JPH0242441A - Optical thin film body - Google Patents

Optical thin film body

Info

Publication number
JPH0242441A
JPH0242441A JP63078999A JP7899988A JPH0242441A JP H0242441 A JPH0242441 A JP H0242441A JP 63078999 A JP63078999 A JP 63078999A JP 7899988 A JP7899988 A JP 7899988A JP H0242441 A JPH0242441 A JP H0242441A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
norbornene
optical thin
polymer
film body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63078999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Oshima
正義 大島
Yoshio Natsuume
伊男 夏梅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP63078999A priority Critical patent/JPH0242441A/en
Publication of JPH0242441A publication Critical patent/JPH0242441A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光学用薄膜体に関し、さらに詳しくは、短波長
領域における光透過率の高い光学用薄膜体に間する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to an optical thin film body, and more particularly to an optical thin film body having high light transmittance in a short wavelength region.

(従来の技術) 従来、半導体微細加工技術はフォトリソグラフィーが主
流となっているが、半導体素子もLSIからVLS I
へ高密度化してフォトリソグラフィーでの限界が2〜3
ミクロンとされており、超微細加工技術の開発が進めら
れ電子線やX線と共に遠紫外線等が注目されている。そ
して、従来、LS【の製造のためのフォトリソグラフィ
ーにおいては光源に紫外線(350〜450nm)を使
用しているが、近年、集積度の高いウェハやチップの製
造のために300nm程度あるいはそれ以下の短波長の
紫外線で露光する技術が開発されてきている。ところが
、従来からある光学用のプラスチック、例えば、ポリカ
ーボネートやポリメチルメータクリレートなどは、30
0nmにおける光透過率が50%以下と低く、これら短
波長の領域においてはフォトレジストの保護膜等の用途
には用いることができなかった。又、従来用いられてい
るニトロセルロース膜の場合も300nm以下では、急
激に透過率が低下するため、それ以下の短波長では使用
できなかった。
(Conventional technology) Conventionally, photolithography has been the mainstream semiconductor microfabrication technology, but semiconductor devices have also changed from LSI to VLSI.
Due to high density, the limit of photolithography is 2~3
Ultra-fine processing technology is being developed, and far ultraviolet rays are attracting attention along with electron beams and X-rays. Conventionally, ultraviolet light (350 to 450 nm) has been used as a light source in photolithography for manufacturing LS, but in recent years ultraviolet light (350 to 450 nm) has been used as a light source to manufacture highly integrated wafers and chips. Techniques for exposure to short wavelength ultraviolet light have been developed. However, conventional optical plastics such as polycarbonate and polymethyl methacrylate have a
The light transmittance at 0 nm was as low as 50% or less, and it could not be used as a protective film for photoresists in these short wavelength regions. Furthermore, in the case of conventionally used nitrocellulose membranes, the transmittance decreases rapidly at wavelengths below 300 nm, so that they cannot be used at shorter wavelengths.

(発明が解決しようとする課題) 本発明者らは前記問題を解決すべく鋭意研究の結果、ノ
ルボルネン系化合物をモノマー成分として含む付加型(
共)重合体を用いれば短波長領域における光透過率の高
い光学用薄膜体が得られることを見い出し、この知見に
基づいて本発明を完成するに到った。
(Problems to be Solved by the Invention) As a result of intensive research to solve the above-mentioned problems, the present inventors found that an addition-type compound containing a norbornene compound as a monomer component (
The inventors have discovered that an optical thin film with high light transmittance in a short wavelength region can be obtained by using a co-polymer, and have completed the present invention based on this knowledge.

(課題を解決するための手段) かくして本発明によれば、ノルボルネン系モノマーの付
加型重合体、またはノルボルネン系モノマーとオレフィ
ンとの付加型共重合体から形成されることを特徴とする
光学用薄膜体が提供される。
(Means for Solving the Problems) According to the present invention, there is provided an optical thin film formed from an addition polymer of a norbornene monomer or an addition copolymer of a norbornene monomer and an olefin. The body is provided.

本発明で用いられるノルボルネン系モノマーはノルボル
ネン骨格を分子中に有するものであり、下記−等式(I
)で示される構造をしている。
The norbornene monomer used in the present invention has a norbornene skeleton in the molecule, and has the following equation (I
) has the structure shown.

(式中RI、 RI 2は水素又は炭化水素残基であっ
て、各同−又は異なっていてもよく、更にR9又はR1
1lとRl 1又はR12は互に環を形成していてもよ
い。nはO又は1以上の正数であって、R5−R8が複
数回繰り返される場合にはこれらは各同−又は異なって
いてもよい。) かかるノルボルネン系モノマーの具体例としては、ノル
ボルネン、メチルノルボルネン、エチルノルボルネン、
ジメチルノルボルネン、ビニルノルボルネン、エチリデ
ンノルボルネンなどのような2環体、ジシクロペンタジ
ェン、ジヒドロジシクロペンタジェン、メチルジシクロ
ペンタジェンなとのような3環体、1,4,5.8−ジ
メタノ−1,2,3,4,4a、5,8.8a−オクタ
ヒドロナフタレン、2−メチル−1,4,5,8−ジメ
タノ−1,2,3,4,4a、5,8.8a−オクタヒ
ドロナフタレン、2−エチル−1,4,5,8−ジメタ
ノ−1,2゜3.4.4a、5,8,8a−オクタヒド
ロナフタレンなどのような4環体、1,4,5.8−ジ
メタノ−i 、2,3,4.4a、4b、5+ 8 +
 81 + 98−デカヒドロ−9H−フルオレン、4
,9,5.8−ジメタノ−2,3,3a、4.4a+5
.8,8a、9.9a−デカヒドロ−1■−ベンゾイン
デンなどのような5環体、さらにはそれ以上の多環体の
ノルボルネン系化合物などが例示されるが、通常、6環
体程度までの多環体が用いられ、なかでも、4環体のも
のが賞月される。
(In the formula, RI and RI2 are hydrogen or hydrocarbon residues, which may be the same or different, and further R9 or R1
1l and Rl 1 or R12 may mutually form a ring. n is O or a positive number of 1 or more, and when R5 to R8 are repeated multiple times, they may be the same or different. ) Specific examples of such norbornene monomers include norbornene, methylnorbornene, ethylnorbornene,
Bicyclics such as dimethylnorbornene, vinylnorbornene, ethylidene norbornene, tricyclics such as dicyclopentadiene, dihydrodicyclopentadiene, methyldicyclopentadiene, 1,4,5,8-dimethano -1,2,3,4,4a,5,8.8a-octahydronaphthalene, 2-methyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a,5,8.8a - Tetracyclics such as octahydronaphthalene, 2-ethyl-1,4,5,8-dimethano-1,2゜3.4.4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 1,4, 5.8-dimethano-i, 2,3,4.4a, 4b, 5+ 8 +
81 + 98-decahydro-9H-fluorene, 4
,9,5.8-dimethano-2,3,3a,4.4a+5
.. Examples include pentacyclic or even polycyclic norbornene compounds such as 8,8a, 9.9a-decahydro-1■-benzoindene, etc., but usually up to about 6 rings. Polycyclic rings are used, and among them, tetracyclic rings are prized.

これらノルボルネン系モノマーは単一で用いても良いし
、二種以上の混合物として用いても良い。
These norbornene monomers may be used singly or as a mixture of two or more.

本発明における付加型重合体は前記ノルボルネン系モノ
マーの付加型重合体、またはノルボルネン系モノマーと
オレフィンとの付加型共重合体である。かかる共重合可
能なオレフィンとしてはα−オレフィンや環状オレフィ
ンなどである。α−オレフィンは、炭素原子数2〜2o
、好適には2〜10のα−オレフィンであって、例えば
エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メチル−1−
ブテン、1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、4
−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン
、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−
へキサデセン、1−エイコセン、スチレン、α−メチル
スチレンなどが例示され、なかでもエチレンが共重合性
の面から好ましい。又、環状オレフィンは、架橋のない
シクロオレフィン、例えばシクロペンテン、シクロヘキ
セン、3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチルシ
クロヘキセン、2−(2−メチルブチル)−1−シクロ
ヘキセン等が例示される。
The addition type polymer in the present invention is an addition type polymer of the above-mentioned norbornene monomer or an addition type copolymer of a norbornene type monomer and an olefin. Such copolymerizable olefins include α-olefins and cyclic olefins. α-olefin has 2 to 2 carbon atoms
, preferably 2 to 10 α-olefins, such as ethylene, propylene, 1-butene, 3-methyl-1-
Butene, 1-pentene, 3-methyl-1-pentene, 4
-Methyl-1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-
Examples include hexadecene, 1-eicosene, styrene, and α-methylstyrene, with ethylene being particularly preferred from the viewpoint of copolymerizability. Examples of the cyclic olefin include non-crosslinked cycloolefins such as cyclopentene, cyclohexene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, and 2-(2-methylbutyl)-1-cyclohexene.

本発明の重合体を製造するためには、ノルボルネン系モ
ノマーを単独、またはノルボルネン系モノマーとオレフ
ィンとを通常のチーグラー系触媒使用して重合すればよ
い。
In order to produce the polymer of the present invention, a norbornene monomer may be used alone, or a norbornene monomer and an olefin may be polymerized using a common Ziegler catalyst.

チタン化合物としては、TICQa、T i B ra
、T i C113、TiBr3等のハロゲン化チタン
あるいはT l (OR) mX 4−# (ただし、
Rはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シ
クロヘキシル、フェニル等の炭化水素残基、Xはハロゲ
ンを表す。mはO<m≦4の範囲である。)で示される
チタン化合物を挙げることができる。
As titanium compounds, TICQa, T i Bra
, T i C113, TiBr3 or other titanium halides or T l (OR) mX 4-# (however,
R represents a hydrocarbon residue such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, cyclohexyl, phenyl, etc., and X represents a halogen. m is in the range O<m≦4. ) can be mentioned.

バナジウム化合物としては、V CQ a、VBr4、
V CQ 3、■Br3等のハロゲン化バナジウム、V
OCl2、VOBr3、VOC’12、VOBr2等の
オキシハロゲン化バナジウムあるいはVO(OR)−X
3−− (ただし、Rは上記と同様の炭化水素残基、X
はハロゲンを表す。mはO<m≦3の範囲である。)で
示されるバナジウム化合物を挙げることができる。
Vanadium compounds include V CQ a, VBr4,
Vanadium halides such as V CQ 3, ■Br3, V
Vanadium oxyhalides such as OCl2, VOBr3, VOC'12, VOBr2 or VO(OR)-X
3-- (However, R is the same hydrocarbon residue as above, X
represents halogen. m is in the range O<m≦3. ) can be mentioned.

チタン化合物またはバナジウム化合物と共に使用するア
ルキルアルミニウム系化合物は、−等式R’ 、kQ 
X’ 3−− (ただし、R′はメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル等の炭化水素残基
、を表す。X′はハロゲンを表す。mはO<m≦3の範
囲である。)で示される。
Alkylaluminum compounds used with titanium or vanadium compounds have the formula - R', kQ
X' 3-- (However, R' represents a hydrocarbon residue such as methyl, ethyl, propyl, butyl, isobutyl, hexyl, etc. X' represents a halogen. m is in the range of O<m≦3 ).

アルキルアルミニウム系化合物は、例えばトリアルキル
アルミニウム、ジアルキルアルミニウムハライド、アル
キルアルミニウムシバライドまたはこれらの任意の混合
物あるいはこれらとアルキルアルミニウムトリハライド
との混合物などを例示することができる。
Examples of the alkyl aluminum compound include trialkylaluminum, dialkylaluminum halide, alkyl aluminum civalide, any mixture thereof, or a mixture of these and alkyl aluminum trihalide.

本発明において使用されるチーグラー系触媒はチタン化
合物、マグネシウム化合物に担持されたチタン化合物、
バナジウム化合物などのような遷移金属と、アルキルア
ルミニウム系化合物のような還元剤とからなる触媒であ
る。
The Ziegler catalyst used in the present invention is a titanium compound, a titanium compound supported on a magnesium compound,
A catalyst consisting of a transition metal such as a vanadium compound and a reducing agent such as an alkyl aluminum compound.

重合は炭化水素溶媒中で行われる。例えば、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、灯油のような脂肪族炭化水素、シ
クロヘキサンのような脂環族炭化水素、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素を単独で、また
は混合して溶媒に用いることができる。
Polymerization takes place in a hydrocarbon solvent. For example, hexane,
Aliphatic hydrocarbons such as heptane, octane, and kerosene, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene can be used alone or in combination as a solvent.

重合温度は一50〜300℃、好ましくは一30〜20
0℃、重合圧力は一般にはO〜50にg/ c m2、
好ましくはθ〜20にgIC112に保持される。
The polymerization temperature is -50 to 300°C, preferably -30 to 20°C.
0℃, polymerization pressure is generally O ~ 50 g/cm2,
Preferably, gIC112 is maintained at θ~20.

また重合体の分子量調整のため適宜、水素のような分子
量調整剤を存在させることができる。
Furthermore, a molecular weight regulator such as hydrogen may be present as appropriate to adjust the molecular weight of the polymer.

本発明の重合体におけるノルボルネン系モノマー/オレ
フィンの組成割合(モル比)は10010〜5195、
好ましくは90/ 10〜l O/ 90.  さらに
好ましくは80/20〜15/85である。
The composition ratio (mole ratio) of norbornene monomer/olefin in the polymer of the present invention is 10010 to 5195,
Preferably 90/10 to 1 O/90. More preferably, it is 80/20 to 15/85.

このようにして製造された付加型(共)重合体は、前記
ノルボルネン系モノマーのノルボルネン骨格の炭素−炭
素二重結合部分が開いて該モノマー単独、あるいはオレ
フィンと重合したものであり、例えば、重合体中のノル
ボルネン系モノマーの構成単位は特開昭61−2926
01.  同61−211215号公報に開示されてい
るような構造をとっている。
The addition type (co)polymer produced in this way is one in which the carbon-carbon double bond of the norbornene skeleton of the norbornene-based monomer is opened and the monomer is polymerized alone or with an olefin. The structural unit of the norbornene monomer during coalescence is disclosed in JP-A-61-2926.
01. It has a structure as disclosed in Japanese Patent No. 61-211215.

付加型(共)重合体の分子量は135℃デカリン中で測
定した固有粘度〔η〕で0.1〜20aQ /g特に0
.3〜lOa /gの範囲のものがよく、また結晶化度
(X線回折法)が5%以下とくにOzのものが好適であ
る。
The molecular weight of the addition type (co)polymer is 0.1 to 20aQ/g, especially 0, as an intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135°C.
.. It is preferable that the crystallinity is in the range of 3 to 1Oa/g, and the crystallinity (as measured by X-ray diffraction method) is 5% or less, especially oz.

以上の構成の重合体は、実質的に非品性なので透明性が
良好であり、成形収縮がなくて寸法安定性に優れている
。しかも耐熱性にも優れている。すなわち、ガラス転移
温度(Tg)が通常50〜220℃、多くが60〜21
0℃の範囲にあり、熱変形温度が通常40〜210℃、
多くが50〜200℃の範囲にある。また屈折率(no
o)が通常1.47〜1.58、多くが1.50〜1.
56の範囲内にあり、プラスチックスの中では高屈折率
である。
The polymer having the above structure has good transparency because it is substantially non-porous, and has excellent dimensional stability without molding shrinkage. Moreover, it has excellent heat resistance. That is, the glass transition temperature (Tg) is usually 50 to 220°C, often 60 to 21°C.
It is in the range of 0℃, and the heat distortion temperature is usually 40 to 210℃,
Most are in the range of 50-200°C. Also, the refractive index (no
o) is usually 1.47 to 1.58, often 1.50 to 1.
56, which is one of the highest refractive indexes among plastics.

本発明の光学用薄膜体は前記付加型(共)重合体から形
成される。光学用薄膜体として成形する方法には各種の
方法があるが、これらの重合体はトルエン等の溶剤に可
溶性であるため、キャスト法、スピンコード法等の成形
方法により成形することができる。一般に、溶融押出成
形等の加熱を必要とする成形法では成形時に着色する傾
向が見られる。ところが、キャスト法やスピンコード法
などにより加熱をせずに造膜すると着色や劣化のない透
明な薄膜体が得られ、しかも得られた薄膜体は、例えば
膜厚が10μmの場合に波長250〜500nn+での
光透過率が8(H以上と高く、他の透明性フィルムにな
い利点を有する。
The optical thin film body of the present invention is formed from the addition type (co)polymer. There are various methods for molding optical thin films, but since these polymers are soluble in solvents such as toluene, they can be molded by molding methods such as casting and spin cording. In general, molding methods that require heating such as melt extrusion molding tend to cause coloring during molding. However, if a film is formed without heating by a casting method or a spin cord method, a transparent thin film body without coloring or deterioration can be obtained, and the obtained thin film body has a wavelength of 250~250 μm, for example, when the film thickness is 10 μm. The light transmittance at 500 nn+ is as high as 8 (H or more), which is an advantage that other transparent films do not have.

キャスト成形法に使用できる溶剤としては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、n
−ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素
、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素、メチレンジク
ロリド、ジクロルエタン、ジクロルエチレン、テトラク
ロルエタン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、トリ
クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素等が挙げられ
、これらの二種以上を混合して使用してもよい。樹脂溶
液の濃度は薄膜体の所望の厚みに応じて適宜定めること
ができるが、通常、0.1〜50重量%の範囲が好まし
い。
Examples of solvents that can be used in the cast molding method include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene;
-Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, and heptane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, and halogenated hydrocarbons such as methylene dichloride, dichloroethane, dichloroethylene, tetrachloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene. etc., and two or more of these may be used in combination. Although the concentration of the resin solution can be determined as appropriate depending on the desired thickness of the thin film, it is usually preferably in the range of 0.1 to 50% by weight.

スピンコード法に使用できる溶剤としては沸点が一60
〜250℃、好ましくは30〜230℃の有機溶剤であ
り、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素、メ
チレンジクロリド、ジクロルエタン、ジクロルエチレン
、テトラクロルエタン、クロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、トリクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素等
が挙げられ、これらの二種以上を混合して使用してもよ
い。
Solvents that can be used in the spin code method have a boiling point of 160
-250°C, preferably 30-230°C, and is an organic solvent such as aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylene dichloride, dichloroethane, dichloroethylene, and tetrachloride. Examples include halogenated hydrocarbons such as ethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene, and two or more of these may be used in combination.

樹脂溶液の濃度は0.01〜50重量%、好ましくは0
.5〜20重ji%であり、回転数は10−10,00
0 rpm。
The concentration of the resin solution is 0.01 to 50% by weight, preferably 0.
.. 5-20 weight ji%, rotation speed is 10-10,00
0 rpm.

好ましくは100〜6.OOOrpmである。得られた
成形品はコンパクトディスク、ビデオディスク、コンピ
ュータディスク等の光学記録材料の表面保護膜の他に透
明性、耐湿性、耐熱性等の特性を生かしてフォトレジス
トの保護膜、フォトレジストのキャリアフィルム等に用
いることができる。特に、本発明の光学用薄膜体は25
0〜500nmの光透過率が80%以上と高いのでフォ
トリソグラフィーの超微細加工技術におけるフォトレジ
スト保護用膜体等として有用である。
Preferably 100-6. OOOrpm. The obtained molded products can be used as surface protective films for optical recording materials such as compact discs, video discs, and computer discs, as well as photoresist protective films and photoresist carriers by taking advantage of their properties such as transparency, moisture resistance, and heat resistance. It can be used for films, etc. In particular, the optical thin film body of the present invention has 25
Since it has a high light transmittance of 80% or more in the wavelength range of 0 to 500 nm, it is useful as a film for protecting a photoresist in ultrafine processing technology of photolithography.

(実施例) 以下に実施例および参考例を挙げて本発明をさらに具体
的に説明する。なお、実施例、比較例及び参考例中の部
及び%はとくに断りのないかぎり重量基準である。
(Example) The present invention will be described in more detail below with reference to Examples and Reference Examples. Note that parts and percentages in Examples, Comparative Examples, and Reference Examples are based on weight unless otherwise specified.

実施例1 撹拌翼を備えた2Qガラス製重合器を用いて、連続的に
エチレンと2−メチル−1,4,5,8−ジメタノ−1
゜2.3,4.4a、5,8.8a−オクタヒドロナフ
タレン(以下M−DMONと略称)との共重合反応を以
下の如く行った。
Example 1 Ethylene and 2-methyl-1,4,5,8-dimethano-1 were continuously produced using a 2Q glass polymerization vessel equipped with a stirring blade.
A copolymerization reaction with 2.3,4.4a,5,8.8a-octahydronaphthalene (hereinafter abbreviated as M-DMON) was carried out as follows.

すなわち、重合器内でのM−0M0811度が60g/
 11となるように重合器内上部からM−DMONのト
ルエン溶液を0.9Q/hr、  触媒として重合器内
でのv濃度が0.5mmol/ QとなるようにVO(
OC2)1s)Chのトルエン溶液を0.711/hr
、  重合器内でのAIJI度が2mmol/Rとなる
ようにAI(C2■s)+ 、6CI1.Sのトルエン
溶液を0.49 /hrの速度でそれぞれ重合器中に連
続的に供給し、一方重合器下部から重合器中に重合液が
常に12になるように連続的に抜き出す。また重合器上
部からエチレンを2511/hr、N2を80 ’J 
/hr、 N2を2Sl/hrの速度で供給する。共重
合反応は冷媒を用いることにより10℃にコントロール
して行った。
That is, M-0M0811 degrees in the polymerization vessel is 60g/
A toluene solution of M-DMON was added from the upper part of the polymerization vessel at a rate of 0.9 Q/hr so that the concentration of VO (
OC2) 1s) Ch toluene solution at 0.711/hr
, AI(C2■s)+, 6CI1. so that the AIJI degree in the polymerization vessel was 2 mmol/R. A toluene solution of S was continuously fed into each polymerization vessel at a rate of 0.49/hr, and on the other hand, the polymer solution was continuously drawn out from the bottom of the polymerization vessel so that the volume of the polymer solution was always 12%. In addition, 2511/hr of ethylene and 80'J of N2 were supplied from the top of the polymerization vessel.
/hr, N2 is supplied at a rate of 2Sl/hr. The copolymerization reaction was controlled at 10° C. using a refrigerant.

重合器下部から連続的に抜き出されたポリマー重合液に
はメタノールを少量添加して重合反応を停止させ、次い
で大量のイソプロピルアルコール中に投入して生成共重
合体を析出させ、さらにイソプロピルアルコールで洗浄
した。この時共重合体は30g/hrの速度で得られた
。洗浄後の共重合体は100℃で一昼夜減圧乾燥した。
A small amount of methanol is added to the polymer polymerization liquid continuously drawn out from the bottom of the polymerization vessel to stop the polymerization reaction, and then it is poured into a large amount of isopropyl alcohol to precipitate the produced copolymer, and then further poured with isopropyl alcohol. Washed. At this time, the copolymer was obtained at a rate of 30 g/hr. The washed copolymer was dried under reduced pressure at 100° C. all day and night.

尚、この重合に際し利用した装置、器具類はダストフリ
ーのアセトンで洗浄し、溶媒はフィルター処理後蒸溜精
製したものを利用するなどダスト対策を行っている。
In addition, dust countermeasures were taken such as cleaning the equipment and instruments used in this polymerization with dust-free acetone, and using a solvent that had been purified by distillation after filtering.

このようにして得られた共重合体(1)は、” C−N
MR分析によるとエチレンが55モJL!含まれており
、135℃デカリン中で測定した〔η〕は0.64(L
ll/g1デュポン社製DMA社製0損A弾性率(E”
)を5℃/winの昇温速度で測定し、そのピーク温度
から求めたTgが139℃、アツベの屈折率計で測定し
たn2会が1.537であった。
The copolymer (1) thus obtained is “C-N
According to MR analysis, ethylene is 55 moJL! [η] measured in decalin at 135°C is 0.64 (L
ll/g1 Manufactured by DuPont, manufactured by DMA, 0 loss A modulus of elasticity (E”
) was measured at a heating rate of 5° C./win, and the Tg determined from the peak temperature was 139° C., and the n2 coefficient measured with an Atsube refractometer was 1.537.

実施例2 実施例1の重合におけるM−DMONの代わりに第1表
のノルボルネン系モノマーを用いる他は実施例1に準じ
て共重合体(It)及び(III)を得た。各共重合体
のエチレン含有モル%、 〔η〕及びTgを測定し、第
1表に示した。
Example 2 Copolymers (It) and (III) were obtained according to Example 1, except that the norbornene monomer shown in Table 1 was used instead of M-DMON in the polymerization of Example 1. The ethylene content mole %, [η] and Tg of each copolymer were measured and shown in Table 1.

第1表 零1:l、4,5,8−シーメタノ−1,2,3,4a
、5,8.8a−オクタヒドロナフタしンを示す。
Table 1 Zero 1: l, 4,5,8-seemethano-1,2,3,4a
, 5,8.8a-octahydronaphthane.

零2:6−エチルヒーシクロ[2,2,11へ70トー
2−エンを示す。
Zero 2: 6-ethylhycyclo[2,2,11 indicates 70 to-2-ene.

実施例3 共重合体(I)〜(III)の15zクロルベンゼン溶
液を平滑なガラス板上にlooorpmX 1分間でス
ピンコードした後100℃で2時間乾燥した。その後、
ガラス板とともに純水中で超音波振動を加えることによ
りポリマーの薄膜体を得た。膜厚は4.5μmであった
。得られた薄膜体の光線透過率を第2表にボす。
Example 3 A 15z chlorobenzene solution of copolymers (I) to (III) was spin-coded on a smooth glass plate using looorpmX for 1 minute, and then dried at 100° C. for 2 hours. after that,
A thin polymer film was obtained by applying ultrasonic vibration to a glass plate in pure water. The film thickness was 4.5 μm. The light transmittance of the obtained thin film body is shown in Table 2.

尚、比較のために従来のニトロセルロース膜(商品名B
B−2,85型膜、アドバンストセミコンダクタープロ
ダクツ社製)の光線透過率を第2表に示す。
For comparison, a conventional nitrocellulose membrane (product name B
Table 2 shows the light transmittance of the B-2,85 type film (manufactured by Advanced Semiconductor Products Co., Ltd.).

第2表Table 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ノルボルネン系モノマーの付加型重合体、または
ノルボルネン系モノマーとオレフィンとの付加型共重合
体から形成されることを特徴とする光学用薄膜体。
(1) An optical thin film formed from an addition polymer of a norbornene monomer or an addition copolymer of a norbornene monomer and an olefin.
JP63078999A 1988-03-31 1988-03-31 Optical thin film body Pending JPH0242441A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63078999A JPH0242441A (en) 1988-03-31 1988-03-31 Optical thin film body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63078999A JPH0242441A (en) 1988-03-31 1988-03-31 Optical thin film body

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0242441A true JPH0242441A (en) 1990-02-13

Family

ID=13677591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63078999A Pending JPH0242441A (en) 1988-03-31 1988-03-31 Optical thin film body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0242441A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998020394A1 (en) * 1996-11-04 1998-05-14 The B.F. Goodrich Company Photodefinable dielectric compositions
JP2010152308A (en) * 2008-11-21 2010-07-08 Asahi Kasei E-Materials Corp New pellicle and manufacturing method therefor
US7785655B2 (en) 2003-05-09 2010-08-31 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998020394A1 (en) * 1996-11-04 1998-05-14 The B.F. Goodrich Company Photodefinable dielectric compositions
US7785655B2 (en) 2003-05-09 2010-08-31 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
JP2010152308A (en) * 2008-11-21 2010-07-08 Asahi Kasei E-Materials Corp New pellicle and manufacturing method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4044947B2 (en) Catalyst for producing metallocene compound and cycloolefin copolymer
JP3247130B2 (en) Bulk polymerization using specific metallocene catalysts for preparing cycloolefin polymers
JP3899511B2 (en) Thermoplastic norbornene resin-based optical film
JP4178810B2 (en) Thermoplastic norbornene resin-based optical film
US5371158A (en) Bulk polymerization using specific metallocene catalysts for the preparation of cycloolefin polymers
JP4238501B2 (en) Thermoplastic norbornene resin-based optical film
JPH01185307A (en) Random copolymer and manufacture thereof
JPH06336508A (en) Material of cycloolefin copolymer and its production
JPH1060048A (en) Cyclic olefin polymer and method for producing the same
EP2060937A1 (en) Retardation film, and liquid crystal display device using the same
JP3534127B2 (en) Norbornene-based addition copolymer
JPH0242441A (en) Optical thin film body
EP1862484A1 (en) Norbornene addition copolymer and moldings
JP2007119660A (en) Cyclic olefin addition copolymer, process for producing the same, and molding material
JP4352776B2 (en) Optical film and use thereof
JP5304244B2 (en) Cyclic olefin ring-opening copolymer and use thereof
JP4915409B2 (en) Thermoplastic norbornene resin-based optical film
JP4635968B2 (en) Thermoplastic norbornene resin-based optical film
JP2006083266A (en) Optical film
JP4356527B2 (en) Norbornene-based ring-opening (co) polymer, process for producing the same and molded article
JPH03220230A (en) Hydrogenated ring-opening polymer and its production
JP2002372632A (en) Light guide plate and method of manufacturing the same
KR100944303B1 (en) Wave Plate for Laser Optics
JPH03258815A (en) Production of cyclic olefinic random copolymer
JPS63234201A (en) Optical thin film body