JPH0240431Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は浴槽内の水を加熱する熱源器と浴槽内
に気泡を送り込むエアブロアを備えたスパシステ
ム装置に関するものである。

（従来の技術） 従来のスパシステム装置の熱源器は例えば第２
図に示すように、循環水路中に設けられたもので
ある。

（考案が解決しようとする問題点） しかしながら従来のスパシステム装置ではポン
プでの循環水量すべてを加熱するので通水量が多
くなり熱源器のパイプ径が大きくなるとともに大
型化及び大重量化するという問題点を有してい
た。

（問題点を解決するための手段） 本考案はかかる問題点を解決するため、循環水
路中のポンプ下流側より分岐しポンプ上流側で循
環水路に合流するバイパス回路を設け、該バイパ
ス回路中に水流の検知と入水温の検知によつてバ
ーナの燃焼が制御される熱源器を設けたものであ
る。

（作用） ポンプ前後の圧力差を利用して循環水量の一部
をバイパス回路に流し熱源器で加熱するので、パ
イプ径が小さく、軽量、コンパクトな熱源器でシ
ステムを構成できるものである。

（実施例） 以下本考案の一実施例を図面に基づいて具体的
に説明する。

１は浴槽で出湯口２と給湯口３とを備え、これ
を水管４，５によつて別に設けたフイルター６と
ポンプ７に連通して循環水路を形成している。８
は前記水管５のポンプ７下流側より分岐し、ポン
プ７上流側で水管５に合流するバイパス回路であ
り、途中に熱源器が設けられている。１０は熱交
換器、１１は熱交換器１０の下方に配置したバー
ナ、１２はバイパス回路８の水流を検知する水流
スイツチ、１３はバイパス回路８からの入水温を
検知するサーミスタ、１４はバーナ１１への供給
ガスを制御するガス電磁弁であり、前記水流スイ
ツチ１２の水流検知が所定量（例えば４／分）
以下になるか、前記サーミスタ１３による入水温
の検温値が所定温（例えば40℃、ただし20℃〜40
℃の間で可変としてもよい）以上になると閉成す
る。一方１５はエアブロア１６により供給された
微細空気を浴槽１の給湯口３直前の水管５に導び
く吸気管である。なお水管４，５の径及びポンプ
７の能力によつてポンプ７前後の圧力差が大きく
なり、バイパス回路８内の流量が大きくなる場合
は、流量を一定に保つ水ガバナ１７を設けてもよ
い。

本考案はこのような構成からなり以下作用を説
明する。ポンプ７の運転を始めるとポンプ７前後
の水管５内で圧力差が生じ循環水路内の流れの一
部がバイパス回路８に流れ、流量が所定量以上に
なるとガス電磁弁１４が開成しバーナ１１が燃焼
を始め熱交換器１０を加熱する。これにより浴槽
１内の水温が上昇するのである。浴槽１内の水温
の上昇が進み熱交換器１０への入水温が所定温以
上になるとガス電磁弁１４を閉じバーナ１１の燃
焼が停止するのである。又浴槽１内においてはエ
アブロア１６により供給された微細空気により気
泡が噴出するのである。

（考案の効果） このように本考案は、循環水路中のポンプ下流
側より分岐しポンプ上流側で循環水路に合流する
バイパス回路を設け、該バイパス回路中に水流の
検知と入水温の検知によつてバーナの燃焼が制御
される熱源器を設け、ポンプ前後の圧力差を利用
して循環水量の一部をバイパス回路に流し熱源器
で加熱するので、パイプ径が小さく、軽量、コン
パクトな熱源器でシステムを構成できる効果を奏
する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す構成図、第２
図は従来例を示す構成図である。 １……浴槽、２……出湯口、３……給湯口、４
……水管、５……水管、６……フイルタ、７……
ポンプ、８……バイパス回路、９……熱源器、１
１……バーナ、１６……エアブロア。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 浴槽の出湯口と給湯口を水管によつて別に設け
   たフイルターとポンプに連通して形成された循環
   水路と、前記水管のポンプ下流側より分岐しポン
   プ上流側で水管に合流するバイパス回路と、水流
   の検知と入水温の検知によつてバーナの燃焼が制
   御される熱源器と、浴槽へ気泡を供給するエアブ
   ロアとから構成され、上記熱源器は上記バイパス
   回路中に設けたことを特徴とするスパシステム装
   置。