JPH0240220A - 純水製造装置 - Google Patents

純水製造装置

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JPH0240220A
JPH0240220A JP63187641A JP18764188A JPH0240220A JP H0240220 A JPH0240220 A JP H0240220A JP 63187641 A JP63187641 A JP 63187641A JP 18764188 A JP18764188 A JP 18764188A JP H0240220 A JPH0240220 A JP H0240220A
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JP
Japan
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water
reverse osmosis
osmosis membrane
cdi
pure water
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JP63187641A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Eto
良弘 恵藤
Koichi Yabe
矢部 江一
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Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
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Publication date
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [a業上の利用分野] 本発明は、半導体製造工場や原子力発電所等で広く使用
されている純水やいわゆる超純水を連続的に製造する純
水製造装置に関する。
[従来の技術] LSIや超LSIの製造においては、多量の純水や超純
水が用いられている。超純水は理論純水(H2Oのみか
らなる水)の比抵抗1.8.24MΩ・Cmに極めて近
く、17〜18MΩ・cmの比抵抗を有する純水である
従来、純水の製造装置として、イオン交換膜及びイオン
交換樹脂を装填した電気透析器(以下rCDIJと略称
する。)が知られている(特開昭61−107906号
)、CDIは塩の大量除去から逆浸透による製造水の純
化に至るまでの幅広い原水の効果的な脱イオンが可能で
ある。
CDIによる水の脱イオン作用について、第4図を参照
して説明する。
第4図では、印加直流電位は(+)と(−)で表わされ
ている。第4図においては、アニオン交換@21とカチ
オン交換膜22との間で濃縮室25aが形成され、カチ
オン交換膜22とアニオン交換膜23との間で希釈室2
6が形成されている。また、アニオン交換膜23とカチ
オン交換膜24との間で濃縮室25bが形成されている
。そして、希釈室26内には、カチオン交換樹脂27と
アニオン交換樹脂28との混床樹脂が充填されている。
原水中のイオン″はNa十及びCJ2−により代表して
示す、希釈室26に入ったイオンは親和力、濃度及び移
動度に基いてイオン交換樹脂2フ、28と反応する。イ
オンは電位の傾きの方向に樹脂中を移動し、更に膜22
又は23を横切りて移動し、すべての室において電荷の
中和が保たれる。そして、膜の半浸透特性のため、並び
に電位の傾きの方向性のために、溶液中のイオンは希釈
室26では減少し、隣りの濃縮室25a、25bでは濃
縮されることになる。このため、希釈室26から脱イオ
ン水が回収される。
CDIはイオン交換樹脂のように再生を必要とせず、完
全な連続採水が可能で、極めて高純度の水が得られると
いう優れた効果を奏する。
しかしながら、CDIは充填されているイオン交換膜や
イオン交換樹脂の劣化や処理来貢の悪化を防ぐために、
給水する原水水質をある一定レベル以上の水質に管理す
る必要があり、原水水質の管理が容易でないという欠点
を有する。例えば、原水中のC1−濃度はO,ippm
以下、硫化鉄、硫化マンガン濃度はO,O1ppm以下
であることが要求されている。
従来、CDIの前処理装置としては、通常、逆侵透膜分
離器(以下、rROJと略称する。)が用いられている
[発明が解決しようとする課題] CDIに給水する原水をROにより処理することにより
、水質をある程度向上させることができるが、従来の1
段ROfi理では、原水中のSiO2の除去が十分でな
く、CDIのイオン交換膜、イオン交換樹脂の劣化や処
理水の悪化を効果的に防ぐことができなかった。
本発明は上記従来の問題点を解決し、CDIのイオン交
換膜、イオン交換樹脂の劣化を防止して、極めて高純度
の処理水を得ることができる純水製造装置を提供するこ
とを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明の純水製造装置は、原水を逆浸透膜処理するMl
の逆浸透膜分1m器と、該第1の逆侵透膜分離器の透過
水を逆浸透膜処理する第2の逆侵透膜分離器と、第2の
逆浸透膜分S器の透過水を電気透析する電気透析器とを
備え、該電気透析器は、複数のアニオン交換膜及びカチ
オン交換膜を交互に配列して濃縮室と希釈室とを交互に
形成してなり、前記希釈室にはアニオン交換樹脂とカチ
オン交換樹脂とが混合されて充填されていることを特徴
とする。
[作用] CDIで純水を製造するにあたり、CDIの前処理とし
て、ROを2基直列で用いる2段ROIA埋を行なうこ
とにより、CDIへの給水は極めて高水質なものとなり
、特にSiO2濃度は通常20ppb以下と非常に低い
値となる。
このため、CDIのイオン交換膜やイオン交換樹脂が劣
化することがなく、例えば、比抵抗10MΩ−cm以上
、5i020ppb以下の高純度の処理水を連続的に採
水することが可能とされる。
また、一般に第1段目のRO(以下、「第1RO」と略
称する。)の給水(原水)のSiO2濃度よりも、第2
段目のRO(以下、r第2RO」と略称する。)の濃縮
水の5LO2濃度の方が低い値であることから、第2R
Oの濃縮水を第1ROの給水に返送することができ、こ
れにより、第1RO処理水の5LO2をより低い値にす
ることができる。
また、CDIの濃縮水中の5102を含む溶解塩類(T
 D S )濃度は、第2ROの給水のTDS濃度より
も低い値であるため、CDI濃縮水は第1RO又は第2
ROの給水に返送することができ、これにより、より高
純度の処理水を得ることができる。
また、このように濃縮水の循環ができるため、節水が図
れる。
更に、CDIのイオン交換樹脂の再生が不要であること
から、IA埋を必要とする廃液が生じることがなく、処
理コストが低く抑えられる。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
第1図は本発明の純水製造装置の一実施例を示す系統図
、第2図はCDIの一実施例を示す系統図、第3図は本
発明の純水製造装置の他の実施例を示す系統図である。
第1図に示す純水製造装置は、第1の逆侵透膜分離器(
第1RO)1、第2の逆侵透膜分離器(第2RO)2及
び電気透析器(CDI)3か6主として構成されており
、原水を第1ROIに送給する配管11、第1R01の
透過水を第2RO2に送給する配管12、第1ROIの
濃縮水を系外へ排出する配管13、第2R02の透過水
をCD13に送給する配管14(なお、この配管14は
、後述するCDIの濃縮室への給水配管14a及び希釈
室への給水配管14bに分岐している。)、第2RO2
の濃縮水を第1R01の上流側に戻す配管15、CDl
3の処理水を取り出す配管16、CDl3の濃縮水を第
1ROI又は第2R02の上流側に戻す配管17を備え
ている。
このような本発明の装置による原水の処理手順について
、以下に説明する。
第1図に示す如く、原水である市水、工業用水、井水等
は、配管11により第1ROIに供給される。第1R0
1においては、原水の有効利用の面から回収率を比較的
高く、例えば50%以上、特に80〜90%程度で運転
するのが好ましい。
第1R01により、原水中の電解質、TOC成分が除去
されるが、第1R01においては、後段の第2RO2に
おける負荷を低減し、高純度の処理水を得るために、原
水中の電解質の大部分、例えば、N a Cf)、 2
00 m g / 11の供給水に対しては、97%以
上、とりわけ99%以上の塩を除去するように運転する
のが好ましい。
第1R01の透過水は、次いで配管12により第2RO
2に送給される。一方、第1R01の濃縮水は配管13
より系外へ排出される。
第2R02においては、処理水の有効利用の面から、回
収率は75〜90%程度とし、また濃縮水は配管15に
より第1ROIの原水供給系に戻す。
第2R02により、被処理水中の電解質、TOC成分が
更に除去される。なお、第2RO2においては、後段の
CDl3における負荷を低減し、高純度の処理水を得る
ために、被処理水(即ち第1Ro1への原水)中の電解
質の殆ど、例えばN a CIL200 m g / 
JZの原水に対しては、97%以上、とりわけ99%以
上の塩を除去するように運転するのが好ましい。
このような第2R02により、原水中の電解質の殆ど、
例えば99.5%程度が脱塩され、透過水として通常は
s i O2?a度20pPb以下の高純度水が得られ
る。
第2RO2の透過水は、十分に高純度であるが、更に配
管14によりCDl3に送給して処理することにより、
より一層高純度な超純水を得ることが可能となる。
この第2R02の透過水は、既に大部分の電解質が除去
されており、比抵抗値は例えば1〜2MΩ・Cm程度と
なっている。このため、CDl3に対する負荷が小さく
、CDl3の再生操作、再生装置、廃液処理設備が不必
要とされる。
一方、第2R02の濃縮水け、そのSiO2濃度が通常
、原水のSiO2濃度よりも低く、純度の高いものであ
るので、これを配管15より第1Rotの上流側に循環
する。
次に、CDl3における処理について、第2図を参照し
て説明する。
図示の如く、CDl3は、容器1内に複数のアニオン交
換膜Aとカチオン交換膜Cとが交互に並列に配置されて
おり、それぞれ濃縮室31と希釈室32とが交互に隔成
されている。そして、希釈室32には、アニオン交換樹
脂とカチオン交換樹脂との混合物33が充填されている
。34は一極、35は十極である。
第2R02の透過水は、配管14から、CDl3の濃縮
室31への給水配管14a及び希釈室32への給水配管
14bに分岐され、それぞれ濃縮室31及び希釈室32
に供給される。
CDl3に供給された第2R02の透過水は、前述の第
4図にて説明した原理により、Na十等のカチオンはカ
チオン交換膜Cを透過して、CJZ−等のアニオンはア
ニオン交換膜Aを透過して、それぞれ濃縮室31内に濃
縮される。このようにしてアニオン、カチオンが除去さ
れた処理水は、希釈室32より配管16を経て排出され
必要に応じて後処理された後、コースポイントへ送給さ
れる。
一方、濃縮室31内の濃縮水は配管17より排出され、
配管17gを経て第1R01の上流側に循環される。こ
の濃縮水は、第1R01に供給される原水に比し十分に
低いTDS濃度であるため、第1R01に循環すること
ができ、これにより、従来の1段RO処理の場合と同等
の原水給水量で高純度水を得ることができる。このCD
l3の濃縮水は、配管1フbにより第2R02の上流側
に返送しても良い。
本発明の純水製造装置においては、第1R01の前段あ
るいは後段に脱炭酸塔を設けても良い。
第3図は、脱炭酸塔4を第1ROIと第2RO2との間
に配管12a、12bにて接続して設けた実施例を示す
系統図である。なお、第3図において、第1図に示す部
材と同一機能を有する部材は同一符号を付して示し、そ
の説明を省略する。
脱炭酸塔4により第1R01の透過水中の溶存ガスを除
去することにより、ROによる除去性能の低いCO2成
分が最大限に除去され、処理水の純度が高められると共
に、第2R02の膜負荷が低減される。なお、この脱炭
酸塔4におけるCO2成分の効率的除去の面からは、原
水のpHは5〜5.5程度となるように調整するのが特
に好ましい。
このような本発明の純水製造装置において、第1RO又
は第2ROに装着する逆浸透膜としては、ポリアミド膜
、酢酸セルロース膜、アラミド系膜等の通常の市販膜を
用いることができる。
以下、実験例について説明する。
実験例1(本発明例) 第3図に示す本発明の純水製造装置を用い、神奈川県厚
木市の市水を処理した。
第1RO1第2ROとしては、架橋アラミド系複合膜を
用いたスパイラル型8インチモジュールを内蔵した逆浸
透分離器を2段に配列したものを用いた。
また、CDIとしては、ポリプロピレン系樹脂のアニオ
ン交換膜及びカチオン交換膜(1枚当り約0.5rn”
)を各30枚、第2図に示すように交互に配列しく第2
図に示す図では、希釈室は3つしか形成されていないが
、本実施例においては、各々30枚のアニオン交換膜及
びカチオン交換膜を用いて、希釈室を30室形成した)
、H膨強酸性カチオン交換樹脂とOH形強塩基性アニオ
ン交換樹脂を容積比40 : 60で混合したもの約3
゜lを各希釈室に充填したものを用いた。
CDIの通水条件は下記の通りとした。
処理水流量:1.0ゴ/hr 濃縮水流量:0.2rn”/hr 電圧:100V 水  温  = 17℃ 各部位の水質を第1表に示す。
/ / / / / / 実験例2(比較例) ROを1段としたこと以外は、実験例1と同様にして処
理を行なった。
結果を第2表に示す。
第2表 第1表及び第2表より、本発明の純水製造装置によれば
、極めて高純度の純水が得られることが明らかである。
[発明の効果] 以上詳述した通り、本発明の純水製造装置は、 ■ 極めて高純度の水を安定かつ連続的に採水すること
ができる。
■ CDIの濃縮水をROに循環することができるため
、節水を図ることができる。
■ 樹脂の再生が不要であり、従って、処理を要する廃
水の排出がない。
等の(1,れた効果が奏され、比抵抗10MΩ・Cm以
上、5iO220ppb以下の極めて高純度の超純水を
効率的に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の純水製造装置の一実施例を示す系統図
、第2図はCDIの一実施例を示す系統図、第3図は本
発明の純水製造装置の他の実施例を示す系統図、第4図
はCDIの原理を説明する構成図である。 1・・・第1RO12・・・第2R0゜3・・・CDI
、   4・・・脱炭酸塔。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)原水を逆浸透膜処理する第1の逆侵透膜分離器と
    、該第1の逆浸透膜分離器の透過水を逆浸透膜処理する
    第2の逆浸透膜分離器と、第2の逆浸透膜分離器の透過
    水を電気透析する電気透析器とを備え、 該電気透析器は、複数のアニオン交換膜及びカチオン交
    換膜を交互に配列して濃縮室と希釈室とを交互に形成し
    てなり、前記希釈室にはアニオン交換樹脂とカチオン交
    換樹脂とが混合されて充填されていることを特徴とする
    純水製造装置。
JP63187641A 1988-07-27 1988-07-27 純水製造装置 Pending JPH0240220A (ja)

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