JPH0242307B2 - - Google Patents
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- JPH0242307B2 JPH0242307B2 JP60247914A JP24791485A JPH0242307B2 JP H0242307 B2 JPH0242307 B2 JP H0242307B2 JP 60247914 A JP60247914 A JP 60247914A JP 24791485 A JP24791485 A JP 24791485A JP H0242307 B2 JPH0242307 B2 JP H0242307B2
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- Japan
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- laser
- workpiece
- vacuum
- transmission window
- beam guide
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/12—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special environment or atmosphere, e.g. in an enclosure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/12—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special environment or atmosphere, e.g. in an enclosure
- B23K26/127—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special environment or atmosphere, e.g. in an enclosure in an enclosure
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/12—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special environment or atmosphere, e.g. in an enclosure
- B23K26/127—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special environment or atmosphere, e.g. in an enclosure in an enclosure
- B23K26/128—Laser beam path enclosures
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、真空雰囲気下でのレーザ加工を可
能ならしめる装置に関するもので真空加工室に設
けられたレーザ透過窓への蒸着物質の蒸着を防止
する装置に関する。
能ならしめる装置に関するもので真空加工室に設
けられたレーザ透過窓への蒸着物質の蒸着を防止
する装置に関する。
第６図は従来の大気中におけるレーザ加工装置
の一例を示す断面図である。図において、１はレ
ーザビーム、２はこのレーザビーム１を集光して
被加工物３に照射するためのレンズ、４は上記レ
ーザビーム１と同方向から被加工物３に向つて噴
出しているHe、Arなどのセンタガス、５は被加
工物３などの蒸発物質、６はこの装置のノズル、
１５は被加工物３に対するレーザビーム１の進行
方向である。
の一例を示す断面図である。図において、１はレ
ーザビーム、２はこのレーザビーム１を集光して
被加工物３に照射するためのレンズ、４は上記レ
ーザビーム１と同方向から被加工物３に向つて噴
出しているHe、Arなどのセンタガス、５は被加
工物３などの蒸発物質、６はこの装置のノズル、
１５は被加工物３に対するレーザビーム１の進行
方向である。
この様な装置において溶接加工をすすめると、
レーザ照射部近傍にプラズマが形成される。プラ
ズマはレーザ光を吸収ないしは反射するため、被
溶接材に到達するレーザ光が著しく減少し必要と
する溶込み深さが得られなくなる。又被加工物３
の溶融部のビード１７の形成は不安定となり、溶
接ビードの横断面（第８図ａ，ｂ参照）には溶融
金属の凝固不安定さに起因するミクロポロシテイ
（小さな空孔）つまりピンポール１６の発生（第
８図ａ参照）が認められる。
レーザ照射部近傍にプラズマが形成される。プラ
ズマはレーザ光を吸収ないしは反射するため、被
溶接材に到達するレーザ光が著しく減少し必要と
する溶込み深さが得られなくなる。又被加工物３
の溶融部のビード１７の形成は不安定となり、溶
接ビードの横断面（第８図ａ，ｂ参照）には溶融
金属の凝固不安定さに起因するミクロポロシテイ
（小さな空孔）つまりピンポール１６の発生（第
８図ａ参照）が認められる。
第７図は従来の真空加工室８内でのレーザ溶接
方法を示す断面図である。
方法を示す断面図である。
図において、１はレーザビーム、３は被加工
物、５は被加工物３の蒸発物質、７は真空加工室
８の一端にあつてレーザビーム１が通過するレー
ザ透過窓、１５は被加工物３に対するレーザビー
ム１の進行方向である。
物、５は被加工物３の蒸発物質、７は真空加工室
８の一端にあつてレーザビーム１が通過するレー
ザ透過窓、１５は被加工物３に対するレーザビー
ム１の進行方向である。
このように真空容器（600Torr以下）内におい
てレーザ加工すると、上記第６図に示した装置の
ような問題、例えばミクロポロシテイの発生は防
止できるが、被加工物３からの蒸発物質５がレー
ザ透過窓７に付着して、レーザビーム１の透過を
防げる問題が生じる。この対策として、レーザ透
過窓を使用せず空気カーテン方式（aero
dynamics Window方式）により真空加工室８と
外部とを仕切る方法があるが、この方法が適用で
きるのは真空加工室８の圧力が約50Torr以上の
場合であり、それ以下の低下力においては真空加
工室８の圧力を維持することができない。第５図
ｂに示したように減圧の効果が顕著に現われるの
は30Torr以下の場合であり、このような低圧の
場合には必然的に透過窓７を使用せざるを得な
い。
てレーザ加工すると、上記第６図に示した装置の
ような問題、例えばミクロポロシテイの発生は防
止できるが、被加工物３からの蒸発物質５がレー
ザ透過窓７に付着して、レーザビーム１の透過を
防げる問題が生じる。この対策として、レーザ透
過窓を使用せず空気カーテン方式（aero
dynamics Window方式）により真空加工室８と
外部とを仕切る方法があるが、この方法が適用で
きるのは真空加工室８の圧力が約50Torr以上の
場合であり、それ以下の低下力においては真空加
工室８の圧力を維持することができない。第５図
ｂに示したように減圧の効果が顕著に現われるの
は30Torr以下の場合であり、このような低圧の
場合には必然的に透過窓７を使用せざるを得な
い。
上記のような従来の大気中におけるレーザ加工
装置においては、レンズを保護するためのセンタ
ガスと被加工物からの蒸発物質とレーザビームと
の相互作用によるプラズマの発生によつて被加工
物に到達するレーザビームを弱めたり、ピンホー
ルを形成する問題点があつた。
装置においては、レンズを保護するためのセンタ
ガスと被加工物からの蒸発物質とレーザビームと
の相互作用によるプラズマの発生によつて被加工
物に到達するレーザビームを弱めたり、ピンホー
ルを形成する問題点があつた。
又単なる真空容器中におけるレーザ加工装置に
おいては、レーザ加工によつて被加工物から発生
する蒸発物質がレーザ透過窓を汚染してレーザビ
ームを弱めて加工能率を低下したり、この汚染に
よつてレーザ透過窓に熱歪を生じ破損の原因とな
つていた。
おいては、レーザ加工によつて被加工物から発生
する蒸発物質がレーザ透過窓を汚染してレーザビ
ームを弱めて加工能率を低下したり、この汚染に
よつてレーザ透過窓に熱歪を生じ破損の原因とな
つていた。
この発明は上記のような問題点を解決するため
になされたもので、真空加工するに際して透過窓
が被加工物からの蒸着物質によつて汚染されず、
能率的な加工が出来るようにする。
になされたもので、真空加工するに際して透過窓
が被加工物からの蒸着物質によつて汚染されず、
能率的な加工が出来るようにする。
この発明は上記のような問題を解決するために
なされたもので、真空ポンプが接続された容器
と、この容器のレーザビーム透過窓の内側に、内
径に凹凸を有するビームガイドとを設けたもので
ある。
なされたもので、真空ポンプが接続された容器
と、この容器のレーザビーム透過窓の内側に、内
径に凹凸を有するビームガイドとを設けたもので
ある。
この発明においては、レーザビームの透過窓を
有する真空加工室（耐圧容器）内に被加工物を挿
入し、上記の透過窓と被加工物の間に内径に凹凸
を有するビームガイドを設け、レーザビームを照
射することによつて被加工物に加工を加える。必
要に応じてレーザビームと被加工物とを相対的に
移動させれば加工の形状を変えることができる。
又加工によつて発生するプラズマ蒸気は真空室内
に拡散して排除されると共に内径側に凹凸を有す
るビームガイドによつて透過窓に到達することは
制約を受けるからレーザビームは進行を妨げられ
ることなく加工を継続出来る。
有する真空加工室（耐圧容器）内に被加工物を挿
入し、上記の透過窓と被加工物の間に内径に凹凸
を有するビームガイドを設け、レーザビームを照
射することによつて被加工物に加工を加える。必
要に応じてレーザビームと被加工物とを相対的に
移動させれば加工の形状を変えることができる。
又加工によつて発生するプラズマ蒸気は真空室内
に拡散して排除されると共に内径側に凹凸を有す
るビームガイドによつて透過窓に到達することは
制約を受けるからレーザビームは進行を妨げられ
ることなく加工を継続出来る。
第１図はこの発明の一実施例を示すレーザ加工
装置の断面図である。図において、１はレーザビ
ーム、８は600〔Torr〕以下の真空加工室、３は
真空加工室８の内部にあつて、この真空加工室８
に設けた透過窓７を通過したレーザビーム１が照
射される被加工物、５は被加工物３から発生した
蒸発物質、９はこの被加工物３と上記透過窓７と
の間にあつて、かつこの透過窓７側に接触して設
けた内面に凹凸を有するビームガイド、１３はこ
のビームガイド９の上方斜め方向から内径側に向
けて導入している蒸着防止用ガス（He、Ar、
N2、CO2、空気など）、１５は被加工物３に対す
るレーザビーム１の移動方向、真空ポンプは真空
加工室８に接続しているが省略してある。
装置の断面図である。図において、１はレーザビ
ーム、８は600〔Torr〕以下の真空加工室、３は
真空加工室８の内部にあつて、この真空加工室８
に設けた透過窓７を通過したレーザビーム１が照
射される被加工物、５は被加工物３から発生した
蒸発物質、９はこの被加工物３と上記透過窓７と
の間にあつて、かつこの透過窓７側に接触して設
けた内面に凹凸を有するビームガイド、１３はこ
のビームガイド９の上方斜め方向から内径側に向
けて導入している蒸着防止用ガス（He、Ar、
N2、CO2、空気など）、１５は被加工物３に対す
るレーザビーム１の移動方向、真空ポンプは真空
加工室８に接続しているが省略してある。
次にこの装置の動作について説明する。図のよ
うに設置した被加工物３の周囲を空気の大気圧と
してレーザビーム１を照射すると、被加工物３は
溶解し始める。レーザビーム１のパワー密度は
106〜107〔Watt／cm2〕と高いので、被加工物３か
らは蒸発物質５が発生する。今ビームガイド９が
無ければ、この蒸発物質５は透過窓７の内側を汚
染して破損の原因になるが、図のように内径に凹
凸を有するビームガイド９が取付けられている
と、この蒸気はビームガイド９の外面に付着する
が、その内径側には侵入しにくい。しかし大気圧
中では、ついにはその頂部にある透過窓７を汚染
して光線を弱めたり窓の破損の原因となる。又こ
の様な状態では被加工物３のビード１７の内部に
はガスを巻き込んでミクロポロシテイ１６（小さ
な空孔）を発生する。そこで、蒸着防止用ガス１
３を上方よりビームガイド９の内径側に流せば、
蒸発物質５は上記蒸着防止用ガス１３の流れとビ
ームガイド９に設けた凹凸の作用によつて下方に
押し返され透過窓を汚染することは無くなるが、
蒸発物質５の濃度が高いので、散乱又は吸収によ
つて被加工物３に達しようとするレーザビーム１
を弱める。
うに設置した被加工物３の周囲を空気の大気圧と
してレーザビーム１を照射すると、被加工物３は
溶解し始める。レーザビーム１のパワー密度は
106〜107〔Watt／cm2〕と高いので、被加工物３か
らは蒸発物質５が発生する。今ビームガイド９が
無ければ、この蒸発物質５は透過窓７の内側を汚
染して破損の原因になるが、図のように内径に凹
凸を有するビームガイド９が取付けられている
と、この蒸気はビームガイド９の外面に付着する
が、その内径側には侵入しにくい。しかし大気圧
中では、ついにはその頂部にある透過窓７を汚染
して光線を弱めたり窓の破損の原因となる。又こ
の様な状態では被加工物３のビード１７の内部に
はガスを巻き込んでミクロポロシテイ１６（小さ
な空孔）を発生する。そこで、蒸着防止用ガス１
３を上方よりビームガイド９の内径側に流せば、
蒸発物質５は上記蒸着防止用ガス１３の流れとビ
ームガイド９に設けた凹凸の作用によつて下方に
押し返され透過窓を汚染することは無くなるが、
蒸発物質５の濃度が高いので、散乱又は吸収によ
つて被加工物３に達しようとするレーザビーム１
を弱める。
そこで真空ポンプ（図示せず）によつて真空加
工室８内を600〔Torr〕以下に吸引すれば、極め
て顕著に被加工物３の溶け込み深さを増す（第５
図ａ，ｂ参照）ことが出来る。第８図ｂには上記
真空加工室８内の圧力を１〔Torr〕にした場合に
ついて示してある。この図でも明らかなように溶
け込みの断面にはピンホール１６は認められな
い。
工室８内を600〔Torr〕以下に吸引すれば、極め
て顕著に被加工物３の溶け込み深さを増す（第５
図ａ，ｂ参照）ことが出来る。第８図ｂには上記
真空加工室８内の圧力を１〔Torr〕にした場合に
ついて示してある。この図でも明らかなように溶
け込みの断面にはピンホール１６は認められな
い。
第２図ａ，ｂ，ｃ及び第３図ａ，ｂ，ｃ，ｄ
は、この発明に係るビームガイド９の多様な形状
を示す断面図である。第２図ａ〜ｃにおいては角
形の凹部１１を１〜３個のもの、若しくは先細ノ
ズル状のもの、又は円弧状の凹凸を付けたものを
示したがいずれも有効である。
は、この発明に係るビームガイド９の多様な形状
を示す断面図である。第２図ａ〜ｃにおいては角
形の凹部１１を１〜３個のもの、若しくは先細ノ
ズル状のもの、又は円弧状の凹凸を付けたものを
示したがいずれも有効である。
第３図ａ〜ｄには、上記のような凹凸部の他に
蒸発物質排出孔１４を側壁に貫通して多数設けて
も有効である例を示した。蒸発物質排出孔１４は
ビームガイド内部凹部１１に設けても、ビームガ
イド内部凸部１０，１２に設けても良いことを示
す。
蒸発物質排出孔１４を側壁に貫通して多数設けて
も有効である例を示した。蒸発物質排出孔１４は
ビームガイド内部凹部１１に設けても、ビームガ
イド内部凸部１０，１２に設けても良いことを示
す。
又上記第２〜３図に示したビームガイド９には
いずれも蒸着防止用ガス１３の導入路がつけてあ
り、材質にはSUS304ステンレス鋼製の円筒ノズ
ルを用い、この外形は全長220〔mm〕×小内径40
〔mm〕×大内径65〔mm〕であつた。
いずれも蒸着防止用ガス１３の導入路がつけてあ
り、材質にはSUS304ステンレス鋼製の円筒ノズ
ルを用い、この外形は全長220〔mm〕×小内径40
〔mm〕×大内径65〔mm〕であつた。
又第１図による実施例において、真空加工室８
の排気はロータリポンプ及び拡散ポンプ（図示せ
ず）で行つた。ビームガイド９上方からはHe、
ArまたはN2ガスを吹き込んだ。高真空度領域
（≦10-1Torr）の場合はロータリポンプ及び拡散
ポンプの双方を作動させ、低真空度領域（＞
10-1Torr）ではロータリポンプのみを作動させ、
それぞれビームガイドノズル上方からガス吹き込
み量を調整することによつて所定の真空度を得
た。
の排気はロータリポンプ及び拡散ポンプ（図示せ
ず）で行つた。ビームガイド９上方からはHe、
ArまたはN2ガスを吹き込んだ。高真空度領域
（≦10-1Torr）の場合はロータリポンプ及び拡散
ポンプの双方を作動させ、低真空度領域（＞
10-1Torr）ではロータリポンプのみを作動させ、
それぞれビームガイドノズル上方からガス吹き込
み量を調整することによつて所定の真空度を得
た。
被加工物３には板厚10mmのSUS304鋼を用い、
炭酸ガスレーザパワーを5kW一定とし、真空加
工室８の真空度を１×10-3〜760Torr、溶接速度
を0.25〜５ｍ／minの間で変化させて溶接を行つ
た。溶接中蒸発物質５の発生量は圧力が低い程、
溶接速度が遅い程多くなる。比較のために第４図
に示すストレート形状のビームガイド９（内径40
mm、長さ220mm）を用いて実験を行つたが、例え
ば雰囲気圧力1Torr、溶接速度0.5ｍ／min、レー
ザビーム１のパワー5kWの条件で溶接するとわ
ずか溶接開始10秒後にKClの透過窓７が破損し
た。この場合、透過窓７には多量の蒸発物質５が
蒸着し、透過窓７はほとんど不透明の状態であつ
た。
炭酸ガスレーザパワーを5kW一定とし、真空加
工室８の真空度を１×10-3〜760Torr、溶接速度
を0.25〜５ｍ／minの間で変化させて溶接を行つ
た。溶接中蒸発物質５の発生量は圧力が低い程、
溶接速度が遅い程多くなる。比較のために第４図
に示すストレート形状のビームガイド９（内径40
mm、長さ220mm）を用いて実験を行つたが、例え
ば雰囲気圧力1Torr、溶接速度0.5ｍ／min、レー
ザビーム１のパワー5kWの条件で溶接するとわ
ずか溶接開始10秒後にKClの透過窓７が破損し
た。この場合、透過窓７には多量の蒸発物質５が
蒸着し、透過窓７はほとんど不透明の状態であつ
た。
一方、本発明のビームガイド９を用いた場合に
は、最も蒸発物質５の発生が激しくなる雰囲気圧
力１×10-3Torr、溶接速度0.25ｍ／min、パワー
5kWの条件下においてレーザ溶接を15分間連続
して行つても、レーザの透過窓への金属蒸気の蒸
着は全く認められず本発明の効果が絶大なること
が確認された。
は、最も蒸発物質５の発生が激しくなる雰囲気圧
力１×10-3Torr、溶接速度0.25ｍ／min、パワー
5kWの条件下においてレーザ溶接を15分間連続
して行つても、レーザの透過窓への金属蒸気の蒸
着は全く認められず本発明の効果が絶大なること
が確認された。
以上の如く、内径に凹凸状に不連続的に変化す
るビームガイド９を用いることによつて、レーザ
の透過窓７への蒸発物質５の蒸着を防止できるこ
とが明らかになつた。
るビームガイド９を用いることによつて、レーザ
の透過窓７への蒸発物質５の蒸着を防止できるこ
とが明らかになつた。
なおビームガイド９には円筒形のものを用いた
が、矩形、６角形等何れの形状においても不連続
的にガイド内側の径または大きさを変化させるこ
とにより、同様な蒸着防止効果を期待できること
は言うまでもない。
が、矩形、６角形等何れの形状においても不連続
的にガイド内側の径または大きさを変化させるこ
とにより、同様な蒸着防止効果を期待できること
は言うまでもない。
また実施例ではレーザ溶接を取り上げたがクラ
ツデイング、熱処理など表層処理加工においても
同様に蒸着防止効果のあることを確認してあり、
真空雰囲気中で行うレーザ加工全てに本発明を有
効に活用できる。特に、圧力600〔Torr〕以下の
真空雰囲気下で行う加工において本発明の効果は
顕著である。
ツデイング、熱処理など表層処理加工においても
同様に蒸着防止効果のあることを確認してあり、
真空雰囲気中で行うレーザ加工全てに本発明を有
効に活用できる。特に、圧力600〔Torr〕以下の
真空雰囲気下で行う加工において本発明の効果は
顕著である。
更にこの発明に係る装置の透過窓７の材質には
ZnSe、KCl又はGeの板を用いたことを記してお
く。
ZnSe、KCl又はGeの板を用いたことを記してお
く。
次に第５図ａ，ｂの線図の解説を追記する。第
５図ｂに溶込み深さに及ぼす溶接雰囲気の圧力の
影響を示す。大気圧下の溶接においては低溶接速
度域で溶込み深さの飽和現象が認められるが、溶
接雰囲気の圧力が350Torr以下では溶込みは飽和
せず溶接速度が低下するにつれて増大する。参考
までに電子ビーム溶接の溶込み深さも併せて示す
が、真空雰囲気下でのレーザ溶接の溶込み深さは
電子ビーム溶接のそれに極めて近くなる。大気圧
下の溶接で低溶接速度域で溶込みが飽和するのは
多量のプラズマ生成によるものである。
５図ｂに溶込み深さに及ぼす溶接雰囲気の圧力の
影響を示す。大気圧下の溶接においては低溶接速
度域で溶込み深さの飽和現象が認められるが、溶
接雰囲気の圧力が350Torr以下では溶込みは飽和
せず溶接速度が低下するにつれて増大する。参考
までに電子ビーム溶接の溶込み深さも併せて示す
が、真空雰囲気下でのレーザ溶接の溶込み深さは
電子ビーム溶接のそれに極めて近くなる。大気圧
下の溶接で低溶接速度域で溶込みが飽和するのは
多量のプラズマ生成によるものである。
以上のようにこの発明に係るビームガイドなど
を用いた真空雰囲気下でのレーザ溶接において
は、溶込み深さの増大及びビード形状の向上とそ
れに伴う耐ポロシテイ性の著しい向上が達成され
るとともに、レーザの透過窓の汚染進行を長期間
抑制するから、従来困難視されていた真空雰囲気
下でのレーザ加工を長時間にわたつて安定して行
うことができる。
を用いた真空雰囲気下でのレーザ溶接において
は、溶込み深さの増大及びビード形状の向上とそ
れに伴う耐ポロシテイ性の著しい向上が達成され
るとともに、レーザの透過窓の汚染進行を長期間
抑制するから、従来困難視されていた真空雰囲気
下でのレーザ加工を長時間にわたつて安定して行
うことができる。
第１図はこの発明の一実施例を示すレーザ加工
装置の断面図、第２図ａ，ｂ，ｃはこの発明の他
の実施例のビームガイドの構成を示す断面図、第
３図ａ，ｂ，ｃ，ｄはこの発明の別の実施例で、
排出口のあるビームガイドの構成を示す断面図、
第４図はストレート形状のビームガイドの断面
図、第５図ａ，ｂは溶込み深さと、溶接速度と、
雰囲気圧の関係を示す線図、第６図は従来の大気
中でのレーザ溶接方法を示す断面図、第７図は従
来の真空加工室内でのレーザ溶接方法を示す断面
図、第８図ａ，ｂはレーザ溶接部のビードの横断
面図で、ａは大気圧下、ｂは真空下（1Torr）で
の横断面図である。 図において、１はレーザビーム、３は被加工
物、５は蒸発物質、７は透過窓、８は真空加工
室、９はビームガイド、１３は蒸着防止用ガスで
ある。なお各図中、同一符号は同一又は相当部分
を示す。
装置の断面図、第２図ａ，ｂ，ｃはこの発明の他
の実施例のビームガイドの構成を示す断面図、第
３図ａ，ｂ，ｃ，ｄはこの発明の別の実施例で、
排出口のあるビームガイドの構成を示す断面図、
第４図はストレート形状のビームガイドの断面
図、第５図ａ，ｂは溶込み深さと、溶接速度と、
雰囲気圧の関係を示す線図、第６図は従来の大気
中でのレーザ溶接方法を示す断面図、第７図は従
来の真空加工室内でのレーザ溶接方法を示す断面
図、第８図ａ，ｂはレーザ溶接部のビードの横断
面図で、ａは大気圧下、ｂは真空下（1Torr）で
の横断面図である。 図において、１はレーザビーム、３は被加工
物、５は蒸発物質、７は透過窓、８は真空加工
室、９はビームガイド、１３は蒸着防止用ガスで
ある。なお各図中、同一符号は同一又は相当部分
を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空ポンプが接続された真空容器と、この真
空容器のレーザビーム透過窓の内側に、内径に凹
凸を有するビームガイドを設けたことを特徴とす
るレーザ加工装置。 ２ 真空容器内の圧力は600〔Torr〕以下である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレ
ーザ加工装置。 ３ ビームガイドは側壁に蒸発物質排出口を設
け、このビームガイドの一端側から蒸着防止用ガ
スを導入する構成であることを特徴とする特許請
求範囲第１項記載のレーザ加工装置。 ４ 蒸着防止用ガスはHe、Ar、N2、CO2、空気
などのガスであることを特徴とする特許請求範囲
第３項記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60247914A JPS62107891A (ja) | 1985-11-07 | 1985-11-07 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60247914A JPS62107891A (ja) | 1985-11-07 | 1985-11-07 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62107891A JPS62107891A (ja) | 1987-05-19 |
| JPH0242307B2 true JPH0242307B2 (ja) | 1990-09-21 |
Family
ID=17170428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60247914A Granted JPS62107891A (ja) | 1985-11-07 | 1985-11-07 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62107891A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4979181A (en) * | 1989-04-28 | 1990-12-18 | Nissan Motor Co., Ltd. | Vacuum laser irradiating apparatus |
| JPH0838746A (ja) * | 1994-07-27 | 1996-02-13 | Taiyo Kogyo Kk | 無線操縦二輪車玩具の方向制御装置 |
| US6024627A (en) * | 1997-08-19 | 2000-02-15 | Tilbor; Neil | Toy vehicle with gyroscopic action rear wheels |
| JP7239307B2 (ja) * | 2018-12-04 | 2023-03-14 | 株式会社アイシン福井 | レーザ溶接装置 |
| JP2020089898A (ja) * | 2018-12-04 | 2020-06-11 | アイシン・エィ・ダブリュ工業株式会社 | レーザ溶接装置 |
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS60115391A (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-21 | Nuclear Fuel Co Ltd | 溶接装置 |
-
1985
- 1985-11-07 JP JP60247914A patent/JPS62107891A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62107891A (ja) | 1987-05-19 |
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