、アリルイソチアシネート等)、
セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素、セレノ尿
素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミン、塩化銀
1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライト、カリウ
ムオーリチオシアネート、カリウムクロロオーレート、
2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルクロライド、
アンモニウムクロロパラデート、カリウムクロロオーレ
−ト、ナトリウムクロロパラダイト等で代表される各種
貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるいは2種以上併
用して用いることができる。なお金増感剤を使用する場
合は助剤的にロダンアンモンを使用することもできる。
増感することができる。その増感剤として、例えば、活
性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、アリルチオ
カルバミド、チオ尿素、アリルイソチアシネート等)、
セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素、セレノ尿
素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミン、塩化銀
1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライト、カリウ
ムオーリチオシアネート、カリウムクロロオーレート、
2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルクロライド、
アンモニウムクロロパラデート、カリウムクロロオーレ
−ト、ナトリウムクロロパラダイト等で代表される各種
貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるいは2種以上併
用して用いることができる。なお金増感剤を使用する場
合は助剤的にロダンアンモンを使用することもできる。
本発明に用いるハロゲン化銀粒子は、内部の感度より
表面感度の高い粒子、謂ゆるネガ画像を与える110ゲ
ン化銀粒子に好ましく適用することができるので上記化
学増感剤で処理することにより性能を高めることができ
る。
表面感度の高い粒子、謂ゆるネガ画像を与える110ゲ
ン化銀粒子に好ましく適用することができるので上記化
学増感剤で処理することにより性能を高めることができ
る。
また本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、メルカプ
ト類(1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2
−メルカプトベンツチアゾール)ベンゾトリアゾール類
(5−ブロムベンゾトリアゾール−5−メチルベンゾト
リアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニドロペン
ツイミダゾール)などを用いて安定化またはカブリ抑制
を行うことができる。なお本発明に用いられるハロゲン
化銀乳剤には、増感色素、可塑剤、帯電防止剤、界面活
性剤、硬膜剤などを加えることもできる。
ト類(1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2
−メルカプトベンツチアゾール)ベンゾトリアゾール類
(5−ブロムベンゾトリアゾール−5−メチルベンゾト
リアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニドロペン
ツイミダゾール)などを用いて安定化またはカブリ抑制
を行うことができる。なお本発明に用いられるハロゲン
化銀乳剤には、増感色素、可塑剤、帯電防止剤、界面活
性剤、硬膜剤などを加えることもできる。
本発明に係る一般式[1]、[2]、[3]の化合物を
親水性コロイド層に添加する場合、該親水性コロイド層
のバインダーとしてはゼラチンが好適であるが、ゼラチ
ン以外の親水性コロイドも用いることができる。これら
の親水性バインダーは支持体の両面にそれぞれ10g/
m2以下で塗設することが好ましい。
親水性コロイド層に添加する場合、該親水性コロイド層
のバインダーとしてはゼラチンが好適であるが、ゼラチ
ン以外の親水性コロイドも用いることができる。これら
の親水性バインダーは支持体の両面にそれぞれ10g/
m2以下で塗設することが好ましい。
本発明の実施に際して用い得る支持体としては、例えば
バライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成
紙、ガラス板、セルロースアセテート、セルロースナイ
トレート、例えばポリエチレンテレフタレートなどのポ
リエステルフィルムを挙げることができる。これらの支
持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的
に応じて本発明において使用される現像液には、有機溶
媒としてジェタノールアミンやトリエタノールアミン等
のアルカノールアミン類やジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール等のグリコール類を含有させてもよ
い、またジエチルアミノ−1゜2−プロパンジオール、
ブチルアミツブロバノール等のアルキルアミノアルコー
ル類は特に好ましく用いることができる。
バライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成
紙、ガラス板、セルロースアセテート、セルロースナイ
トレート、例えばポリエチレンテレフタレートなどのポ
リエステルフィルムを挙げることができる。これらの支
持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的
に応じて本発明において使用される現像液には、有機溶
媒としてジェタノールアミンやトリエタノールアミン等
のアルカノールアミン類やジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール等のグリコール類を含有させてもよ
い、またジエチルアミノ−1゜2−プロパンジオール、
ブチルアミツブロバノール等のアルキルアミノアルコー
ル類は特に好ましく用いることができる。
以下本発明の実施例について説明する。なお当然のこと
ではあるが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるも
のではない。
ではあるが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるも
のではない。
実施例−1
写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層に一般式[1]、[
2]、[3]、[4]で表される例示化合物(その種類
は後掲の表−1に示す。)を次の要領で各々添加して、
試料を調製した。
2]、[3]、[4]で表される例示化合物(その種類
は後掲の表−1に示す。)を次の要領で各々添加して、
試料を調製した。
〈ハロゲン化銀写真感光材料の調製)
両面に厚さ0.1μmの下塗層 (特開昭59−199
41の実施例−1の方法による)を施した厚さ100μ
IIIのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の
下塗層上に、下記処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼ
ラチン量が1.5g/m”、銀量が3.3g/m2にな
る様に塗設し、さらにその上に下記処方(2)の保護層
をゼラチン量が1.0g/m”になる様に塗設し、また
反対側のもう一方の下塗層上には下記処方(3)に従っ
てバッキング層をゼラチン量が3.5g/m”になる様
に塗設し、さらにその上に下記処方(4)の保護層をゼ
ラチン量が1 gem”になる様に塗設して試料No。
41の実施例−1の方法による)を施した厚さ100μ
IIIのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の
下塗層上に、下記処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼ
ラチン量が1.5g/m”、銀量が3.3g/m2にな
る様に塗設し、さらにその上に下記処方(2)の保護層
をゼラチン量が1.0g/m”になる様に塗設し、また
反対側のもう一方の下塗層上には下記処方(3)に従っ
てバッキング層をゼラチン量が3.5g/m”になる様
に塗設し、さらにその上に下記処方(4)の保護層をゼ
ラチン量が1 gem”になる様に塗設して試料No。
1〜13を得た。
処方(1)〔ハロゲン化銀乳剤層組成〕ゼラチン
1.5g/鋤2沃臭化銀(八gBr
99モル%、八g11モル%、単分散度= 12.5.
0.7モル/^gモルのIrを含有する>
3.3g/醜2カブリ防止剤:4−ヒドロキ
シ−6= メチル−1,3,3a。
1.5g/鋤2沃臭化銀(八gBr
99モル%、八g11モル%、単分散度= 12.5.
0.7モル/^gモルのIrを含有する>
3.3g/醜2カブリ防止剤:4−ヒドロキ
シ−6= メチル−1,3,3a。
7−チトラザインデン
0.30g/m”
本発明の化合物または比較化合物:
表−1による
界面活性剤:サポニン 0.1g/m2ラテ
ックスポリマー (スチレン− アクリル酸−ブチルアクリレート 3元共重合ポリマー) 1.0g/鵬2処
方(2)〔乳剤保護層組成〕 ゼラチン 1.0g/輸2マット
剤:平均粒径3.0〜5.0μ醜のポリメチポリメチル メタクリレート 0.05g/m”界面活性剤:n
−ドデシルベンゼン スルホン酸ソーダ 0.01H/m2 硬膜剤:ホルマリン 0.03g/m2グリ
オキザール 0.01g/蘭2処方(3)〔バッ
キング層組成〕 1 17m2 1 gets2 界面活性剤:サポニン 0.1g/閤2硬膜剤
:グリオキザール O,1g/s+”処方(4)
〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン 1 g/糟2マット
剤:平均粒径3,0〜5.0μ輪のポリメチルメタクリ
レート 0.5g/m2 界面活性剤:p−ドデシルベンゼン スルホン酸ソーダ 0.01g/m2 硬膜剤:ホルマリン 0.03g/m”グリ
オキザール 0.01g/輸?得られた試料につ
いて、下記の方法による網点品質試験を行った。
ックスポリマー (スチレン− アクリル酸−ブチルアクリレート 3元共重合ポリマー) 1.0g/鵬2処
方(2)〔乳剤保護層組成〕 ゼラチン 1.0g/輸2マット
剤:平均粒径3.0〜5.0μ醜のポリメチポリメチル メタクリレート 0.05g/m”界面活性剤:n
−ドデシルベンゼン スルホン酸ソーダ 0.01H/m2 硬膜剤:ホルマリン 0.03g/m2グリ
オキザール 0.01g/蘭2処方(3)〔バッ
キング層組成〕 1 17m2 1 gets2 界面活性剤:サポニン 0.1g/閤2硬膜剤
:グリオキザール O,1g/s+”処方(4)
〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン 1 g/糟2マット
剤:平均粒径3,0〜5.0μ輪のポリメチルメタクリ
レート 0.5g/m2 界面活性剤:p−ドデシルベンゼン スルホン酸ソーダ 0.01g/m2 硬膜剤:ホルマリン 0.03g/m”グリ
オキザール 0.01g/輸?得られた試料につ
いて、下記の方法による網点品質試験を行った。
(網点品質性試験方法)
ステップウェッジに網点面積50%の返し網スクリーン
(150線/インチ)を一部付して、これに試料を密
着させてキセノン光源でlXl0−’秒間露光を与え、
この試料を下記現像液、下記定着液を投入した迅速処理
用自動現像機にて下記の条件で現像処理を行い、試料の
網点品質を100倍のルーペで観察し、網点品質の高い
ものを「5」ランクとし、以下「4」、「3」、「2」
、「1」までの5ランクとした。なおランク 「1」及
び「2」は実用上好ましくないレベルである。
(150線/インチ)を一部付して、これに試料を密
着させてキセノン光源でlXl0−’秒間露光を与え、
この試料を下記現像液、下記定着液を投入した迅速処理
用自動現像機にて下記の条件で現像処理を行い、試料の
網点品質を100倍のルーペで観察し、網点品質の高い
ものを「5」ランクとし、以下「4」、「3」、「2」
、「1」までの5ランクとした。なおランク 「1」及
び「2」は実用上好ましくないレベルである。
また網点中のカブリも同様に評価し、網点中に全く黒ビ
ンの発生していないものを最高ランク「5」とし、網点
中に発生する黒ピンの発生度に応じてランク r4J、
r3J、「2ノ、’IJとそのランクを順次下げて評価
するものとした。なお、ランク 「1」及び「2」では
黒ビンも大きく実用上好ましくないレベルである。
ンの発生していないものを最高ランク「5」とし、網点
中に発生する黒ピンの発生度に応じてランク r4J、
r3J、「2ノ、’IJとそのランクを順次下げて評価
するものとした。なお、ランク 「1」及び「2」では
黒ビンも大きく実用上好ましくないレベルである。
(現像液処方)
(組成A)
純水(イオン交換水) 150m1工チ
レンジアミン四酢酸二ナトリウム塩g ジエチレングリコール 50g亜硫酸カリ
ウム (55%w/v水溶液) 100d炭酸カリウ
ム 50゜ハイドロキノン
15g5−メチルベンゾトリアゾール
200mg1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール30糟g 水酸化カリウム 使用後のDHを11.5にする
量 臭化カリウム (組成り) g ll11 純水(イオン交換水) ジエチレングリコール ジエチルアミノ−1,2−プロパン ジオール 15gエチレン
ジアミン四酢酸二ナトリウム塩0g 5B 酢酸(90%水溶液)0.3輪1 5−ニトロインダゾール 110ng1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン 500+++g現像液
の使用時に水500m1中に上記組成A、組成りの順に
溶かし、11に仕上げて用いた。
レンジアミン四酢酸二ナトリウム塩g ジエチレングリコール 50g亜硫酸カリ
ウム (55%w/v水溶液) 100d炭酸カリウ
ム 50゜ハイドロキノン
15g5−メチルベンゾトリアゾール
200mg1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール30糟g 水酸化カリウム 使用後のDHを11.5にする
量 臭化カリウム (組成り) g ll11 純水(イオン交換水) ジエチレングリコール ジエチルアミノ−1,2−プロパン ジオール 15gエチレン
ジアミン四酢酸二ナトリウム塩0g 5B 酢酸(90%水溶液)0.3輪1 5−ニトロインダゾール 110ng1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン 500+++g現像液
の使用時に水500m1中に上記組成A、組成りの順に
溶かし、11に仕上げて用いた。
゛(定着液処方)
(組成A)
チオVIL酸アンモニウム (72,5%−/V水溶液
)7g 6゜5g g g 13.6+*Z 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90%w/w水溶液) (組成り) 純水(イオン交換水) 17mf硫酸(
50%w/wの水溶液) 4.7g硫酸アル
ミニウム (^a20.換算、含量が8.1%w/−の水溶液)2
6.5g 定着液の使用時に水500+*1中に上記組成A、組成
りの順に溶かし、11に仕上げて用いた。この定着液の
pHは約4.3であった。
)7g 6゜5g g g 13.6+*Z 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90%w/w水溶液) (組成り) 純水(イオン交換水) 17mf硫酸(
50%w/wの水溶液) 4.7g硫酸アル
ミニウム (^a20.換算、含量が8.1%w/−の水溶液)2
6.5g 定着液の使用時に水500+*1中に上記組成A、組成
りの順に溶かし、11に仕上げて用いた。この定着液の
pHは約4.3であった。
(現像処理条件)
(工 程) (温 度) (時 間)現 像
40℃ 15秒定 着
35℃ 10秒水 洗
30℃ 10秒なお、処方(
1)におけるハロゲン化銀乳剤層に添加した比較化合物
としては一般式[4]で示される化合物の比較として下
記化合物(a)を300mg/八gモル添加し、−紋針
[1]、[2]、[3]で示される化合物の比較として
は、以下の(b)〜(d)の化合物を使用した。
40℃ 15秒定 着
35℃ 10秒水 洗
30℃ 10秒なお、処方(
1)におけるハロゲン化銀乳剤層に添加した比較化合物
としては一般式[4]で示される化合物の比較として下
記化合物(a)を300mg/八gモル添加し、−紋針
[1]、[2]、[3]で示される化合物の比較として
は、以下の(b)〜(d)の化合物を使用した。
表−1
(試験結果)
表−1、本発明の試料No、5〜20と上記比較化合物
を用いて調製した試料No、1〜4,21について、そ
のハロゲン化銀乳剤層に添加した化合物とその添加量を
示した。なお表−1中の一般式[1]〜[4]の化合物
は、前記例示化合物の番号で示した。
を用いて調製した試料No、1〜4,21について、そ
のハロゲン化銀乳剤層に添加した化合物とその添加量を
示した。なお表−1中の一般式[1]〜[4]の化合物
は、前記例示化合物の番号で示した。
表−2は網点品質性試験及び感度の結果を、上記各試料
に対してランク付けして示したものである。
に対してランク付けして示したものである。
表−2からも明らかなように、網点品質に関しては、本
発明に係る試料N005〜20がいずれもランク [4
」以上でランク 「5」の方が多い結果を示し、比較試
料No、 1〜4.21はいずれもランク「3」以下と
いう結果を示している。ランク 「1」、「2」が実用
に耐えないレベルであることに徴すれば、試料No、1
〜4.21はいずれも網点品質は良好なものとは言い難
いが、本発明に係る試料N095〜20はいずれも極め
て網点品質が高く良好なものであることがわかった。
発明に係る試料N005〜20がいずれもランク [4
」以上でランク 「5」の方が多い結果を示し、比較試
料No、 1〜4.21はいずれもランク「3」以下と
いう結果を示している。ランク 「1」、「2」が実用
に耐えないレベルであることに徴すれば、試料No、1
〜4.21はいずれも網点品質は良好なものとは言い難
いが、本発明に係る試料N095〜20はいずれも極め
て網点品質が高く良好なものであることがわかった。
また、カブリの指標とする黒ビンの発生度に関しても、
本発明に係る試料No、5〜20はいずれもランク r
5.に評価され、カブリのない極めて良好な結果を示し
ているに対し、比較試料1〜4はいずれもランク 「2
」以下であって実用に耐え難い結果を示していることが
わかった。
本発明に係る試料No、5〜20はいずれもランク r
5.に評価され、カブリのない極めて良好な結果を示し
ているに対し、比較試料1〜4はいずれもランク 「2
」以下であって実用に耐え難い結果を示していることが
わかった。
本発明により黄色安全灯下での取り扱いが安全であって
、しかも^rレーザー光源に対して高い感度を有し、か
つコントラストが高くすぐれた網点を与えるハロゲン化
銀写真感光材料を提供することが出来た。
、しかも^rレーザー光源に対して高い感度を有し、か
つコントラストが高くすぐれた網点を与えるハロゲン化
銀写真感光材料を提供することが出来た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層
を設けたハロゲン化銀写真感光材料において、上記ハロ
ゲン化銀の少なくとも一層に含まれるハロゲン化銀が平
均粒径0.05〜0.5μm、単分散度5〜25であり
、かつ上記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層中に下
記一般式[1]、[2]、[3]で示される化合物から
選ばれる少なくとも一種類の化合物および下記一般式[
4]で示される化合物から選ばれる少なくとも一種類の
化合物を含有していることを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料。 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
っても、異なっていてもよい。)一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を、R_2_2は水素原子、置換してもよいアルコ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリー
ルオキシ基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシ
ル基、またはスルフィン酸基を表す。)一般式[3] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_3_1は
置換アルキル基を表す。) 一般式[4] ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し一般式[4]中R_4_1はアルキル基、Zは5
または6員環の複素環を形成するのに必要な非金属原子
群、Qは5員環の複素環を形成するために必要な非金属
原子群、mは1または2を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP357388A JPH0239A (ja) | 1987-10-20 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-264234 | 1987-10-20 | ||
| JP26423487 | 1987-10-20 | ||
| JP357388A JPH0239A (ja) | 1987-10-20 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0239A true JPH0239A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26337194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP357388A Pending JPH0239A (ja) | 1987-10-20 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0239A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392257B1 (en) | 2000-02-10 | 2002-05-21 | Motorola Inc. | Semiconductor structure, semiconductor device, communicating device, integrated circuit, and process for fabricating the same |
| US7046719B2 (en) | 2001-03-08 | 2006-05-16 | Motorola, Inc. | Soft handoff between cellular systems employing different encoding rates |
| KR20160114925A (ko) | 2015-03-25 | 2016-10-06 | 홍광의 | 2단계로 구분하여 가열하는 열매체오일통과 발효분해조와 제1,제2숙성조로 구성된 미생물을 이용한 음식물쓰레기 처리장치 |
| US9778637B2 (en) | 2011-09-20 | 2017-10-03 | Daifuku Co., Ltd. | Facility control system and facility control method |
| US9778625B2 (en) | 2011-09-20 | 2017-10-03 | Daifuku Co., Ltd. | Facility control system and facility control method |
| US10772730B2 (en) | 2011-04-06 | 2020-09-15 | DePuy Synthes Products, Inc. | Finishing rasp and orthopaedic surgical procedure for using the same to implant a revision hip prosthesis |
-
1988
- 1988-01-11 JP JP357388A patent/JPH0239A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392257B1 (en) | 2000-02-10 | 2002-05-21 | Motorola Inc. | Semiconductor structure, semiconductor device, communicating device, integrated circuit, and process for fabricating the same |
| US7046719B2 (en) | 2001-03-08 | 2006-05-16 | Motorola, Inc. | Soft handoff between cellular systems employing different encoding rates |
| US10772730B2 (en) | 2011-04-06 | 2020-09-15 | DePuy Synthes Products, Inc. | Finishing rasp and orthopaedic surgical procedure for using the same to implant a revision hip prosthesis |
| US9778637B2 (en) | 2011-09-20 | 2017-10-03 | Daifuku Co., Ltd. | Facility control system and facility control method |
| US9778625B2 (en) | 2011-09-20 | 2017-10-03 | Daifuku Co., Ltd. | Facility control system and facility control method |
| KR20160114925A (ko) | 2015-03-25 | 2016-10-06 | 홍광의 | 2단계로 구분하여 가열하는 열매체오일통과 발효분해조와 제1,제2숙성조로 구성된 미생물을 이용한 음식물쓰레기 처리장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0239A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0237A (ja) | 高コントラストな画像が得られるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法 | |
| USH1063H (en) | Negative type light-sensitive silver halide photographic material | |
| JPH02103536A (ja) | 画像形成方法 | |
| JP2814137B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US5130226A (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| JP2756720B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2627195B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0253047A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0252A (ja) | 高コントラストな画像形成方法 | |
| JP2922258B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2796844B2 (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2564170B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2847542B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2791797B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0240A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0241A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2880255B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2566448B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2835634B2 (ja) | 高コントラストなハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0429130A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0476532A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0470647A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0251145A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0336541A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |