JPH0242912B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0242912B2
JPH0242912B2 JP28426286A JP28426286A JPH0242912B2 JP H0242912 B2 JPH0242912 B2 JP H0242912B2 JP 28426286 A JP28426286 A JP 28426286A JP 28426286 A JP28426286 A JP 28426286A JP H0242912 B2 JPH0242912 B2 JP H0242912B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
package
support plate
ceramic package
plating liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP28426286A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63140099A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP28426286A priority Critical patent/JPS63140099A/ja
Publication of JPS63140099A publication Critical patent/JPS63140099A/ja
Publication of JPH0242912B2 publication Critical patent/JPH0242912B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はセラミツクパツケージの所定部分をめ
つきするためのめつき処理装置に関するものであ
る。
(従来の技術) 従来、ピングリツト型やデユアル・インライン
型などのセラミツクパツケージのめつきとして
は、キヤビテイ部、シールドリング部、ピン等の
露出導体部全体に、例えば電解めつき法や無電解
めつき法によりニツケルめつき、金めつきを施し
ていた。そのため、めつき処理の不必要な部分に
までめつき処理を施すこととなり、その結果とし
て製品1個当たりに電析される貴金属量が多くな
り、めつきコストが極めて高くついていた。
そのため、必要な部分にだけめつき処理を施す
部分めつき法を適用することが提案されている。
たとえば出願人が先に提案した実開昭61―
120765号公報明細書には、第5図に示すように、
ピングリツドパツケージ12の少なくともキヤビ
テイ内部をめつきするため、パツケージのキヤビ
テイ部分にめつき液を導入するめつき液噴射用窓
孔2を複数個有する支持プレート1に、パツケー
ジ位置決め用の固定ピン7を、植立させて設け、
さらに各パツケージ12を前記固定ピン側の押圧
してパツケージ12を固定する複数の可動ピン8
を固定ピン7と対向させて設けて、2個の固定ピ
ン7と1個の可動ピン8により、パツケージ12
を3点支持する構成をとつている。また、窓孔2
からめつき液が洩れないように窓孔2の周囲に弾
性部材3が設けられ、押圧板14によりこの弾性
部材3を介して前記めつき液噴射用の窓孔2にパ
ツケージ12を押圧している。
めつき作業に用いるパツケージ12としては、
出願人が特開昭62―214648号公報において開示し
た、側面に共通電極を設けたピングリツドパツケ
ージが好適である。すなわち、第6図にその一例
を示すように、パツケージ12側面全体に設けた
共通電極12aにより各電極パターン12bさら
には各ピン12cのすべてに共通に電圧を供給で
きるピングリツドパツケージ12を使用すること
により、可動ピン8および固定ピン7に給電して
電解メツキを可能としている。なお、めつき作業
終了後、共通電極12aを除去して、最終製品と
してのピングリツドパツケージ12を得ている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、パツケージ12を固定ピン側に
弾性的に押圧して固定する可動ピン8は、パツケ
ージ側面の共通電極12aの部分への接触によ
り、可動ピン8からパツケージ12のキヤビテイ
内の全電極パターン12bへ電気的導通を可能と
し、キヤビテイ部分に存在するめつき液を介し
て、めつき液噴射用窓孔と該キヤビテイ部パター
ン12bとの間で電気めつきを施すものである
が、そのばね機構部でばね押圧圧力不足にもとづ
くパツケージ側面の共通電極12aの部分への接
触不具合により、電気的導通不良が生じることが
あり、支持プレート上に固定されるセラミツクパ
ツケージの個々のめつき厚さがばらついた。
本発明の目的は上述した不具合を解消して、セ
ラミツクパツケージの少なくともキヤビテイ内部
をめつき処理することができるめつき処理装置を
提供せんとするにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明のめつき処理装置は、セラミツクパツケ
ージの所定部分にめつき液を施すめつき液噴射部
と、該めつき液噴射部の上方に設けられ、かつ、
めつき液噴射用の窓孔を有する支持プレートと、
前記セラミツクパツケージを前記支持プレート上
に固定する位置決め部と、前記セラミツクパツケ
ージの複数のプラグピンと電気的に接触し、か
つ、前記支持プレートと前記セラミツクパツケー
ジとを気密に保持する押圧部とを備えたことを特
徴とする。
(作 用) 本発明によれば、位置決め部によりセラミツク
パツケージのキヤビテイ部が窓孔に向かい合う状
態で、セラミツクパツケージが水平方向に固定さ
れ、この固定されたセラミツクパツケージは押圧
部により支持プレートに、押圧されて支持プレー
トとセラミツクパツケージとの間を気密にし、そ
のため窓孔を通じてセラミツクパツケージの所定
部分、たとえばキヤビテイ部に噴射されるめつき
液が他に漏れ出ないようになる。前記押圧部のセ
ラミツクパツケージへの押圧とほぼ同時に、セラ
ミツクパツケージの複数のピンに押圧部が接触し
て、接触点が多数あることにより、電気的導通の
信頼性が向上し、押圧部がセラミツクパツケージ
と均一且つ確実に導通し得るようにしている。ま
た、この押圧部がセラミツクパツケージの複数の
プラグピンと広範囲に接触しているため、セラミ
ツクパツケージ全体により均一な電位をもたらし
ている。さらに、押圧部は、セラミツクパツケー
ジから植立する複数のプラグピンを押圧し、且つ
押圧部の平坦面で多数のプラグピンをほぼ垂直に
押圧するため、ピンの曲がりが発生するおそれも
ない。
(実施例) 以下に本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。
第1図は、本発明のめつき処理装置の全体を示
す正面図である。11はめつき液噴射部を、12
は押圧棒および給電ばねが取付けられた支持フレ
ームを夫々示している。支持フレーム12は複数
の空圧シリンダ13を介してフレーム部材14に
昇降自在に支持されている。なお、15はガイド
ロツドであり、支持フレーム12の昇降を補助し
ている。
めつき液噴射部11には、図示しないが、上方
に向いて開口を有するめつき液噴射ノズルが設け
られて、後述する支持プレートに載置されたセラ
ミツクパケージのめつき面に向けてめつき液を噴
射する。このめつき面から戻つてくるめつき液を
回収するため、めつき液噴射ノズルを囲んで液戻
り室が設けられている。
以上、めつき処理装置の概略を説明したが、次
に本発明のめつき処理装置の押圧部について以下
に説明する。第2図は本発明の装置の押圧部とそ
の態様を拡大して示す斜視図である。支持プレー
ト21はめつきすべきセラミツクパツケージ、本
例ではピングリツドパツケージ22を収容する複
数の段部を有する位置決め部23を設け、この位
置決め部23の底壁中央にはめつき液噴射用の窓
孔24を設け、この窓孔24の周囲はパツケージ
22を支持すると共にそのキヤビテイ部以外の部
分にめつき液が被着されないようにゴムその他の
材料よりなる弾性シール部材25を配設する。窓
孔24および弾性シール部材25の大きさは、パ
ツケージにめつきしたい範囲にあわせて決定す
る。例えば、パツケージ22のキヤビテイ部内だ
けをめつきする場合には、キヤビテイ部の大きさ
と同一寸法とし、またキヤビテイ部の外周のシー
ルリング部までめつきしたい場合にはシールリン
グ部の外径とほぼ同一の寸法とする。このめつき
液噴射用の窓孔24には、パツケージに向けて噴
射されためつき液の循環を円滑に行なうために、
例えば、支持プレート21のめつき液噴射ノズル
側の底面からテーパ(図示せず)を設けるのが好
適である。この支持プレート21の材質は、例え
ばFRP、若しくはセラミツク等の絶縁体とする。
この一方において、支持プレート21の窓孔2
4と対応する位置に、支持フレーム12の先端面
から押圧棒26を突出させて設け、その押圧棒2
6の両側に給電ばね27を配設する。この押圧棒
26には、その先端にゴム等の材料よりなるブツ
シユ28が螺合され、その基部にはフランジ29
が設けられて、支持フレーム12からの押圧棒2
6の抜け出しを防止している。さらに、支持フレ
ーム12の底壁とブツシユ28との間にSUS材
よりなるコイルばね30が外挿されており、この
コイルばね30と前記ブツシユ28とにより、弾
性的にしかも適切な圧力にてセラミツクパツケー
ジ22を押圧することができ、また押圧時には、
前記弾性シール部材25とブツシユ28とが共働
して、パツケージ22のずれを防止すべく作用す
る。上記押圧棒26の両側に配設された給電ばね
27は、第3図に示すように、絶縁板31および
ブスバー32を介して支持フレーム12に固着さ
れている。この給電ばね27はパツケージ22か
ら植立するプラグピン33に均一且つ垂直に当接
する平坦面34を有し、多数のプラグピンと電気
的接触が保たれるようにしている。この平坦面3
4は、プラグピン33と当接する際には、プラグ
ピン33と垂直に且つ広い範囲にわたつて接して
おり、また、給電バネ27の材質を軟らかな、
SUS材を使用しているため、プラグピン33の
曲がりを有効に防止することができる。給電ばね
27の材質としては、電気的導通と耐食性とを確
実にするためにSUS材を使用するのが望ましい
が、SUS材以外でも電気抵抗が小さく耐食性、
耐酸化性に優れた材質、例えばCu材あるいはBe
銅材に硬質Auめつきを施した材料でも良い。
パツケージ22には、外周側面に露出したキヤ
ビテイ内の全電極パターンの端部に共通電極を設
け、独立した各電極パターンを相互に導通させて
いる。この共通電極はめつき除去される。そのた
め、給電ばねがプラグピン33の少くとも1本以
上と接触すれば、パツケージ22の側面の共通電
極部を経由して、給電ばねとキヤビテイ内の全電
極パターンとの間に電気的導通のできる構造とな
つている。
また、給電ばねの平坦面34にスリツトを適宜
施すと電気的導通の信頼性を向上することができ
る。
以上のように構成しためつき処理装置により実
際にピングリツドパツケージのキヤビテイ部をめ
つきする実施例について第1図、第2図および第
3図により説明する。まず前処理完了後のピング
リツドパツケージ22を、そのめつきすべきキヤ
ビテイ部をめつき液噴射用の窓孔24に対向させ
て、支持プレート21の段部を有する位置決め部
23に嵌め込む。次に、めつき液噴射部11の支
持台の上端面から上方に突出する位置決めピン
(図示せず)に支持プレート21の位置決め孔3
5を嵌め合わせて、支持プレート21をめつき液
噴射部上に正確にセツトする。この状態におい
て、支持プレート21に載置される複数のパツケ
ージ22の中心部とめつき液噴射部内部の複数の
めつき液噴射ノズル(図示せず)の開口部とが同
軸上に配置されている。このようにセツトされた
複数のパツケージ22を押えるとともに給電する
ため、上部の空圧シリンダ13を作動させて、ガ
イドロツド15により支持フレーム12を降下さ
せ、この支持フレーム12に取り付けられた押え
ロツド26をパツケージ22の中央部に当接さ
せ、次に押えロツド26の収縮によりパツケージ
22の周端部のプラグピン33に給電ばね27を
当接させる。パツケージ22を押圧棒26が所定
の圧力で加圧する位置で、支持フレーム12の降
下を停止させる。この状態で、給電ばね27の負
電極とめつき液噴射ノズルの正電極とに通電し、
一方では支持プレート21の下方よりめつき液噴
射用の窓孔24を通して、例えば金めつき液をキ
ヤビテイ部へノズル噴射し、キヤビテイ部の導電
パターンに金めつきを施すことができる。
本発明のめつき処理装置を使用してめつきした
場合と、第5図に示す従来のめつき用治具を有す
るめつき処理装置を使用した場合のめつき厚を、
比較したところ従来例に比較して本発明ではめつ
き厚のばらつきが著しく減少した。また、上記実
施例においては、従来のようなパツケージの位置
決め用孔を加工する必要がなくなり、手間が省け
るという利点がある。
また、支持プレートは、第5図に示す従来の支
持プレートを、電源に接続しない状態で利用する
ことができる。さらに、第4図に示すように、支
持プレート21を、支持プレート本体とめつき液
噴射用の窓孔24を有するコマとに別け、パツケ
ージのキヤビテイ部の形状に対応させてそれと合
致する窓孔を有するコマに個々に交換可能にした
支持プレートを使用することもできる。
また実施例では、押圧部がセラミツクパツケー
ジを弾性シール部材に固着する押圧棒とプラグピ
ンに給電する給電ばねとに分離した部材を示した
が、この両者を一体的にした押圧部であつても差
し支えない。
本発明は上述した実施例にのみ限定されるもの
ではなく、幾多の変形、変更が可能である。
(発明の効果) 以上詳細に説明したところから明らかなように
本発明のめつき処理装置によれば、押圧部を、位
置決め部により固定されたセラミツクパツケージ
のプラグピンと均一に当接させたことにより、セ
ラミツクパツケージの導体パターンと給電ばねと
の電気的導通に対す信頼性が向上し、セラミツク
パツケージの所定部分たとえばキヤビテイ部に確
実にめつきを施すことができる。その結果、めつ
き厚不足やめつきのはみだしのめつき不良が、著
しく減少し品質,歩留が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のめつき処理装置の全体図を示
す正面図、第2図は本発明のめつき処理装置押圧
部、位置決め部および支持プレートを詳細に示す
部分拡大図、第3図は支持プレートのAA′断面
図、第4図は同じく押圧部の電極構造を示す部分
側面図、第5図は従来例を示す斜視図、第6図は
従来の側面に共通電極を設けたピングリツドパツ
ケージの一例を示す斜視図である。 11……めつき浴液噴射部、12……支持フレ
ーム、13……空圧シリンダ、14……フレー
ム、15……ガイドロツド、21……支持プレー
ト、22……ピングリツドパツケージ、23……
段部を有する位置決め部、24……窓孔、25…
…弾性シール部材、26……押圧棒、27……給
電ばね、28……ブツシユ、29……フランジ、
30……コイルばね、31……絶縁板、32……
ブスバー、33……プラグピン、34……平坦
面、35……位置決め孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 セラミツクパツケージの所定部分にめつき液
    を施すめつき液噴射部と、該めつき液噴射部の上
    方に設けられ、かつ、めつき液噴射用の窓孔を有
    する支持プレートと、前記セラミツクパツケージ
    を前記支持プレート上に固定する位置決め部と、
    前記セラミツクパツケージの複数のプラグピンと
    電気的に接触し、かつ、前記支持プレートと前記
    セラミツクパツケージとを気密に保持する押圧部
    とを備えたことを特徴とするめつき処理装置。 2 押圧部が押圧棒と給電ばねとからなる特許請
    求の範囲第1項記載のめつき処理装置。 3 支持プレートとセラミツクパツケージとの間
    に、弾性シール部材を配設した特許請求の範囲第
    1項または第2項記載のめつき処理装置。 4 位置決め部が、支持プレートの窓孔の周辺に
    設けられた段部である特許請求の範囲第1項乃至
    第3項の何れか一項記載のめつき処理装置。
JP28426286A 1986-12-01 1986-12-01 めつき処理装置 Granted JPS63140099A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28426286A JPS63140099A (ja) 1986-12-01 1986-12-01 めつき処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28426286A JPS63140099A (ja) 1986-12-01 1986-12-01 めつき処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63140099A JPS63140099A (ja) 1988-06-11
JPH0242912B2 true JPH0242912B2 (ja) 1990-09-26

Family

ID=17676248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28426286A Granted JPS63140099A (ja) 1986-12-01 1986-12-01 めつき処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63140099A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0005886D0 (en) * 2000-03-13 2000-05-03 Lowe John M Elector-plating apparatus and method
CN102953100B (zh) * 2012-11-19 2016-01-06 江苏高博智融科技有限公司 一种电镀压接模具

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63140099A (ja) 1988-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6887113B1 (en) Contact element for use in electroplating
US3926357A (en) Process for applying contacts
US5308645A (en) Method and apparatus for through hole substrate printing
JPS6023317Y2 (ja) 部分メツキ用電極
CN201212065Y (zh) 集成电路引线框架片式电镀夹具
GB2203451B (en) Method and apparatus for making the inner crowns of composite-layered crowns for restoring crowns
EP0107931B1 (en) Selective plating
JPH0242912B2 (ja)
JP2617848B2 (ja) 半導体ウエハの鍍金治具
MY122226A (en) Process for manufacturing semiconductor device
US6181057B1 (en) Electrode assembly, cathode device and plating apparatus including an insulating member covering an internal circumferential edge of a cathode member
CN219260245U (zh) 半导体电子元件局部平面电镀治具
JPS6348690Y2 (ja)
JPH0570986A (ja) 電解銅めつき法および電解銅めつき装置
CN100587124C (zh) 电子零件用电镀夹具以及电解电镀装置
US7722745B2 (en) Device for plating contacts in hermetic connector assemblies
JPS6348691Y2 (ja)
JPS6156299A (ja) 鍍金装置の給電装置
US4545864A (en) Selective plating
JPH052603Y2 (ja)
JPH0953198A (ja) 電解メッキ装置および方法
JPH0730687Y2 (ja) バンプめっき装置
JP2022106144A (ja) めっき治具
JPH02243800A (ja) リード端子の製造方法
KR20250134829A (ko) 전기도금용 지그