JPH0243130A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置Info
- Publication number
- JPH0243130A JPH0243130A JP63193270A JP19327088A JPH0243130A JP H0243130 A JPH0243130 A JP H0243130A JP 63193270 A JP63193270 A JP 63193270A JP 19327088 A JP19327088 A JP 19327088A JP H0243130 A JPH0243130 A JP H0243130A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding table
- actuator
- holding base
- silicon wafer
- chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 25
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 25
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 abstract 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 24
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Specific Conveyance Elements (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は搬送装置に関し、特に鏡面加工された薄板、例
えばシリコンウェハや石英フォトマスクなどの搬送に使
用されるものである。
えばシリコンウェハや石英フォトマスクなどの搬送に使
用されるものである。
従来、鏡面加工されたシリコンウェハや石英フォトマス
クなどは、鏡面をバキュームチャックで吸着して搬送し
ていた。しかし、バキュームチャックを用いた場合、チ
ャック面に付着しているごみやほこりによって鏡面が汚
れることがあった。
クなどは、鏡面をバキュームチャックで吸着して搬送し
ていた。しかし、バキュームチャックを用いた場合、チ
ャック面に付着しているごみやほこりによって鏡面が汚
れることがあった。
本発明は前述した問題点を解消するためになされたもの
であり、シリコンウェハや石英フォトマスクの鏡面を汚
すことのない搬送装置を提供することを目的とする。
であり、シリコンウェハや石英フォトマスクの鏡面を汚
すことのない搬送装置を提供することを目的とする。
本発明の搬送装置は、液体又は気体の噴出口を有する保
持台と、該保持台上に液体又は気体の噴出により浮揚し
た平板状の被搬送体の側面を保持して固定する機構と、
前記保持台を水平軸を中心として反転させることが可能
なアクチュエータとを具備したことを特徴とするもので
ある。
持台と、該保持台上に液体又は気体の噴出により浮揚し
た平板状の被搬送体の側面を保持して固定する機構と、
前記保持台を水平軸を中心として反転させることが可能
なアクチュエータとを具備したことを特徴とするもので
ある。
本発明の搬送装置では、被搬送体の鏡面に水又はエアを
噴出させて保持台上に被搬送体を浮揚させた状態で被搬
送体の側面を保持して固定した後、アクチュエータを作
動させることにより保持台を水平軸を中心として反転さ
せ、被搬送体を鏡面を上方に向けて他の処理装置上に栽
せることかできる。したがって、被搬送体の鏡面が保持
台に接触することがないので、保持台に付着しているご
みやほこりによって鏡面が汚れることはない。
噴出させて保持台上に被搬送体を浮揚させた状態で被搬
送体の側面を保持して固定した後、アクチュエータを作
動させることにより保持台を水平軸を中心として反転さ
せ、被搬送体を鏡面を上方に向けて他の処理装置上に栽
せることかできる。したがって、被搬送体の鏡面が保持
台に接触することがないので、保持台に付着しているご
みやほこりによって鏡面が汚れることはない。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例に係る搬送装置を一部断面で
示す側面図、第２図は同搬送装置の保持台を示す平面図
である。第１図及び第２図において、ロータリーアクチ
ュエータ１には保持台２が取付けられ、この保持台２の
チャック面３には多数の噴出口４が設けられ、保持台２
に取付けられた導入管５から供給された水又はエアが保
持台２の内部空間を通って噴出口４から噴出する。この
保持台４の一端側には円弧状の静止ストッパ６が設けら
れ、これに対向する他端側には板バネ７を介して円弧状
の可動ストッパ８が取付けられている。前記板バネ７の
近傍にはアクチュエータ９が設けられている。このアク
チュエータ９を図中右方向へ動作させると、その先端が
板バネ７の先端に当接して可動ストッパ８は保持台４の
外側へ向かうように移動する。一方、アクチュエータ９
を図中左方向へ動作させると、その先端が板バネ７の先
端から離れて可動ストッパ８は板バネ７の力により保持
台４の中心へ向かうように移動する。
示す側面図、第２図は同搬送装置の保持台を示す平面図
である。第１図及び第２図において、ロータリーアクチ
ュエータ１には保持台２が取付けられ、この保持台２の
チャック面３には多数の噴出口４が設けられ、保持台２
に取付けられた導入管５から供給された水又はエアが保
持台２の内部空間を通って噴出口４から噴出する。この
保持台４の一端側には円弧状の静止ストッパ６が設けら
れ、これに対向する他端側には板バネ７を介して円弧状
の可動ストッパ８が取付けられている。前記板バネ７の
近傍にはアクチュエータ９が設けられている。このアク
チュエータ９を図中右方向へ動作させると、その先端が
板バネ７の先端に当接して可動ストッパ８は保持台４の
外側へ向かうように移動する。一方、アクチュエータ９
を図中左方向へ動作させると、その先端が板バネ７の先
端から離れて可動ストッパ８は板バネ７の力により保持
台４の中心へ向かうように移動する。
この搬送装置を用いたシリコンウェハの搬送方法につい
て第３図（ａ）〜（ｄ）を参照して説明する。
て第３図（ａ）〜（ｄ）を参照して説明する。
まず、バキュームチャック２１に吸着されて鏡面加工が
施されたシリコンウェハ２２を、その鏡面を下方に向け
て保持台２の上方からチャック面３に近づけ、チャック
面３から０．１〜５０■（好ましくは０．５〜１０ｍｍ
）の距離を隔てて停止させる（第３図（ａ）図示）。
施されたシリコンウェハ２２を、その鏡面を下方に向け
て保持台２の上方からチャック面３に近づけ、チャック
面３から０．１〜５０■（好ましくは０．５〜１０ｍｍ
）の距離を隔てて停止させる（第３図（ａ）図示）。
次に、保持台２のチャック面３の噴出口４から水又はエ
アを噴出させた後、バキュームチャック１１を解除して
シリコンウェハ２２をチャック面３上に浮揚させる。こ
の状態でアクチュエータ９を図中左方向に動作させ、そ
の先端を板バネ７先端から離して可動ストッパ８を保持
台２の中心方向へ移動させ、静止ストッパ６及び可動ス
トッパ８によりシリコンウェハ２２の側面を保持してチ
ャックする（同図（ｂ）図示）。
アを噴出させた後、バキュームチャック１１を解除して
シリコンウェハ２２をチャック面３上に浮揚させる。こ
の状態でアクチュエータ９を図中左方向に動作させ、そ
の先端を板バネ７先端から離して可動ストッパ８を保持
台２の中心方向へ移動させ、静止ストッパ６及び可動ス
トッパ８によりシリコンウェハ２２の側面を保持してチ
ャックする（同図（ｂ）図示）。
つづいて、ロータリーアクチュエータ１を動作させ、保
持台２を水平軸を中心として１８０°反転させてシリコ
ンウェハ２２の鏡面を上方に向ける。
持台２を水平軸を中心として１８０°反転させてシリコ
ンウェハ２２の鏡面を上方に向ける。
これと同時にアクチュエータ９を水平軸を中心として１
８０°反転させる（同図（ｃ）図示）。
８０°反転させる（同図（ｃ）図示）。
更に、アクチュエータ９を図中右方向に動作させ、その
先端を仮バネ７先端に当接させて可動ストッパ８を保持
台２の外側方向へ移動させ、保持台２のチャック面３の
噴出口４から噴出する水又はエアの作用により、シリコ
ンウェハ２２を他の処理装置２３上に鏡面を上方に向け
て載置させる（同図（ｄ）図示）。
先端を仮バネ７先端に当接させて可動ストッパ８を保持
台２の外側方向へ移動させ、保持台２のチャック面３の
噴出口４から噴出する水又はエアの作用により、シリコ
ンウェハ２２を他の処理装置２３上に鏡面を上方に向け
て載置させる（同図（ｄ）図示）。
このような搬送装置によれば、シリコンウェハ２２の鏡
面が保持台２に接触することがないので、保持台２に付
着しているごみやほこりによって鏡面が汚れることはな
い。
面が保持台２に接触することがないので、保持台２に付
着しているごみやほこりによって鏡面が汚れることはな
い。
なお、本発明に係る搬送装置については、例えば第４図
に示す変型例も考えられる。第４図において、ロータリ
ーアクチュエータ１には保持台２が取付けられ、この保
持台２のチャック面３には多数の噴出口４が設けられ、
保持台２に取付けられた導入管５から供給された水又は
エアが保持台２の内部空間を通って噴出口４から噴出す
る。この保持台２にはチャック面３上に浮揚するシリコ
ンウェハ２２などの被搬送体の側面に対応する位置に水
又はエアの吸収・噴出管１０が取付けられている。また
、ロータリーアクチュエータ１には回転軸１１を介して
保持台２に対抗するように第２の保持台１２が取付けら
れ、この保持台１２のチャック面１３には多数の噴出口
１４が設けられ、保持台１２に取付けられた導入管１５
から供給された水又はエアが保持台１２の内部空間を通
って噴出口１４から噴出する。
に示す変型例も考えられる。第４図において、ロータリ
ーアクチュエータ１には保持台２が取付けられ、この保
持台２のチャック面３には多数の噴出口４が設けられ、
保持台２に取付けられた導入管５から供給された水又は
エアが保持台２の内部空間を通って噴出口４から噴出す
る。この保持台２にはチャック面３上に浮揚するシリコ
ンウェハ２２などの被搬送体の側面に対応する位置に水
又はエアの吸収・噴出管１０が取付けられている。また
、ロータリーアクチュエータ１には回転軸１１を介して
保持台２に対抗するように第２の保持台１２が取付けら
れ、この保持台１２のチャック面１３には多数の噴出口
１４が設けられ、保持台１２に取付けられた導入管１５
から供給された水又はエアが保持台１２の内部空間を通
って噴出口１４から噴出する。
第４図の搬送装置を用いたシリコンウェハの搬送方法に
ついて説明する。まず、第３図（ａ）と同様に、鏡面加
工が施されたシリコンウェハ２２を、その鏡面を下方に
向けて保持台２の上方からチャック面３に近づけ、チャ
ック面３から数ｌｌ１ｍの距離を隔てて停止させる。次
に、保持台２のチャック面３の噴出口４から水又はエア
を噴出させてシリコンウェハ２２をチャック面３上に浮
揚させる。つづいて、回転軸１１を回転させて第２の保
持台１２をシリコンウェハ２２の上方に配置し、第２の
保持台１２のチャック面１３の噴出口１４から水又はエ
アを噴出させる。この結果、シリコンウェハ２２は保持
台２と第２の保持台１２との中間の吸収・噴出管１０の
高さに対応する位置に浮揚する。つづいて、吸収・噴出
管１０から水又はエアを吸収すると、吸収・噴出管ＩＯ
によってシリコンウェハ２２の側面が保持される。つづ
いて、ロータリーアクチュエータ１を動作させ、保持台
２及び第２の保持台１２を水平軸を中心として１８０°
反転させてシリコンウエノ＼２２の鏡面を上方に向ける
。更に、回転軸１１を回転させて第２の保持台１２をシ
リコンウェハ２２の下方から移動させ、シリコンウェハ
２２を他の処理装置の上方に搬送する。つづいて、吸収
・噴出管１０から水又はエアを噴出すると、シリコンウ
エノ１２２は吸収・噴出管ｌＯの高さに対応する位置に
浮揚し、保持台２のチャック面３の噴出口４から噴出す
る水又はエアの作用により、シリコンウェハ２２は他の
処理装置上に鏡面を上方に向けて載置される。
ついて説明する。まず、第３図（ａ）と同様に、鏡面加
工が施されたシリコンウェハ２２を、その鏡面を下方に
向けて保持台２の上方からチャック面３に近づけ、チャ
ック面３から数ｌｌ１ｍの距離を隔てて停止させる。次
に、保持台２のチャック面３の噴出口４から水又はエア
を噴出させてシリコンウェハ２２をチャック面３上に浮
揚させる。つづいて、回転軸１１を回転させて第２の保
持台１２をシリコンウェハ２２の上方に配置し、第２の
保持台１２のチャック面１３の噴出口１４から水又はエ
アを噴出させる。この結果、シリコンウェハ２２は保持
台２と第２の保持台１２との中間の吸収・噴出管１０の
高さに対応する位置に浮揚する。つづいて、吸収・噴出
管１０から水又はエアを吸収すると、吸収・噴出管ＩＯ
によってシリコンウェハ２２の側面が保持される。つづ
いて、ロータリーアクチュエータ１を動作させ、保持台
２及び第２の保持台１２を水平軸を中心として１８０°
反転させてシリコンウエノ＼２２の鏡面を上方に向ける
。更に、回転軸１１を回転させて第２の保持台１２をシ
リコンウェハ２２の下方から移動させ、シリコンウェハ
２２を他の処理装置の上方に搬送する。つづいて、吸収
・噴出管１０から水又はエアを噴出すると、シリコンウ
エノ１２２は吸収・噴出管ｌＯの高さに対応する位置に
浮揚し、保持台２のチャック面３の噴出口４から噴出す
る水又はエアの作用により、シリコンウェハ２２は他の
処理装置上に鏡面を上方に向けて載置される。
このような搬送装置でも、前述した実施例の場合と同様
の効果を得ることができる。
の効果を得ることができる。
以上詳述したように本発明の搬送装置によれば、シリコ
ンウェハや石英フォトマスクなどの被搬送体の鏡面を汚
すことがなく、汚れによる品質劣化を防止することがで
きる。
ンウェハや石英フォトマスクなどの被搬送体の鏡面を汚
すことがなく、汚れによる品質劣化を防止することがで
きる。
第１図は本発明の実施例における搬送装置を一部断面で
示す側面図、第２図は同搬送装置の保持台を示す平面図
、第３図（ａ）〜（ｄ）は同搬送装置によるシリコンウ
ェハの搬送方法を示す説明図、第４図は本発明の他の実
施例における搬送装置を一部断面で示す側面図である。 １・・・ロータリーアクチュエータ、２・・・保持台、
３・・・チャック面、４・・・噴出口、５・・・導入管
、６・・・静止ストッパ、７・・・板バネ、８・・・可
動ストッパ、９・・・アクチュエータ、ＩＯ・・・吸収
・噴出管、１１・・・回転軸、１２・・・第２の保持台
、１３・・・チャック面、１４・・・噴出口、１５・・
・導入管、２１・・・バキュームチャック、２２・・・
シリコンウェハ、２３・・・処理装置。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 箒１ 男 ム 第２図 第３図 第 図
示す側面図、第２図は同搬送装置の保持台を示す平面図
、第３図（ａ）〜（ｄ）は同搬送装置によるシリコンウ
ェハの搬送方法を示す説明図、第４図は本発明の他の実
施例における搬送装置を一部断面で示す側面図である。 １・・・ロータリーアクチュエータ、２・・・保持台、
３・・・チャック面、４・・・噴出口、５・・・導入管
、６・・・静止ストッパ、７・・・板バネ、８・・・可
動ストッパ、９・・・アクチュエータ、ＩＯ・・・吸収
・噴出管、１１・・・回転軸、１２・・・第２の保持台
、１３・・・チャック面、１４・・・噴出口、１５・・
・導入管、２１・・・バキュームチャック、２２・・・
シリコンウェハ、２３・・・処理装置。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 箒１ 男 ム 第２図 第３図 第 図
Claims (1)
- 液体又は気体の噴出口を有する保持台と、該保持台上に
液体又は気体の噴出により浮揚した平板状の被搬送体の
側面を保持して固定する機構と、前記保持台を水平軸を
中心として反転させることが可能なアクチュエータとを
具備したことを特徴とする搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63193270A JPH0243130A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63193270A JPH0243130A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0243130A true JPH0243130A (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=16305146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63193270A Pending JPH0243130A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0243130A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0469464U (ja) * | 1990-10-22 | 1992-06-19 | ||
| KR100942302B1 (ko) * | 2007-11-02 | 2010-02-16 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 스탬프 이송 장치, 스탬프 공정 설비 및 이를 사용한스탬프 이송 방법 |
| WO2024087773A1 (en) * | 2022-10-27 | 2024-05-02 | Tcl Zhonghuan Renewable Energy Technology Co., Ltd. | Three-side conveyor equipment for silicon wafers |
-
1988
- 1988-08-02 JP JP63193270A patent/JPH0243130A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0469464U (ja) * | 1990-10-22 | 1992-06-19 | ||
| KR100942302B1 (ko) * | 2007-11-02 | 2010-02-16 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 스탬프 이송 장치, 스탬프 공정 설비 및 이를 사용한스탬프 이송 방법 |
| WO2024087773A1 (en) * | 2022-10-27 | 2024-05-02 | Tcl Zhonghuan Renewable Energy Technology Co., Ltd. | Three-side conveyor equipment for silicon wafers |
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