JPH0240132A - Reproduction of substrate for hard disk - Google Patents
Reproduction of substrate for hard diskInfo
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- JPH0240132A JPH0240132A JP19146788A JP19146788A JPH0240132A JP H0240132 A JPH0240132 A JP H0240132A JP 19146788 A JP19146788 A JP 19146788A JP 19146788 A JP19146788 A JP 19146788A JP H0240132 A JPH0240132 A JP H0240132A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、基板上に形成される磁性層を除去してハード
ディスク用基板を再生するハードディスク用基板の再生
方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for reclaiming a hard disk substrate, which involves removing a magnetic layer formed on the substrate and reclaiming the hard disk substrate.
例えば、コンピュータ等の記憶媒体としては、ランダム
アクセスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられ
ており、なかでも応答性に優れること、記憶容量が多い
こと等から、基板にA1合金やAI!、−Mg合金ある
いはガラス板、プラスチック板等の硬質材料を用いた磁
気ディスクが固定ディスクあるいは外部ディスクとして
使用されるようになっている。For example, disk-shaped magnetic disks that can be randomly accessed are widely used as storage media for computers, etc., and because of their excellent responsiveness and large storage capacity, A1 alloy and AI are used as substrates. ! , -Magnetic disks made of hard materials such as Mg alloys, glass plates, plastic plates, etc. are now being used as fixed disks or external disks.
上記ハードディスクは、例えば磁気ディスク用のAj!
−Mg合金基板等の上にNj−Pメツキ層あるいはアル
マイト処理層が下地層として形成され、その上に記録再
生に関与する磁性層と該磁性層を保護するカーボン被膜
等による保護膜層が順次スパッタリングや蒸着等により
被着されて形成される。このハードディスクは、円周方
向に高速で回転して同心円上の多数のトラックに情報の
記録再生を行うものである。The above-mentioned hard disk is, for example, Aj! for magnetic disks.
- An Nj-P plating layer or alumite treatment layer is formed as a base layer on a Mg alloy substrate, etc., and a magnetic layer involved in recording and reproduction and a protective film layer such as a carbon film that protects the magnetic layer are sequentially formed on top of this. It is formed by being deposited by sputtering, vapor deposition, or the like. This hard disk rotates at high speed in the circumferential direction to record and reproduce information on a large number of concentric tracks.
ところで、このように形成されるハードディスクにあっ
ては、磁性層の脱刷がれやクラックの発生等により不良
品となる率が高く、歩留りの点で問題がある。ここで、
上記不良品となったハードディスクを単に捨ててしまう
と、該ハードディスクを構成するAN−Mg合金基板が
非常に高価なものであるために製造コストの大幅な上智
をもたらすことになる。このため、基板だけは再生して
使用することが行われている。By the way, hard disks formed in this manner have a high rate of defective products due to deprinting of the magnetic layer, generation of cracks, etc., and there is a problem in terms of yield. here,
If the defective hard disk is simply thrown away, the manufacturing cost will be significantly increased because the AN-Mg alloy substrate that constitutes the hard disk is very expensive. For this reason, only the substrate is recycled and used.
上記不良品となったハードディスクを再生するには、記
録再生特性に関与する前述の磁性層、保護膜層を除去し
、再び下地層であるN1−Pメツキ層を露出させる必要
がある。上記N1−Pメツキ層を露出させるには、例え
ば、研磨材により保護膜層、磁性層を削り取るポリシン
グ加工等が挙げられる。In order to reproduce the defective hard disk, it is necessary to remove the above-mentioned magnetic layer and protective film layer, which are involved in the recording and reproduction characteristics, and to expose the N1-P plating layer as the underlayer again. In order to expose the N1-P plating layer, for example, a polishing process in which the protective film layer and the magnetic layer are scraped off using an abrasive material can be used.
〔発明が解決しようとする課題]
ところが、上記ポリシング加工により前記保護膜層、磁
性層を除去しようとすると、保護膜層であるカーボン被
膜層の硬度が高いために研磨材が滑って容易に該保護膜
層を除去することができず、基板表面にはポリシング加
工によるボリシングむらが残ってしまう。特に、ボリシ
ングむらが大きいときには、基板までもが削り取られて
しまう虞れがある。[Problems to be Solved by the Invention] However, when attempting to remove the protective film layer and the magnetic layer by the polishing process, the abrasive material slips and is easily removed due to the high hardness of the carbon film layer, which is the protective film layer. The protective film layer cannot be removed, and uneven polishing caused by polishing remains on the substrate surface. Particularly, when the unevenness of the boring is large, there is a risk that even the substrate will be scraped off.
そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、下地層を何ら傷めることなく保護膜層及
び磁性層を確実に除去し、ハードディスク用基板の再生
品の歩留りを向上させるハードディスク用基板の再生方
法を提供することを目的とするものである。Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional situation, and is intended to improve the yield of recycled hard disk substrates by reliably removing the protective film layer and the magnetic layer without damaging the underlying layer. The object of the present invention is to provide a method for reproducing a hard disk substrate.
(課題を解決するための手段〕
本発明者等は上記の目的を達成するために、鋭意研究を
重ねた結果、磁性層を除去するのに無機酸溶液又は無機
酸に有機物を添加した溶液が有効であるとの知見を得て
本発明を完成するに至った。(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present inventors have conducted extensive research and found that an inorganic acid solution or a solution containing an organic substance added to an inorganic acid is used to remove the magnetic layer. The present invention was completed based on the knowledge that the method is effective.
本発明のハードディスク用基板の再生方法は、基板上に
下地層を介して磁性層を形成してなるハードディスクの
前記磁性層を無機M溶液又はfI#機酸に有機物を添加
した溶液により除去することを特徴とするものである。The method for reproducing a hard disk substrate of the present invention includes removing the magnetic layer of a hard disk formed by forming a magnetic layer on the substrate via an underlayer using an inorganic M solution or a solution prepared by adding an organic substance to fI# organic acid. It is characterized by:
上記無機酸としては、例えばリン酸、硫酸、塩酸、無水
クロム酸、ビロリン酸等が挙げられる。Examples of the inorganic acids include phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, chromic anhydride, and birophosphoric acid.
一方、有機物としては、例えばグリシン グリセリン等
が挙げられる。On the other hand, examples of organic substances include glycine and glycerin.
また磁性層を除去するムこは、無機酸溶液又は無機酸に
有機物を添加した溶液に不良品となったハードディスク
を単に浸漬させても良いし、あるいはこれらの溶液に浸
漬させるとともに電圧を印加してもよい。To remove the magnetic layer, you can simply immerse the defective hard disk in an inorganic acid solution or a solution containing an organic substance added to an inorganic acid, or you can immerse it in these solutions and apply a voltage. It's okay.
上記ハードディスクを単に浸漬させる場合には例えば、
次のような無機酸溶液又は無機酸に有機物を添加した溶
液を使用するとよい。かかる溶液を例示すれば、
■水とリン酸と無水クロム酸とからなり該溶液の温度が
80〜95°Cである溶液。この溶液の場合には、ハー
ドディスクを10〜60秒間浸漬させるとよい。For example, when simply immersing the hard disk,
The following inorganic acid solution or a solution prepared by adding an organic substance to an inorganic acid may be used. Examples of such solutions include: (1) A solution consisting of water, phosphoric acid, and chromic anhydride and having a temperature of 80 to 95°C. In the case of this solution, it is recommended to soak the hard disk for 10 to 60 seconds.
■水と硫酸とからなり該硫酸が溶液全体の40〜50%
である溶液であって、該溶液の温度が50〜75℃であ
る溶液。この溶液の場合には、ハードディスクを3〜5
分間浸漬させるとよい。■It consists of water and sulfuric acid, and the sulfuric acid accounts for 40 to 50% of the entire solution.
A solution having a temperature of 50 to 75°C. In the case of this solution, the hard disk should be
It is best to soak it for a minute.
■水と塩酸とグリシリンからなり該塩酸が溶液全体の4
0〜50%である溶液であって、該溶液の温度が常温〜
50°Cである溶液。■It consists of water, hydrochloric acid, and glycerin, and the hydrochloric acid accounts for 4% of the entire solution.
0 to 50%, the temperature of the solution is room temperature to
Solution at 50°C.
■水と塩酸とからなり該塩酸が溶液全体の20%である
溶液であって、該溶液の温度が常温である溶液。この溶
液の場合には、ハードディスクを3〜10秒間浸漬させ
ることが好ましい。(2) A solution consisting of water and hydrochloric acid, in which the hydrochloric acid accounts for 20% of the total solution, and the temperature of the solution is room temperature. In the case of this solution, it is preferable to immerse the hard disk for 3 to 10 seconds.
■水、硫酸、ロッシェル塩とからなり該硫酸が溶液全体
の10%、ロッシェル塩98 g/lである溶液であっ
て、該溶液の温度が70〜80°Cである溶液。(2) A solution consisting of water, sulfuric acid, and Rochelle's salt, in which the sulfuric acid accounts for 10% of the total solution and Rochelle's salt is 98 g/l, and the temperature of the solution is 70 to 80°C.
■水と塩酸とからなり、該塩酸が溶液全体の10〜50
%である溶液。この溶液の場合には該溶液の温度を70
〜80°Cに設定することが好ましい。■It consists of water and hydrochloric acid, and the hydrochloric acid accounts for 10 to 50% of the entire solution.
% solution. In the case of this solution, the temperature of the solution is 70°C.
It is preferable to set the temperature to 80°C.
等である。etc.
一方、電圧を印加して再生を行う場合には、例えば次の
ような溶液が好適である。かかる溶液を例示すれば、
■水、リン酸、硫酸、無水クロム酸からなる溶液。On the other hand, when performing regeneration by applying a voltage, the following solutions are suitable, for example. Examples of such solutions include: (1) A solution consisting of water, phosphoric acid, sulfuric acid, and chromic anhydride.
この溶液の場合には、該溶液の温度を70〜110°C
とし、1〜IOA/dm2の電流密度を印加するとよい
。In the case of this solution, the temperature of the solution is 70-110°C.
It is preferable to apply a current density of 1 to IOA/dm2.
■水と硫酸からなり該硫酸が溶液全体の70%である溶
液。この溶液の場合には、該溶液の温度を常温とし、1
〜5A/dm2の電流密度を印加することが好ましい。(2) A solution consisting of water and sulfuric acid, in which the sulfuric acid accounts for 70% of the total solution. In the case of this solution, the temperature of the solution is room temperature, and 1
Preferably, a current density of ~5 A/dm2 is applied.
■水と硫酸とクロム酸を飽和させた溶液であって、該硫
酸を60%とした溶液。この溶液の場合には、該溶液の
温度を常温とするのが好ましい。(2) A solution saturated with water, sulfuric acid, and chromic acid, the sulfuric acid being 60%. In the case of this solution, the temperature of the solution is preferably room temperature.
■塩酸と有機物であるグリセリンとからなり、該塩酸が
溶液全体の25%、グリセリン75%である溶液。この
溶液の場合には、該溶液の温度を常温とし、1.5A/
dm2の電流密度を印加することが好ましい。(2) A solution consisting of hydrochloric acid and glycerin, an organic substance, in which the hydrochloric acid accounts for 25% of the total solution and the glycerin accounts for 75%. In the case of this solution, the temperature of the solution is room temperature and 1.5A/
Preferably, a current density of dm2 is applied.
■水、硫酸、ピロリン酸、無水クロム酸からなり、該硫
酸が溶液全体の15%、ピロリン酸63%。(2) Consists of water, sulfuric acid, pyrophosphoric acid, and chromic anhydride; sulfuric acid accounts for 15% of the total solution, and pyrophosphoric acid accounts for 63%.
無水クロム酸10%である溶液。この溶液の場合には、
該溶液の温度を50〜70°Cとし、10〜2OA/d
m2の電流密度を印加することが好ましい。A solution that is 10% chromic anhydride. For this solution,
The temperature of the solution is 50-70°C, and the flow rate is 10-2OA/d.
Preferably, a current density of m2 is applied.
■水と硫酸からなり、該硫酸が溶液全体の25〜50%
である溶液。この溶液の場合には、該溶液の温度を常温
とし、10〜20A/dm”の電流密度を印加すること
が好適である。■It consists of water and sulfuric acid, and the sulfuric acid accounts for 25 to 50% of the entire solution.
solution. In the case of this solution, it is preferable to keep the temperature of the solution at room temperature and apply a current density of 10 to 20 A/dm''.
なお、王水や硝酸はいずれも無機酸であるが、ハードデ
ィスクを再生するには好適ではない。すなわち、上記王
水や硝酸を用いると、硝酸根(No、−)が基板上に残
留し、これによりAI!。Although both aqua regia and nitric acid are inorganic acids, they are not suitable for reproducing hard disks. That is, when aqua regia or nitric acid is used, nitrate radicals (No, -) remain on the substrate, which causes AI! .
Mg合金基板の品質(物性)やスパッタリング装置等に
悪影響を及ぼす。さらには、Ai地までもが腐食される
虞れがあり、再度、基板上に下地層を形成しなくてはな
らず作業工程が余分にかかり生産性の向上が図れないか
らである。This adversely affects the quality (physical properties) of the Mg alloy substrate, sputtering equipment, etc. Furthermore, there is a risk that even the Al base layer may be corroded, and a base layer must be formed on the substrate again, which requires an extra work process and makes it impossible to improve productivity.
磁性層が形成されてなるノ\−ドディスクを無機酸溶液
又は無機酸に有機物を添加した溶液に浸漬すると、これ
ら溶液と磁性層とが化学反応(工・ンチング)を起こし
、当該ノ\−ドディスクの基板上に形成される磁性層は
確実に除去される。When a node disk on which a magnetic layer is formed is immersed in an inorganic acid solution or a solution in which an organic substance is added to an inorganic acid, a chemical reaction (etching) occurs between the solution and the magnetic layer, causing the node The magnetic layer formed on the substrate of the hard disk is reliably removed.
また、上記磁性層が除去された基板の表面、すなわち下
地層は上記溶液により腐食される虞れもなく、さらには
上記下地層上には酸根等が残留することもない。Furthermore, there is no risk that the surface of the substrate from which the magnetic layer has been removed, that is, the underlayer, will be corroded by the solution, and furthermore, no acid roots or the like will remain on the underlayer.
したがって、上記ハードディスクの下地層は何ら悪影響
を受けることなく磁性層等が除去されるので、得られる
ハードディスク用基板の再生品の歩留りが向上する。Therefore, the magnetic layer and the like can be removed from the underlayer of the hard disk without any adverse effects, so that the yield of recycled hard disk substrates obtained is improved.
以下、本発明を適用した具体的な一実施例を図面を参照
しながら説明する。Hereinafter, a specific embodiment to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.
災旌桝上
先ず、本実施例で再生されるノ\−ドディスクは、第1
図に示すように、A1合金、AIV、−Mg合金等の硬
質材料よりなる円板状の基板(1)上にNiPメツキ層
またはアルマイト処理層よりなる下地層(2)が形成さ
れ、その上に記録再生に関与する磁性層(3)がスパッ
タリングや蒸着等により被膜されている。そして、上記
磁性層(3)上に該磁性層(3)を保護するための例え
ばカーボン被膜層よりなる保護膜層(4)が形成された
ものである。First of all, the node disc to be played in this embodiment is the first one.
As shown in the figure, a base layer (2) consisting of a NiP plating layer or an alumite treatment layer is formed on a disk-shaped substrate (1) made of a hard material such as A1 alloy, AIV, -Mg alloy, etc. A magnetic layer (3) involved in recording and reproduction is coated by sputtering, vapor deposition, or the like. A protective film layer (4) made of, for example, a carbon film layer is formed on the magnetic layer (3) to protect the magnetic layer (3).
上記磁性層(3)には、従来から公知のものが何れも使
用でき、例えばCo、Co−Cr合金、C。For the magnetic layer (3), any conventionally known material can be used, such as Co, Co-Cr alloy, and C.
Ni合金、Co−Ni−Cr合金、Co−Niオキサイ
ド等が使用される。Ni alloy, Co-Ni-Cr alloy, Co-Ni oxide, etc. are used.
このハードディスクは、応答性に優れるとともにランダ
ムアクセスが可能で、円周方向に高速で回転して同心円
上の多数のトラックに情報の記録再生を行うものである
。This hard disk has excellent responsiveness and allows random access, and rotates at high speed in the circumferential direction to record and reproduce information on a large number of concentric tracks.
上記ハードディスクを再生するには、以下のようにして
行われる。To reproduce the above hard disk, it is performed as follows.
先ず、第2図に示すように、底面に空気を放出する浴撹
拌用パイプ(5)が配設されてなる琺瑯やセラミックス
あるいは金属等よりなる浴槽(6)を用意し、該浴槽(
6)内に所定液面となるまで無機酸溶液(7)を満たず
。First, as shown in FIG. 2, a bathtub (6) made of enamel, ceramics, metal, etc. is prepared, and a bath stirring pipe (5) for discharging air is disposed on the bottom of the bathtub (6).
6) Do not fill the inorganic acid solution (7) until the predetermined liquid level is reached.
上記浴撹拌用パイプ(5)は上記浴槽(6)内の無機酸
溶液(7)を撹拌するためのものであるから、該パイプ
(5)から放出される空気は当該浴撹拌用パイプ(5)
の周面あるいは端面のいずれから放出されるかたちでも
よい。この浴撹拌用パイプ(5)を浴槽(6)内の底面
に配設することで、上記無機酸溶液(7)は常に浴槽(
6)内で撹拌されることになる。Since the bath stirring pipe (5) is for stirring the inorganic acid solution (7) in the bathtub (6), the air released from the bath stirring pipe (5) is for stirring the inorganic acid solution (7) in the bathtub (6). )
It may be emitted from either the peripheral surface or the end surface. By disposing this bath stirring pipe (5) on the bottom of the bathtub (6), the inorganic acid solution (7) is always kept in the bathtub (6).
6) will be stirred within.
なお、上記浴槽(6)内の無機酸溶液(7)を撹拌する
には上記浴撹拌用パイプ(5)のみならず、例えばプロ
ペラ等を用いて該無機酸溶液(7)を撹拌させるように
してもよく、さらには、ポンプ等により該無機酸溶液(
7)を循環させるようにしてもよい。また、これらを単
独で使用してもよく、さらにはこれらを組み合わせて使
用してもよい。In addition, to stir the inorganic acid solution (7) in the bathtub (6), use not only the bath stirring pipe (5) but also a propeller or the like to stir the inorganic acid solution (7). Furthermore, the inorganic acid solution (
7) may be circulated. Further, these may be used alone or in combination.
上記無機酸溶液(7)には、リン酸300〜500 m
l / l 、硫酸300〜400ml/l、無水クロ
ム酸5〜10g/42.水200mfl/1.からなる
浴を用い、該浴の温度を70〜110°Cとした。上記
リン酸、硫酸、無水クロム酸はいずれも一般的に使用さ
れる酸であるので、王水等とは異なり安価に無機酸溶液
(7)が作れ、しかも浴の管理が容易となる。The inorganic acid solution (7) contains 300 to 500 m of phosphoric acid.
l/l, sulfuric acid 300-400ml/l, chromic anhydride 5-10g/42. Water 200mfl/1. The temperature of the bath was set at 70 to 110°C. Since the above-mentioned phosphoric acid, sulfuric acid, and chromic anhydride are all commonly used acids, the inorganic acid solution (7) can be produced at low cost, unlike aqua regia, etc., and the bath can be easily managed.
次に、前記ハードディスク(8)を所定間隔で複数配列
し固定したハードディスク取付は部材(9)を前記無機
酸溶液(7)中に浸漬する。Next, the hard disk mounting member (9), in which a plurality of hard disks (8) are arranged and fixed at predetermined intervals, is immersed in the inorganic acid solution (7).
上記ハードディスク取付は部材(9)は、例えば導電性
を有する材料からなり棒状に形成されたもので、先のハ
ードディスク(8)の中心孔を挿通させチャッキング等
の手段により該ハードディスク(8)を固定するもので
ある。また、上記ハードディスク取付は部材(9)は、
軸心方向に回転するようになされており、この結果、当
該ハードディスク(8)は該ハードディスク取付は部材
(9)とともに無機酸溶液(7)中で円周方向に回転す
るようになっている。これによれば、上記ハードディス
ク(8)と無機酸溶液(7)との電気化学反応がむらな
く行われる。また、上記ハードディスク取付は部材(9
)の一端部には正電極(10)が接続され、これにより
前記ハードディスク(8)と導通するようになされてい
る。すなわち、上記ハードディスク(8)は基板(1)
がAN−Mg合金により形成されているので、上記正電
極(10)と電気的に導通が図れることになる。For the above-mentioned hard disk mounting, the member (9) is made of, for example, a conductive material and formed into a rod shape, and is inserted through the center hole of the previous hard disk (8), and then the hard disk (8) is mounted by means such as chucking. It is fixed. In addition, the above hard disk installation member (9) is
As a result, the hard disk (8) and the hard disk mounting member (9) rotate in the circumferential direction in the inorganic acid solution (7). According to this, the electrochemical reaction between the hard disk (8) and the inorganic acid solution (7) is performed evenly. In addition, the above hard disk installation is done using the member (9).
) is connected to one end of the positive electrode (10), thereby establishing electrical continuity with the hard disk (8). That is, the hard disk (8) is the substrate (1)
Since it is made of an AN-Mg alloy, it can be electrically connected to the positive electrode (10).
次に、上記各ハードディスク(8)を挾み込むようにそ
れぞれ負電極(11)を前記ハードディスク(8)間に
臨ませ、前記正電極(10)と負電極(11)間に電圧
を印加する。Next, a negative electrode (11) is placed between the hard disks (8) so as to sandwich each of the hard disks (8), and a voltage is applied between the positive electrode (10) and the negative electrode (11). .
なお本実施例では、1〜IOA/dm2の電流密度を前
記正電極(10)と負電極(11)間に印加し、処理時
間を3〜10分とした。In this example, a current density of 1 to IOA/dm2 was applied between the positive electrode (10) and the negative electrode (11), and the processing time was 3 to 10 minutes.
この結果、上記ハードディスク(8)と無機酸溶液(7
)とが電気化学反応(電解研磨)を起こし、上記ハード
ディスク(8)の保護膜層(4)と磁性層(3)とが確
実に上記無機酸溶液(7)により除去される。これによ
り、上記ハードディスク(8)は、基板(1)上の下地
層(2)が露出して再生され、ノ\−ドディスク用基板
となる。また、本実施例によれば、前記保護膜層(4)
および磁性層(3)の除去ポイントを正確に把握するこ
とができる。したがって、上記保護膜層(4)および磁
性層(3)の除去ポイントを予め測定しておけば、作業
性や生産性等の向上が図れる。As a result, the hard disk (8) and the inorganic acid solution (7)
) causes an electrochemical reaction (electropolishing), and the protective film layer (4) and magnetic layer (3) of the hard disk (8) are reliably removed by the inorganic acid solution (7). As a result, the hard disk (8) is reproduced with the underlying layer (2) on the substrate (1) exposed, and becomes a node disk substrate. Further, according to this embodiment, the protective film layer (4)
In addition, the removal point of the magnetic layer (3) can be accurately determined. Therefore, if the removal points of the protective film layer (4) and the magnetic layer (3) are measured in advance, workability, productivity, etc. can be improved.
ここで、上記再生されたハードディスク用基板すなわち
アルマイト処理層を下地層(2)とした場合の表面粗さ
を測定した。その結果を第3図に示す。Here, the surface roughness was measured when the above-mentioned recycled hard disk substrate, that is, the alumite treated layer was used as the base layer (2). The results are shown in FIG.
なお本実施例では、磁性層を形成する前のアルマイト処
理層を下地層(2)とするハードディスク用基板の表面
粗さについても同様に測定した。その結果を第4図に示
す。In this example, the surface roughness of a hard disk substrate whose base layer (2) is an alumite treated layer before forming a magnetic layer was also measured in the same manner. The results are shown in FIG.
上記再生処理を施したハードディスク用基板の下地層(
2) の表面粗さは、磁性層(3)を形成する前のハー
ドディスク用基板の下地層(2)の表面粗さと略同じ値
となっている。この結果から上記保護膜層(4)および
磁性N(3)は上記下地層(2)から確実に除去され、
且つ当該下地層(2)は何ら前記無機酸溶液(7)によ
り腐食されていないことを示す。すなわち、上記再生処
理が施されたハードディスク用基板は、磁性層(3)形
成前のハードディスク用基板と略同程度の状態まで再生
されたと言える。したがって、ハードディスク用基板の
再生品の歩留りが向上し、さらにはAl地までが腐食さ
れることがないので再度、下地層(2)を形成する必要
がなく生産性の向上が図れる。The base layer of the hard disk substrate that has undergone the above recycling treatment (
The surface roughness of 2) is approximately the same value as the surface roughness of the base layer (2) of the hard disk substrate before forming the magnetic layer (3). From this result, the protective film layer (4) and the magnetic N (3) are reliably removed from the underlayer (2),
It also shows that the base layer (2) is not corroded by the inorganic acid solution (7). In other words, it can be said that the hard disk substrate subjected to the above-mentioned regeneration process has been regenerated to approximately the same state as the hard disk substrate before the formation of the magnetic layer (3). Therefore, the yield of recycled hard disk substrates is improved, and since the Al base is not corroded, there is no need to form the base layer (2) again, and productivity can be improved.
また、N1−Pメツキ層を下地層(2)としたハードデ
ィスク用基板についても同様に表面粗さを測定した。Furthermore, the surface roughness of the hard disk substrate having the N1-P plating layer as the base layer (2) was similarly measured.
この結果、第5図に示す再生処理を施したハードディス
ク用基板の表面粗さは、第6図に示す磁性層(3)形成
前のハードディスク用基板の表面粗さと略同じ値が得ら
れた。すなわち、N1−Pメツキ層を下地層(2)とし
て形成したハードディスク用基板にあっても、やはり先
のアルマイト処理層を施したハードディスク用基板と同
様に磁性層形成前のハードディスク用基板の状態まで再
生されたと言える。したがって、本実施例の再生方法に
よれば、下地層(2)がアルマイト処理層であってもN
1−Pメツキ層であってもいずれも磁性層形成前のハー
ドディスク用基板の状態と同程度まで再生される。As a result, the surface roughness of the hard disk substrate subjected to the regeneration process shown in FIG. 5 was approximately the same as the surface roughness of the hard disk substrate before formation of the magnetic layer (3) shown in FIG. In other words, even if the hard disk substrate is formed with the N1-P plating layer as the underlayer (2), the state of the hard disk substrate before the magnetic layer is formed is the same as the hard disk substrate with the alumite treatment layer described above. It can be said that it has been reborn. Therefore, according to the regeneration method of this embodiment, even if the base layer (2) is an alumite-treated layer, N
Even with a 1-P plating layer, the reproduction is to the same extent as the state of the hard disk substrate before the magnetic layer is formed.
尖施皿I
本実施例によりハードディスクを再生するには、以下の
ようにして行われる。Sharp Disc I Reproduction of a hard disk according to this embodiment is performed as follows.
先ず、先の実施例1と同様の再生方法により保護膜層(
4)および磁性層(3)を除去する。なお、この再生方
法は先の再生方法と同じであるのでその説明は省略する
。First, a protective film layer (
4) and remove the magnetic layer (3). Note that this reproduction method is the same as the previous reproduction method, so its explanation will be omitted.
次に、上記保護膜層(4)および磁性層(3)が除去さ
れたハードディスク用基板を水等により水洗し前記無機
酸溶液(7)を除去する。Next, the hard disk substrate from which the protective film layer (4) and magnetic layer (3) have been removed is washed with water to remove the inorganic acid solution (7).
次いで、リン酸35 ml / l 、無水クロム酸2
0〜30g/lよりなり、浴温度が80〜95°Cの浴
中に電圧を印加することなく単に前記ハードディスク用
基板を浸漬させる。なお、上記ハードディスク用基板を
浸漬させるに当たっては、当該基板を上下動または回転
させる等の揺動操作を行うとよい。Then phosphoric acid 35 ml/l, chromic anhydride 2
The hard disk substrate is simply immersed in a bath having a concentration of 0 to 30 g/l and a bath temperature of 80 to 95° C. without applying a voltage. In addition, when immersing the hard disk substrate, it is preferable to perform a rocking operation such as vertically moving or rotating the substrate.
上記リン酸や無水クロム酸等は何れも一般的に使用され
る酸であるので、安価に浴が作れ、しかも浴の管理が容
易である。本実施例では、上記ハードディスク用基板を
10〜60秒間上記組成からなる浴中に浸漬させた。Since the above-mentioned phosphoric acid, chromic acid anhydride, etc. are all commonly used acids, baths can be made at low cost and baths can be easily managed. In this example, the hard disk substrate was immersed in a bath having the above composition for 10 to 60 seconds.
この結果、先のハードディスク用基板の下地層(2)上
より除去しきれなかった表面酸化物等が上記組成の浴に
より確実に除去され、安定した処理表面が得られる。し
たがって、より一層磁性層形成前のハードディスク用基
板の状態に近いハードディスク用基板が再生される。ま
た、上記再生処理後のハードディスク用基板の表面粗さ
を測定したところ、先の実施例1と同様、磁性層形成前
のハードディスク用基板の表面粗さと略同じ値が得られ
た。したがって、この再生方法によれば、何ら下地層(
2)を傷めることなく保護膜層(4)および磁性層(3
)を確実に除去することができる。As a result, surface oxides and the like that could not be completely removed from the base layer (2) of the hard disk substrate are reliably removed by the bath having the above composition, and a stable treated surface is obtained. Therefore, a hard disk substrate is reproduced that is even closer to the state of the hard disk substrate before the magnetic layer is formed. Furthermore, when the surface roughness of the hard disk substrate after the above-mentioned reproduction treatment was measured, as in Example 1, a value substantially the same as the surface roughness of the hard disk substrate before the magnetic layer was formed was obtained. Therefore, according to this regeneration method, no base layer (
2) without damaging the protective film layer (4) and the magnetic layer (3).
) can be reliably removed.
なお本実施例の再生方法は、ハードディスク用基板を再
生するのみならず、−船釣に行われている鉄やNi合金
上の電解研磨にも適用することができる。The regeneration method of this embodiment can be applied not only to regenerating hard disk substrates, but also to electrolytic polishing of iron or Ni alloys, which is performed on boats.
尖隻桝主
本実施例によりハードディスクを再生するには、以下の
ようにして行われる。The reproduction of the hard disk according to this embodiment is performed as follows.
先ず、無機酸溶液を浴とし、該無機酸溶液が所定液面ま
で満たされた浴槽を用意する。First, a bathtub filled with an inorganic acid solution to a predetermined level is prepared.
上記無機酸溶液は、水と硫酸とからなり、該硫酸が浴全
体の40〜50%である浴であって、該浴温度が50〜
75°Cのものである。The inorganic acid solution is a bath consisting of water and sulfuric acid, in which the sulfuric acid accounts for 40 to 50% of the entire bath, and the bath temperature is 50 to 50%.
It is at 75°C.
上記硫酸はやはり一般的に使用される酸であるから浴を
安価に作れ、しかも浴の管理が容易となる。また、上記
浴槽には先の実施例1のものと同様のものを使用するが
、本実施例では電圧を印加しないので第2図に示す正電
極(10)および負電極(11)を取り外して使用する
。したがって、本実施例では、設備の簡略化が図れると
ともに作業性の向上も図れる。Since the above-mentioned sulfuric acid is a commonly used acid, the bath can be made at low cost and the bath can be easily managed. In addition, the same bathtub as in Example 1 is used, but since no voltage is applied in this example, the positive electrode (10) and negative electrode (11) shown in FIG. 2 are removed. use. Therefore, in this embodiment, it is possible to simplify the equipment and improve workability.
次いで、上記浴槽内に前述のハードディスク(8)を浸
漬させる。なお本実施例では、上記ハードディスク(8
)を3〜15分浸漬させ、先の第1の実施例と同様に浴
を撹拌させた。Next, the hard disk (8) is immersed in the bath. Note that in this embodiment, the hard disk (8
) was immersed for 3 to 15 minutes, and the bath was stirred as in the first example above.
この結果、上記ハードディスク(8)と無機酸溶液とが
化学反応(エツチング)を起こし、上記ハードディスク
(8)の保護膜層(4)と磁性層(3)とが上記無機酸
溶液により確実に除去される。これにより、上記ハード
ディスク(8)は、基板(1)上の下地層(2)が露出
して再生されたハードディスク用基板となる。As a result, a chemical reaction (etching) occurs between the hard disk (8) and the inorganic acid solution, and the protective film layer (4) and magnetic layer (3) of the hard disk (8) are reliably removed by the inorganic acid solution. be done. As a result, the hard disk (8) becomes a reproduced hard disk substrate with the base layer (2) on the substrate (1) exposed.
次いで、上記ハードディスク用基板を水等により水洗し
、先の無機酸溶液等を洗い流す。Next, the hard disk substrate is washed with water to wash away the inorganic acid solution and the like.
次に、水と塩酸と有機物であるグリシリンとからなり、
該塩酸が浴全体の40〜50%、グリシリン20g/j
2である浴を用意し、該浴温度を常温度〜50°Cとし
て浴槽内に所定液面となるまで満たず。Next, it consists of water, hydrochloric acid, and the organic substance glycerin.
The hydrochloric acid accounts for 40-50% of the entire bath, and glycerin accounts for 20g/j.
A bath according to No. 2 was prepared, and the bath temperature was set to room temperature to 50°C until the bath reached a predetermined liquid level.
上記有機物は、何らハードディスクの下地層(2)を侵
すことないものであり、さらには毒性のないものである
。また、」1記有機物の添加量は浴全体に対して若干添
加すれば足りる。The above-mentioned organic substance does not attack the underlying layer (2) of the hard disk in any way, and furthermore, it is non-toxic. Furthermore, it is sufficient to add a small amount of the organic substance described in 1. to the entire bath.
そして、上記浴槽内に前記ハードディスク用基板を浸漬
させる。なお、上記ハードディスク用基板を浸漬させる
に当たっては、上記浴槽内で該ハードディスク用基板を
上下動または回転させる等の揺動操作を行う。Then, the hard disk substrate is immersed in the bath. In order to immerse the hard disk substrate, a rocking operation such as vertically moving or rotating the hard disk substrate is performed in the bathtub.
すると、先の工程で除去しきれなかった残留物や表面酸
化物等が確実に除去され、安定した処理表面が得られる
。これによれば、上記ハードディスク用基板は、より一
層磁性層形成前のハードディスク用基板と同じ状態まで
再生される。This ensures that residues, surface oxides, etc. that could not be removed in the previous step are removed, and a stable treated surface is obtained. According to this, the hard disk substrate is further reproduced to the same state as the hard disk substrate before the magnetic layer is formed.
最後に、上記ハードディスク用基板を乾燥させて水等を
除去し再生を終了する。Finally, the hard disk substrate is dried to remove water and the like, and the reproduction is completed.
本実施例により再生されたハードディスク用基板の表面
粗さは、やはり先の実施例のものと同様、磁性層形成前
のハードディスク用基板の表面粗さと路間し値が得られ
た。したがって、本実施例の再生方法によれば、下地層
(2)を何ら傷めることなく保護膜層(4)および磁性
層(3)を確実に除去することができ、該ハードディス
ク用基板の再生品の歩留りが向上する。As for the surface roughness of the hard disk substrate reproduced in this example, the surface roughness and path distance values of the hard disk substrate before the formation of the magnetic layer were obtained, as in the previous example. Therefore, according to the recycling method of this embodiment, the protective film layer (4) and the magnetic layer (3) can be reliably removed without damaging the base layer (2), and the recycled hard disk substrate can be reliably removed. The yield is improved.
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明のハードディ
スク用基板の再生方法によれば、ハードディスクを無機
酸溶液又は無機酸に有機物を添加した溶液に浸漬させる
ことにより、下地層を何ら傷めることなく確実に保護膜
層および磁性層を除去することができ、磁性層形成前の
ハードディスク用基板と路間−の状態まで再生すること
ができる。したがって、該ハードディスク用基板の再生
歩留りが向上し、その工業的価値は大である。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the hard disk substrate recycling method of the present invention, the base layer is removed by immersing the hard disk in an inorganic acid solution or a solution containing an organic substance added to an inorganic acid. The protective film layer and the magnetic layer can be reliably removed without damaging the magnetic layer, and the state between the hard disk substrate and the track before the magnetic layer is formed can be reproduced. Therefore, the reproduction yield of the hard disk substrate is improved, and its industrial value is great.
第1図は再生されるハードディスクの一例を示す要部拡
大断面図である。
第2図はハードディスク用基板の再生に使用する浴槽の
一例を示す模式図である。
第3図及び第4図は下地層がアルマイト処理層であるハ
ードディスク用基板の表面粗さを示す特性図であり、第
3図は再生処理後、第4図は磁性層形成前の表面粗さを
それぞれ示す。
第5図及び第6図は下地層がN1−Pメツキ層であるハ
ードディスク用基板の表面粗さを示す特性図であり、第
5図は再生処理後、第6図は磁性層形成前の表面粗さを
それぞれ示す。
・基板
・下地層
・磁性層
・保護膜層
・無機酸溶液
・ハードディスクFIG. 1 is an enlarged sectional view of a main part showing an example of a hard disk to be reproduced. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a bathtub used for recycling hard disk substrates. Figures 3 and 4 are characteristic diagrams showing the surface roughness of a hard disk substrate whose underlayer is an alumite treated layer. Figure 3 shows the surface roughness after recycling treatment, and Figure 4 shows the surface roughness before magnetic layer formation. are shown respectively. 5 and 6 are characteristic diagrams showing the surface roughness of a hard disk substrate whose underlayer is an N1-P plating layer. Roughness is shown respectively.・Substrate, Underlayer, Magnetic layer, Protective layer, Inorganic acid solution, Hard disk
Claims (1)
ィスクの前記磁性層を無機酸溶液又は無機酸に有機物を
添加した溶液により除去することを特徴とするハードデ
ィスク用基板の再生方法。A method for recycling a hard disk substrate, which comprises removing the magnetic layer of a hard disk formed by forming a magnetic layer on a substrate via an underlayer using an inorganic acid solution or a solution containing an inorganic acid and an organic substance.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19146788A JPH0240132A (en) | 1988-07-30 | 1988-07-30 | Reproduction of substrate for hard disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19146788A JPH0240132A (en) | 1988-07-30 | 1988-07-30 | Reproduction of substrate for hard disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240132A true JPH0240132A (en) | 1990-02-08 |
Family
ID=16275139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19146788A Pending JPH0240132A (en) | 1988-07-30 | 1988-07-30 | Reproduction of substrate for hard disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0240132A (en) |
-
1988
- 1988-07-30 JP JP19146788A patent/JPH0240132A/en active Pending
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