JPH0243230A - Composite sheets and laminates - Google Patents
Composite sheets and laminatesInfo
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- JPH0243230A JPH0243230A JP1109877A JP10987789A JPH0243230A JP H0243230 A JPH0243230 A JP H0243230A JP 1109877 A JP1109877 A JP 1109877A JP 10987789 A JP10987789 A JP 10987789A JP H0243230 A JPH0243230 A JP H0243230A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
(産丈−にの利用分野)
本発明はフッ素O(脂基材を用いた複合シート及び積層
体に関し、該複合シート及び積層体は例えば宇宙衛星放
送受信アンテナ回路板、宇宙衛星放送受信コンバーター
回路板、無線通ff1fi器用回路板、電気測定機器用
回路板、高速コンピューター用回路板、その他高周波応
用機器用回路板などとして用いられる高周波用積層板等
に有用である。Detailed Description of the Invention (Field of Application) The present invention relates to a composite sheet and laminate using a fluorine O (fatty base material), and the composite sheet and laminate can be used for, for example, a space satellite broadcasting antenna circuit board. It is useful for high-frequency laminated boards used as space satellite broadcast receiving converter circuit boards, wireless communication FF1FI circuit boards, electrical measurement equipment circuit boards, high-speed computer circuit boards, and other high-frequency application equipment circuit boards.
(従来の技術)
電子機器などに用いられている従来のプリント配線基板
としては例えばプラスエポキシ、紙7エ/−ル、プラス
ポリイミド、プラスぼりテトラフルオロエチレン等のり
ノット板、ポリイミドやポリエステル等のフレキシブル
板が知られている。(Prior Art) Conventional printed wiring boards used in electronic devices include, for example, glue knot boards made of plus epoxy, paper 7-el, plus polyimide, plus-bonded tetrafluoroethylene, and flexible boards made of polyimide, polyester, etc. The board is known.
これらのうちプラスエポキシ、紙フエノールは、従来、
−殻内に使用されているが誘電率、誘電正接が大きく、
そのため信号伝播遅延又は高周波の伝送損失が大きく、
高速化を高度に要求されるコンピューターや高周波を用
いる回路に採用し難い。Among these, plus epoxy and paper phenol are conventionally
-It is used in the shell, but the dielectric constant and dielectric loss tangent are large.
Therefore, signal propagation delay or high frequency transmission loss is large,
It is difficult to apply it to computers that require high speed and circuits that use high frequencies.
プラスポリイミドは耐熱性が高く寸法安定性もよく多層
の積層板等に用いられるが、誘電率、誘電正接は大きく
やはり高周波用として満足するものではない。プラスポ
リテトラフルオロエチレンは低誘電率、低yJ電正接で
あるが#!箔等との接着性、厚み方向の熱膨張率が不安
定であり、又、加工性に難、αがある等の問題点がある
。更にフレキシブル板は部品間の配線が容易であり、立
体配線が容易である等の特徴があるが、やはり誘電率、
誘電正接は太き(高周波回路用としては使用し難い。Plus polyimide has high heat resistance and good dimensional stability and is used for multilayer laminates, etc., but its dielectric constant and dielectric loss tangent are large and it is not satisfactory for high frequency applications. Plus polytetrafluoroethylene has a low dielectric constant and low yJ electric loss tangent, but #! There are other problems, such as poor adhesion to foils, unstable coefficient of thermal expansion in the thickness direction, and difficulty in processability. Furthermore, flexible boards have features such as easy wiring between parts and easy three-dimensional wiring, but the dielectric constant,
The dielectric loss tangent is large (difficult to use for high frequency circuits).
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は誘電率、誘電正接が小さく高周波特性に
浸れ、更に耐熱性、寸法安定性に優れた高周波用複合シ
ート及び積層体を提供することにある。(Problems to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to provide a composite sheet and laminate for high frequencies that have a small dielectric constant and dielectric loss tangent, are immersed in high frequency characteristics, and have excellent heat resistance and dimensional stability.
(課題を解決するための手段)
本発明はフッ素樹脂基材に含フッ素ポリイミドを含浸さ
せたことを待漬とする複合シート及びこれに金属層を形
成したことを特徴とする積層体に係る。(Means for Solving the Problems) The present invention relates to a composite sheet in which a fluororesin base material is impregnated with fluorine-containing polyimide, and a laminate characterized in that a metal layer is formed on the composite sheet.
本発明においてフッ索(刺、脂基材としては各種のもの
を使用でき、例えばポリテトラフルオロエチレン、ポリ
クロロトリアルオロエチレン、テトラフルオロエチレン
へキサフルオaプaピレン共重+体、f)ラフルオロエ
チレンパーフルオロビニルエーテル共重合体等のフッ素
樹脂の多孔体、繊維布、不織布等を挙げることができる
。ここで用いられるフッ素樹脂はそれ自体誘電率、誘電
正接が小さく、例えばポリテトラプルオロエチレンの誘
電率は2.05、誘電正接は0.00002(I M
Hz)である。またこのものの多孔体は空孔があるため
更にI電率は小さく、空孔率が30〜90%のもので誘
電率は1.8〜1.1である。In the present invention, various materials can be used as the fluorocarbon resin base material, such as polytetrafluoroethylene, polychlorotrialoethylene, tetrafluoroethylene hexafluoro-a-pyrene copolymer, and f) lafluoroethylene. Examples include porous bodies of fluororesins such as ethylene perfluorovinyl ether copolymers, fiber cloths, and nonwoven fabrics. The fluororesin used here itself has a small dielectric constant and dielectric loss tangent. For example, polytetrafluoroethylene has a dielectric constant of 2.05 and a dielectric loss tangent of 0.00002 (I M
Hz). Further, since this porous body has pores, the I electric constant is further small, and the porosity is 30 to 90%, and the dielectric constant is 1.8 to 1.1.
本発明の含フッ素ポリイミドには一般式〔式中、R’は
芳香族テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基
を除いた残基、R2は芳香族ノアミンから2個のアミノ
基を除いた残基であって、R1及びR2の少なくとも一
方は、主鎖にC−
Rr : Cl−1*のパーフルオロアルキル基Rr’
: C1−2+1/)z< −7% D 7 ルキル基
1)二〇又は1〜3の整数
q:0又は1〜3の整数
「:0又は1
・〕二〇又は1〜5の整数
1:0又は1〜5の整数
Y :Xと同意義で・あるか又は水素原子、7エ二ル基
、置換フェニル基(置換基例:C7〜5のアルキル基)
、01〜.のアルキルi、C,〜、のハロアルキル基(
ハロゲンはフッ素原子、塩素原子又は臭素原
子)
で示される基を含む。nは1〜2.000の整数を示す
。The fluorine-containing polyimide of the present invention has the general formula [wherein R' is a residue obtained by removing two acid anhydride groups from an aromatic tetracarboxylic dianhydride, and R2 is a residue obtained by removing two acid anhydride groups from an aromatic noamine. At least one of R1 and R2 has a perfluoroalkyl group Rr' of C-Rr: Cl-1* in the main chain.
: C1-2+1/)z<-7% D 7 Alkyl group 1) 20 or an integer from 1 to 3 q: 0 or an integer from 1 to 3 ": 0 or 1 ・] 20 or an integer from 1 to 5 1 : 0 or an integer of 1 to 5 Y : Same definition as X, or hydrogen atom, 7-enyl group, substituted phenyl group (example of substituent: C7-5 alkyl group)
, 01~. Alkyl i, C, ~, haloalkyl group (
Halogen includes a group represented by a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. n represents an integer of 1 to 2.000.
〕で表わされるものが包含される。] is included.
上記においてXの好ましい例はCF、、CH2Cl+2
[’基、Yの好ましい例はCF、基、水素原子、C
〜6のアルキル基、
2.のハロアルキル基
又、
その他のR
の具体例として
である。In the above, preferable examples of X are CF, CH2Cl+2
[' Group, preferred examples of Y are CF, group, hydrogen atom, C-6 alkyl group, 2. Specific examples of the haloalkyl group and other R are as follows.
上記R
の具体例としては例えば
X及びY:
A及[7日:
前記と同意義
同−又は相異してそれぞ代
R3:
R4:
0− −C−
「1=1〜5. 5o2
(CI□)n −
S−
N−
C1〜10のフルキル基、アリール基(例:フェニル基
、ナフチル基)、置換7リール基(置換基例:C1〜、
のアルキル基)
1(”の几本例としては例んば
1)−C−1ミ
X&びY:前記と同、a、義
り及び]二二同−又は相異してそれぞれ((ib)
11]1
(R3は前記と同意義、Zは同−又は相異して水素原T
−、CI’SRr又1!NO=、wは] −4の9数)
又、その他のR2の具体例として
〔式中、R1は前記と同賽義。〕で示される芳香族テト
ラカルボン酸二無水物と一般式
%式%(3)
〔式中、1で2は111j記と同意義。〕で示される芳
香族ノアミンを反応させて、−最大
%式%
Z及びlは前記と同意義)等を挙げる
ことができる。Specific examples of the above R include, for example, CI□) n-S- N- C1-10 furkyl group, aryl group (e.g. phenyl group, naphthyl group), substituted 7-aryl group (substituent example: C1-,
(alkyl group) 1 (Examples of 1) -C-1, ) 11]1 (R3 has the same meaning as above, Z is the same or different hydrogen atom T
-, CI'SRr again 1! NO=, w is the 9th number of -4)
Further, as other specific examples of R2 [wherein, R1 has the same meaning as above]. ] Aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula % formula % (3) [wherein 1 and 2 have the same meanings as in Section 111j. ] can be reacted with the aromatic noamine represented by -maximum % formula % (Z and l are the same as above), etc.
本発明のポリイミ
ドは一般式
〔式中、Fじ及び1(2は111j記と同斉義、■は1
〜2.0+10、好ましくは1〜I 、 000の整数
を示す。〕ぐ表わされるポリアミド酸を生成させ、次い
でこのポリアミド酸をポリイミドに転fヒすることによ
って得ることができる。The polyimide of the present invention has the general formula [wherein F and 1 (2 has the same meaning as in 111j,
It represents an integer of ~2.0+10, preferably 1~I,000. It can be obtained by producing a polyamic acid represented by the following formula and then converting this polyamic acid into polyimide.
上記−最大(2)の芳香族テトラカルボン酸二無水物の
うヘ−(X+C(Yl−基を含む化合物は例えばXC0
Y ’ (5)(X及びYは前記と
同意a)で表わされる化合物と0−キシレンをルイス酸
の存在下に反応させ得られた式
のようなグリニヤール反応によって容易に得ることがで
きる。Compounds containing the above-mentioned maximum (2) aromatic tetracarboxylic dianhydride (X+C (Yl- group are, for example, XC0
It can be easily obtained by a Grignard reaction as shown in the formula obtained by reacting the compound represented by Y' (5) (X and Y are the same as above a) with 0-xylene in the presence of a Lewis acid.
(2) CF、C00CH。(2) CF, C00CH.
で示される化合物を酸化、脱水することによって合成す
ることができる。It can be synthesized by oxidizing and dehydrating the compound shown in
一般式(5)で示される化合物として、例えば、Cm
F l 7 CH□CH2COCF。Examples of the compound represented by general formula (5) include Cm
F l 7 CH□CH2COCF.
C、F 70 C(CF 3 ) F CH2CH2C
OCF −C,F、C)(2CH,C0CF。C, F 70 C (CF 3 ) F CH2CH2C
OCF-C,F,C) (2CH,C0CF.
c、F、、Cl12CI(zC)011C,F、□C1
12C112COC11,C112CF2CF2(OC
FICF2CF2)1F(n=1〜5)
H(CF2CF2)3CH2CHICOCF。c,F,,Cl12CI(zC)011C,F,□C1
12C112COC11, C112CF2CF2 (OC
FICF2CF2)1F (n=1-5) H(CF2CF2)3CH2CHICOCF.
+1(CF2CF2 LCII□Cl12COC1I□
CIl。C11F、 、等が挙げられる。+1(CF2CF2 LCII□Cl12COC1I□
CIl. Examples include C11F, , and the like.
前記−最大(5)で示される化合物は、例えば次〔式中
、Rr、RrZ III Ql rH’;及び[は前記
と同意義。〕
前記−最大(5)で示される化合物1当量に対して0−
キシレンを2当喰以上反応させる。ルイス酸としては、
フッ化水素、塩化アルミニウム、塩化鉄(I[l)、塩
化亜鉛、三フッ化ホウ素、H8bPいIIA5F6、H
PF6.HBF、等を例示することができ、1、Yにフ
ッ化水素が好ましい。ルイス酸の使用礒は、萌記一般式
(5)で示される化合物の15〜100倍モル、好まし
くは20〜50倍モルである。The compound represented by maximum (5) above is, for example, the following [wherein Rr, RrZ III Ql rH'; and [ have the same meaning as above. ] 0- per equivalent of the compound represented by maximum (5) above.
React two or more equivalents of xylene. As a Lewis acid,
Hydrogen fluoride, aluminum chloride, iron chloride (I[l), zinc chloride, boron trifluoride, H8bPIIA5F6, H
PF6. Examples include HBF, etc., and hydrogen fluoride is preferable for 1 and Y. The amount of Lewis acid used is 15 to 100 times, preferably 20 to 50 times, the amount of the compound represented by the general formula (5).
反応の実施にあたっては78媒の使用が好ましく、ツメ
チルホルムアミド
スホルアミド(HMPA)、ツメチルアセトアミド(D
MAe)、N−メチルピロリドン、1.1.2.2,−
テ)フクロロー1.2ーノフルオロエタン、ツメチルス
ルホキシド(r)MSO)、テトラヒドロ7ラン(TH
F)等を使用することができる.尚、ルイス酸として使
用するフッ化水素は溶媒としてもIe用rることができ
る。In carrying out the reaction, it is preferable to use a 78 medium, such as trimethylformamide sphoramide (HMPA), trimethylacetamide (D
MAe), N-methylpyrrolidone, 1.1.2.2,-
Te) Fuchloro1.2-fluoroethane, trimethyl sulfoxide (r) MSO), tetrahydro-7rane (TH
F) etc. can be used. Note that the hydrogen fluoride used as the Lewis acid can also be used as a solvent for Ie.
反応温度は、通常50〜200’C、好ましくは70〜
150°Cである。圧力は通常5〜20kg/c輸2、
好ましくは7〜15に6/cI112である。反応時間
は反応温度等により変化しうるが、通常1〜24時間の
範囲である。The reaction temperature is usually 50-200'C, preferably 70-200'C.
The temperature is 150°C. The pressure is usually 5 to 20 kg/c2,
Preferably it is 7-15 to 6/cI112. The reaction time may vary depending on the reaction temperature, etc., but is usually in the range of 1 to 24 hours.
反応生成物は、通常のH法で回収することができ、例え
ば、反応生成物をトリクロロトリプルオロエタンやクロ
ロホルム等で抽出し、この抽出液から溶媒を留ノSする
ことによって回収できる。The reaction product can be recovered by the usual H method, for example, by extracting the reaction product with trichlorotrioleoethane, chloroform, etc., and removing the solvent from the extract.
−4二記で得られた一般式(6)の化合物の酸化は通常
酸化剤の使用によって行われ、好ましい酸化剤としては
、FI4酸、亜硝酸、クロム酸、過マン〃ン酸、塩素N
l??を例示することができるにの酸化反応は、140
〜200℃、好ましくは170〜190℃で攪拌しなが
ら行う。反応時間は、通常0.5〜10時間、好ましく
は2〜4時間である。Oxidation of the compound of general formula (6) obtained in Section-42 is usually carried out by using an oxidizing agent, and preferred oxidizing agents include FI4 acid, nitrous acid, chromic acid, permantic acid, chlorine N
l? ? An example of the oxidation reaction is 140
It is carried out at ~200°C, preferably 170-190°C, with stirring. The reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 2 to 4 hours.
一1〕記酸化により得られた式
で示される化合物の脱水は、減圧下又は窒素kic流下
において、100〜2C)0°C、好ましくは140〜
180°Cに加熱rる:とによって行われる。減圧する
際の圧力は、10〜200+6+*I(g,好ましくは
20〜100+am II gである。又、脱水は溶媒
を使用して行うことも可能であり)、前記化合物(7)
を溶媒に溶解して、使用した溶媒の沸点に加熱すること
によって行われる。溶媒としては、例えば、キシレン、
クロロベンゼン、トルエン、11−オクタン、1,1.
1.2−テトラクロロエタン、1,1,2.2−テトラ
クロロエタン等を挙げることができる。Dehydration of the compound represented by the formula obtained by the oxidation is carried out at 100 to 2) 0°C, preferably 140 to 0°C, under reduced pressure or under a nitrogen gas flow.
This is done by heating to 180°C. The pressure during depressurization is 10 to 200 + 6 + * I (g, preferably 20 to 100 + am II g. Also, dehydration can also be carried out using a solvent), the above compound (7)
It is carried out by dissolving in a solvent and heating it to the boiling point of the solvent used. Examples of solvents include xylene,
Chlorobenzene, toluene, 11-octane, 1,1.
Examples include 1,2-tetrachloroethane and 1,1,2,2-tetrachloroethane.
上記−(X)C(Y)−基を含む芳香族テトラカルボン
酸二無水物の代表例として例えば1.1−ビス(3,4
−ノカルボキシフェニル)−1−フェニル−2,2,2
−Fリフルオロエタン、2,2−ビス(3,4−ノカル
ボキシフェニル)−へキサフルオロプロパン二無水物、
2.2−ビス(3,4−ノカルポキシフェニル)−1,
3−フクロロー1.1,3.3−テトラフルオロプロパ
ンニ無水物、2,2−ビス(3,4−)カルボキシフェ
ニル)−1−クロロ−1,1,3,3,3−ベンタフル
オロプロパンニ無水物、或いは式
で表わされる化合物を挙げることができる。A representative example of the aromatic tetracarboxylic dianhydride containing the -(X)C(Y)- group is, for example, 1,1-bis(3,4
-nocarboxyphenyl)-1-phenyl-2,2,2
-F-lifluoroethane, 2,2-bis(3,4-nocarboxyphenyl)-hexafluoropropane dianhydride,
2.2-bis(3,4-nocarpoxyphenyl)-1,
3-fuchloro-1.1,3.3-tetrafluoropropane dianhydride, 2,2-bis(3,4-)carboxyphenyl)-1-chloro-1,1,3,3,3-bentafluoropropane Examples include dianhydrides and compounds represented by the formula.
−最大(3)の芳香族ノアミンのうち−(X )C(Y
)−基を含む化合物は例えば上記−最大(5)の化合物
とトルエンを反応させて得られる式で表わされる化合物
を酸1ヒして式
で表わされるノカルボン酸と7ノ化水素酸を強酸存在下
に反応させることによって合成することかて゛きる。こ
こで化合物(8)及び化合物(9)の合成は前記0−キ
シレンを用いた場合と同様に行うことかて゛きる。-Among the maximum (3) aromatic noamines-(X)C(Y
) - Group-containing compound is, for example, a compound represented by the formula obtained by reacting the above-mentioned compound (5) with toluene, and then a nocarboxylic acid represented by the formula and a heptanohydrohydric acid in the presence of a strong acid. It can be synthesized by the following reaction. Here, compound (8) and compound (9) can be synthesized in the same manner as in the case using 0-xylene.
ここで、7ノ化水素酸の使用量は、前記−最大(9)で
示される化合物1モルに対して、1〜2モルが好ましい
。強酸としては、硫酸、塩酸、硝酸等を使用することが
できる。その使用量は曲記−般式(9)で示される化合
物に対して20〜50当量である。反応は40〜60°
C1好ましくは50〜60°C″C撹拌しながら行う。Here, the amount of heptanohydric acid used is preferably 1 to 2 mol per 1 mol of the compound represented by maximum (9) above. As the strong acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, etc. can be used. The amount used is 20 to 50 equivalents relative to the compound represented by general formula (9). Reaction is 40-60°
C1 Preferably carried out at 50-60°C'' while stirring.
反応時間は通常1〜10時間、好ましくは2〜4時間で
ある。反応は溶媒の存在下で行うことが好ましく、溶媒
としてはクロロホルム等を使用することができる。The reaction time is usually 1 to 10 hours, preferably 2 to 4 hours. The reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, and chloroform or the like can be used as the solvent.
ト記−(X)C(Y)−基を含む芳香族ノアミンの代表
例として例えば、1.1−ビス(4−7ミ/フエニル)
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン、2
.2−ビス(4−7ミノフエニル)−ヘキサフルオロプ
ロパン、2.2−ビス(4−7ミノフエニル)−I、:
l−フクロロー1.1,1.:t、−テトラフルオロフ
0パン、2,2−ビス(4−7ミノフエニル)−1=ク
ロロ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロ70パン、
或いは式
%式%
で表わされる化合物を挙げる、ことができる。Representative examples of aromatic noamines containing a -(X)C(Y)- group include 1,1-bis(4-7mi/phenyl)
-1-phenyl-2,2,2-)lifluoroethane, 2
.. 2-bis(4-7minophenyl)-hexafluoropropane, 2.2-bis(4-7minophenyl)-I,:
l-fucrolol 1.1,1. :t, -tetrafluorophane 0pan, 2,2-bis(4-7minophenyl)-1=chloro-1,1,3,3,3-pentafluoro 70pan,
Alternatively, compounds represented by the formula % can be mentioned.
本発明においては前記式(G、)で示される基を含むη
h枚テトラカルボン酸二無水物及び式(G2)で示され
る基を含む″J′f九挨ノアミン以外に池の芳香族テト
ラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンを使用するこ
とができるが、勿論芳香族テトラカルボン酸二無水物及
び芳香族ジアミンの少なくとも一方にはフッ素を含有す
るような組合せを選択する。In the present invention, η containing a group represented by the above formula (G,)
In addition to the ``J′f amine containing h-tetracarboxylic dianhydride and the group represented by formula (G2), aromatic tetracarboxylic dianhydrides and aromatic diamines can be used, Of course, a combination is selected in which at least one of the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine contains fluorine.
使用することができる他の芳香族テトラカルボン酸二無
水物を具体的に例示すると、ピロメリット酸二無水物、
2,3,6.7−す7タレンテトラカルボン酸二無水物
、3.4.:1’、4’−ジフェニルテトラカルボン酸
二無水物、1,2,5.8−す7タレンテトラカルボン
酸二無水物、2.:1.2’、3’−ジフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、2.3.3’、4’−7フエニル
テトラカルボン酸二無水物、2.2−ビス(3t4−ジ
カルボキシフェニル)プロパンニ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、3,4.
9.10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(
3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ナ
フタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物
、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロ
パンニ無水物、1.l−ビス(2,3−ジカルボキシフ
ェニル)エタン二無水物、1.1−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エタン二無水物、1.1−ビス(:
1.4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンニS水物、ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)7タンニ無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)チオエーテルニ
無水物、3,4.3’4’、−ベンゾフェノンテトラカ
ルポン酸二無水物、ビス(3,4−)カルボキシフェニ
ル)ジメチルシランニ無水物、ビス(3,4−)カルボ
キシフェニル)ノエチルシランニ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)ノフェニルシランニ無水物等
を挙げることができる。Specific examples of other aromatic tetracarboxylic dianhydrides that can be used include pyromellitic dianhydride,
2,3,6.7-su7talentetracarboxylic dianhydride, 3.4. :1',4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5.8-7talentetracarboxylic dianhydride, 2. :1.2',3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.3.3',4'-7 phenyltetracarboxylic dianhydride, 2.2-bis(3t4-dicarboxyphenyl)propani Anhydride, bis(3,4
-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, 3,4.
9.10-Perylenetetracarboxylic dianhydride, bis(
3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propanihydride, 1. 1-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1.1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1.1-bis(:
1.4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)7tanni anhydride,
Bis(3,4-dicarboxyphenyl)thioether dianhydride, 3,4.3'4',-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)dimethylsilanhydride, Bis(3,4-)carboxyphenyl)noethylsilanihydride, bis(3,4-)
-dicarboxyphenyl)nophenylsilane dianhydride, and the like.
使用することができる池の芳香族ジアミンを具体的に例
示すると、4,4°−ノアミ/ノフェニルエーテル、
3.3’−ノ7ミノノフェニルエーテル、:l 、 4
’−ノアミ/ノフェニルエーテル、414゛−ノアミ
/ノフェニルチオエーテル、3.3’−ノアミノノフェ
ニルチオエーテル、3,4°−ノアミノノフェニルチオ
エーデル、4.4’−ノアミノベンゾフェノン、3.3
°−ノアミノベンゾフェノン、3,4゛−ノアミノベン
ゾフェノン、4,4′−ノアミノノフェニルスルホン、
3,3°−ノアミ/シフ工°ニルスルホン、3.41ノ
アミ7ノフエニルスルホン、4.4−ノアミノノフェニ
ルメタン、3.:(’−ノアミ/ジフェニルメタン、3
,4°−ノアミノノフェニルメタン、2.2−ビス(4
−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3アミ/
フエニル)プロパン、ベンツノン、3.3゜ノアミツビ
フェニル、3.4’−ノアミツビフェニル、pフェニレ
ンジアミン、m−フェニレンジアミン、ビス(4−7ミ
/フエニル)ジノチルシラン、ビス(4−7ミ/フエニ
ル)ノエチルシラン、ビス(4−7ミ/フエニル)ノフ
ェニルシラン等を挙げることができる。Specific examples of aromatic diamines that can be used include 4,4°-noami/nophenyl ether,
3.3'-7minonophenyl ether, :l, 4
'-Noami/nophenyl ether, 414'-noami/nophenyl thioether, 3,3'-noaminophenyl thioether, 3,4°-noaminophenylthioether, 4,4'-noaminobenzophenone, 3 .3
°-Noaminobenzophenone, 3,4′-noaminobenzophenone, 4,4′-noaminophenylsulfone,
3,3°-Noami/Schiffenylsulfone, 3.41Noami7nophenylsulfone, 4.4-Noaminonophenylmethane, 3. :('-Noami/diphenylmethane, 3
, 4°-noaminophenylmethane, 2.2-bis(4
-aminophenyl)propane, 2,2-bis(3ami/
phenyl)propane, benzunone, 3.3゜noamitubiphenyl, 3.4'-noamitubiphenyl, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, bis(4-7mi/phenyl) dinotylsilane, bis(4-7mi/ Examples include phenyl)noethylsilane, bis(4-7mi/phenyl)nophenylsilane, and the like.
本発明において上記含フッ素ポリイミドは通常溶媒存在
下で、等モル量の−J二記酸無水物とジアミンを撹拌混
合することによって得られたポリアミド酸を脱水するこ
とにより得られる。酸無水物とジアミンとの反応温度は
0〜60°C2好ましくは20〜40℃、反応時間は1
〜24時間、好ましくは3〜12時間である。使用する
溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン(N M
P )、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ツメチル
ホルムアミド(DMF)、スルホラン、テトラヒドロ7
ラン(THF)等を例示することができる。尚、前記式
(G1)で示される基を含む酸無水物と前記式(G2)
C示される基を含む芳香族ジアミンを反応させる場合は
、溶媒として前記の溶媒にテトラクロロヘキサフルオロ
ブタン、トリクロロトリフルオロエタン、テトラクロロ
ノフルオロエタン、パークロルエチレン等のハロゲン系
溶媒を加えた混合溶媒を用いるのが好ましい。上記の反
応によって生成させたポリアミド酸は、常法によってポ
リイミドに転化することができる。例えばポリアミド酸
を200℃以上、例えば2;(O〜400、“Cで加熱
、脱水することによって、容賜にポリイミドに転化する
ことができる。In the present invention, the fluorine-containing polyimide is usually obtained by dehydrating a polyamic acid obtained by stirring and mixing equimolar amounts of -J dianhydride and diamine in the presence of a solvent. The reaction temperature between the acid anhydride and the diamine is 0 to 60°C2, preferably 20 to 40°C, and the reaction time is 1
~24 hours, preferably 3 to 12 hours. The solvent used is N-methyl-2-pyrrolidone (NM
P), dimethylacetamide (DMAc), trimethylformamide (DMF), sulfolane, tetrahydro7
Ran (THF) and the like can be exemplified. In addition, an acid anhydride containing a group represented by the above formula (G1) and the above formula (G2)
When reacting an aromatic diamine containing a group represented by C, a mixture of the above-mentioned solvent and a halogenated solvent such as tetrachlorohexafluorobutane, trichlorotrifluoroethane, tetrachloronofluoroethane, perchlorethylene, etc. Preferably, a solvent is used. The polyamic acid produced by the above reaction can be converted into polyimide by a conventional method. For example, polyamic acid can be conveniently converted into polyimide by heating and dehydrating it at 200° C. or higher, for example 2°C to 400°C.
本発明においてフッ素樹脂基材に含フッ素ポリイミドを
含浸させる方法としては該含フッ素ポリイミドの溶液中
にフッ素樹脂基材を浸漬、乾燥する方法、或いは前駆体
であるポリアミド酸の溶液中にフッ素樹脂基材を浸漬、
乾燥したものを加熱、脱水しイミド化する方法等を挙げ
ることができる。In the present invention, a method for impregnating a fluororesin base material with fluorine-containing polyimide is a method of immersing the fluororesin base material in a solution of the fluororesin polyimide and drying it, or a method of impregnating a fluororesin base material in a solution of polyamic acid as a precursor. Soak the material,
Examples include a method of heating and dehydrating a dried material to imidize it.
溶剤としては例えばN−メチル−2−ピロリドン(NM
P)、ツメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、スルホラン、テトラヒドロ7ラ
ン(THF)等、及びこれらにテトラクロロへキサフル
オロブタン、トリクロロトリフルオロエタン、テトラク
ロロジフルオロエタン、パークロルエチレン等のハロゲ
ン系溶媒を加えた混合溶媒を挙げることができる。Examples of solvents include N-methyl-2-pyrrolidone (NM
P), trimethylacetamide (DMAc), dimethylformamide (DMF), sulfolane, tetrahydrofane (THF), etc., and to these, tetrachlorohexafluorobutane, trichlorotrifluoroethane, tetrachlorodifluoroethane, perchlorethylene, etc. Examples include mixed solvents containing halogenated solvents.
本発明ではフッ素樹脂基材に含フッ累ポリイミドを含浸
させた基板に金属層を形成した積層体を得ることもでき
る。ポリアミド酸含浸基材のイミド化は200℃以上、
例えば、230〜400℃で加熱することにより行われ
る。金属層を構成する金属としでは例えば銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、これらの合金等を例示でき、金属
層はこれら金属の箔状物の接着削による接着、無電解メ
ツキ法、スパッタリング、真空蒸着、イオンブレーティ
ング等により形成rることができる。金属層の厚さは約
5〜100μ潰の範囲が好ましい。本発明において上記
金属層は複合シートの片面或いは両面に形成することが
でき、又、金属回路層を有する上記含フッ素ポリイミド
を含浸したフッ索引m系基板を複数積層して用いること
もできる。その場合は金属層同士が接触しないように積
層する。又、金属屑を形成する萌の含フッ素ポリイミド
含浸基板を複r&積層し、その後に金属層を設けること
もできる。According to the present invention, it is also possible to obtain a laminate in which a metal layer is formed on a substrate in which a fluororesin base material is impregnated with a fluorinated polyimide. Imidization of the polyamic acid-impregnated base material is performed at 200°C or higher.
For example, it is carried out by heating at 230 to 400°C. Examples of the metal constituting the metal layer include copper, aluminum, nickel, iron, and alloys thereof, and the metal layer can be formed by adhesion by adhesion of foils of these metals, electroless plating, sputtering, vacuum evaporation, It can be formed by ion blating or the like. The thickness of the metal layer is preferably in the range of about 5 to 100 microns. In the present invention, the metal layer can be formed on one or both sides of the composite sheet, or a plurality of fluorine-containing m-based substrates impregnated with the fluorine-containing polyimide having a metal circuit layer can be laminated. In that case, the metal layers are laminated so that they do not come into contact with each other. Alternatively, a plurality of fluorine-containing polyimide-impregnated substrates forming metal scraps may be laminated, and then a metal layer may be provided.
本発明の積層体はエツチングなどによって常法に従って
電気回路を形成でき高周波用プリント基板として使用に
供される。多孔体に含フッ素ポリイミドを含浸すると内
部に空孔が残るが含浸時に基材表面にもコーティングさ
れており、エツチング剤等は中に浸透しない。The laminate of the present invention can be used as a high-frequency printed circuit board by forming an electric circuit by conventional methods such as etching. When a porous body is impregnated with fluorine-containing polyimide, pores remain inside, but the surface of the base material is also coated during impregnation, and etching agents etc. do not penetrate inside.
(発明の効果)
本発明にあっては耐熱性、寸法安定性の良いポリイミド
にフッ素を導入した低誘電率、低誘電正接の含フッ素ポ
リイミドと、低誘電率、低誘電正接のフッ素樹脂基材を
用いることにより、耐熱性、寸法安定性、高周波特性に
優れた高周波用積層板を得ることができ、高周波演算回
路、通信機回路等の高周波用回路の寅装が可能なもので
ある。(Effects of the Invention) The present invention uses a fluorine-containing polyimide with a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, which is obtained by introducing fluorine into a polyimide with good heat resistance and dimensional stability, and a fluorine-containing polyimide with a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. By using this, it is possible to obtain a high-frequency laminate with excellent heat resistance, dimensional stability, and high-frequency characteristics, and it can be used in high-frequency circuits such as high-frequency arithmetic circuits and communication device circuits.
(実 施 例) 以下に参考例及び天施例を挙げて説明する。(Example) The following is an explanation using reference examples and practical examples.
参考例1
冷却管、温度計、窒素導入管及び攪拌器を取り付けた5
eの4−)ロフラスコにマグネシウム24.31g(1
モル)、乾燥ノエチルエーテル150m1及び少量のヨ
ウ素結晶を加えて、窒素を導入しながら撹拌した。ノエ
チルエーテル6001に溶解したC、F、。Reference example 1 5 equipped with cooling pipe, thermometer, nitrogen introduction pipe and stirrer
4-) Magnesium 24.31g (1
mol), 150 ml of dry noethyl ether and a small amount of iodine crystals were added, and the mixture was stirred while introducing nitrogen. C, F, dissolved in Noethyl Ether 6001.
CI−12CH、I (5748,1モル)を徐々に滴
下し、滴下終了後、2時間加熱還流した。次に反応溶液
を室温に戻し、CF 、CO2Ct(、(128g、
]モル)を滴下し、滴下後2時間撹拌した。CI-12CH,I (5748, 1 mol) was gradually added dropwise, and after the addition was completed, the mixture was heated under reflux for 2 hours. Next, the reaction solution was returned to room temperature, CF, CO2Ct (, (128 g,
] mol) was added dropwise, and the mixture was stirred for 2 hours after the dropwise addition.
反応が終了した後、反応溶液に硫酸溶液を加えて酸性に
し、ノエチルエーテル層を3回水洗した後、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、更に五酸化リンで乾燥した。このノエチ
ルエーテル層を減圧蒸留しで、CsF、7CHzCH2
COCF)なるケトン化合物(沸点96〜98℃/ 1
7+*sHg)が17411(収率32%)得られた。After the reaction was completed, a sulfuric acid solution was added to the reaction solution to make it acidic, and the noethyl ether layer was washed three times with water, dried over sodium sulfate, and further dried over phosphorus pentoxide. This noethyl ether layer was distilled under reduced pressure to obtain CsF, 7CHZCH2
COCF) is a ketone compound (boiling point 96-98℃/1
7+*sHg) were obtained (17411 (yield 32%)).
T R(NaCl)’ (c+*−’ 〕:17so、
tzso、 1210゜1150、 1010
’F−NMR(CC1,)δ (pp誼〕 ;−12,
7(s、 3 F )、2,30. 3 F >、3
5.9(broad、 2 F )、43.2(bro
ad、 6 F )、44.0(broad、 2 F
)、44.3(broad、 2 F >、47.5
(broad、 2 F )
参考例2
300m lのオートクレーブにトルエン15.2.(
0,165モル)、参考例1で得られたC、F、、CH
2CH。T R (NaCl)'(c++-' ): 17so,
tzso, 1210°1150, 1010'F-NMR (CC1,) δ (pp y) ;-12,
7(s, 3F), 2,30. 3 F >, 3
5.9 (broad, 2 F), 43.2 (bro
ad, 6F), 44.0(broad, 2F
), 44.3 (broad, 2 F >, 47.5
(broad, 2F) Reference Example 2 Toluene 15.2. (
0,165 mol), C, F,, CH obtained in Reference Example 1
2CH.
COCF 、(40,9g、 0.075モル)及び
フッ化水素401を仕込んだ1次に撹拌しながら温度9
0〜lOO℃、圧力9kg/cm”で18時間反応させ
た。COCF, (40.9 g, 0.075 mol) and hydrogen fluoride 401 were added to the first reactor at a temperature of 9 with stirring.
The reaction was carried out for 18 hours at a temperature of 0 to 100° C. and a pressure of 9 kg/cm.
反応が終了した後、フッ化水素を除去し反応生成物をト
リクロロトリプルオロエタンで抽出した。After the reaction was completed, hydrogen fluoride was removed and the reaction product was extracted with trichlorotrioleoethane.
この抽出物からトリクロロトリフルオロエタンを減圧留
去すると式
で示される化合物38.9g(収率73%)が得られた
。Trichlorotrifluoroethane was distilled off from this extract under reduced pressure to obtain 38.9 g (yield: 73%) of the compound represented by the formula.
I R(NaC1)l’ (cm−’); 2900.
1520. 14851330、 1240. 12
10. 115G、 1010. 815゜730、
710
H−NMR(CCL/TMS)δ (pp鍮〕 ;1.
5−3.3(m、 4 H)、2.30(s、 6 H
)、7.05(s、 8 H)
9F−NMR(CC1,/TFA)δ (pl)輸〕
;−12,1(s、 3 F )、2.8(t、 3F
)、36.3(broad、 2 F )、43.5(
broadI6 F )、44.4(broad、 2
F )、44.7(broad、 2 F )、47
.9(broad、 2 F )
参考例3
1001のオートクレーブに参考例2で得た式(1)で
示される化合物20.0g(0,028モル)、酢酸7
3−1を仕込み、80℃の温度に加熱攪拌しながら酸化
クロム(Vl)18.38を加えた0反応温度を80〜
90℃に保ちながら12時間撹伴した。IR(NaC1)l'(cm-'); 2900.
1520. 14851330, 1240. 12
10. 115G, 1010. 815°730,
710 H-NMR (CCL/TMS) δ (pp brass); 1.
5-3.3 (m, 4 H), 2.30 (s, 6 H
), 7.05 (s, 8 H) 9F-NMR (CC1,/TFA) δ (pl) import]
;-12,1(s, 3F), 2.8(t, 3F
), 36.3 (broad, 2 F ), 43.5 (
broadI6F), 44.4(broad, 2
F), 44.7 (broad, 2 F), 47
.. 9 (broad, 2F) Reference Example 3 20.0 g (0,028 mol) of the compound represented by formula (1) obtained in Reference Example 2 and 7 mol of acetic acid were placed in a 1001 autoclave.
3-1 was prepared, and chromium oxide (Vl) 18.38 was added while stirring at a temperature of 80°C.
The mixture was stirred for 12 hours while maintaining the temperature at 90°C.
反応が終了した後、反応生成物から酢酸を減圧留去した
。残った固形物に5%水酸化ナトリウム溶液400ia
lを加えて溶解し、濾過して酸化クロム(II+ >
を枦別した。1液に硫酸水溶液を加えて酸性にすると白
色固体が析出し、この白色固体を枦別し乾燥すると、式
で示される化合物18.5g(収率86%)が得られた
。After the reaction was completed, acetic acid was distilled off from the reaction product under reduced pressure. Add 400 ia of 5% sodium hydroxide solution to the remaining solids.
chromium oxide (II+ >
We parted ways. When a sulfuric acid aqueous solution was added to the first solution to make it acidic, a white solid was precipitated, and when this white solid was separated and dried, 18.5 g (yield: 86%) of the compound represented by the formula was obtained.
rR(KRr)ν(cm−’);3000. 1700
. 16+5゜1425、 +330. 1285.
1240. 1200. 1150゜1+20. 1
010. 855. 810. 780. 725゜)
1−NMR(DMSo−d!/TMS)δ[ll+tm
l ;1.6−3.1(m、 4 fl )、7.57
(dd、 J = 81−1 z。rR(KRr)ν(cm-'); 3000. 1700
.. 16+5°1425, +330. 1285.
1240. 1200. 1150°1+20. 1
010. 855. 810. 780. 725°)
1-NMR (DMSo-d!/TMS) δ[ll+tm
l; 1.6-3.1 (m, 4 fl), 7.57
(dd, J = 81-1 z.
57Hz、8H)、9.5−10.5(broad、
2 H)’F N M R(D M S Oas/
T F A )J fppmlニー1:1.0(s、
3 F )、2.1(t、 3F)、35.9(bro
ad、 2 F )、43.0(broad、 6
F )、44.0(broad、 2 F )、4
4.3(broad、 2 F )47.3(bro
ad、 2 F )参考例4
500輪Iの3つロフラスコに、参考例3で得た式(■
)で示される化合物+5.Og(0,0195モル)、
濃硫酸63g及びクロロホルム200m lを加えた。57Hz, 8H), 9.5-10.5 (broad,
2 H)'F N M R (D M S Oas/
T F A ) J fppml knee 1:1.0 (s,
3F), 2.1(t, 3F), 35.9(bro
ad, 2 F), 43.0 (broad, 6
F ), 44.0 (broad, 2 F ), 4
4.3 (broad, 2 F) 47.3 (bro
ad, 2F) Reference Example 4 The formula (■
) +5. Og (0,0195 mol),
63 g of concentrated sulfuric acid and 200 ml of chloroform were added.
40〜50℃に加熱しながら、アジ化水素酸(1,OO
N )58.5mlを滴下し2時間還流した。While heating to 40-50℃, add hydrazoic acid (1,OO
58.5 ml of N ) was added dropwise and refluxed for 2 hours.
反応が終了した後、反応溶液を室温に戻し、水4001
#I中に投入すると、析出物が生じた。この析出物を濾
過して分別し、これに水酸化ナトリウム溶液を加えてア
ルカリ性にし、これをクロロホルム500輪1で抽出し
た。この抽出液からクロロホルムを留去すると、式
で示される化合物8.:l14g(収率60%)が得ら
れた。After the reaction is completed, the reaction solution is returned to room temperature and water 4001
When poured into #I, a precipitate formed. This precipitate was filtered and fractionated, made alkaline by adding sodium hydroxide solution, and extracted with chloroform. When chloroform was distilled off from this extract, a compound represented by the formula 8. : 14 g (yield 60%) was obtained.
I R(K Br) ν(eta−’ ) : 345
0− 3370+ 1630w1520、 1370
. 1335. 1280. 1250. 1230゜
1200、 1150. 1110. 1005.
960. 825゜820、 705
’H−NMR(CDCI、/TFA)&[ppm]
:1.5−2.9(m、 4 H)、 3.62
(s+ 4 H)、6.72(dcl、 J =
8 Hz、 37Hz、 8 H)’F−NMR(
CDCI3/TEA)δFppsl ;−12,2(
s、 3 F )、2.1(t、 3F)、35.
7(broad、 2 F )、43.0(broa
d、 6 F )、44.0(broad、 2
F )、44.3(broad、 2 F )、47
.2(broad、 2 F )参考例5
100曽1のオートクレーブに〇−キシレンlフ、17
g(0,1617モル)、C,F、、CH2CH,C0
CF。IR(KBr) ν(eta-'): 345
0- 3370+ 1630w1520, 1370
.. 1335. 1280. 1250. 1230°1200, 1150. 1110. 1005.
960. 825°820, 705'H-NMR (CDCI, /TFA) & [ppm]
:1.5-2.9(m, 4H), 3.62
(s+4H), 6.72(dcl, J=
8 Hz, 37 Hz, 8 H)'F-NMR (
CDCI3/TEA) δFppsl ;-12,2(
s, 3F), 2.1(t, 3F), 35.
7 (broad, 2 F), 43.0 (broad)
d, 6F), 44.0(broad, 2
F), 44.3 (broad, 2 F), 47
.. 2 (broad, 2 F) Reference Example 5 〇-xylene lf, 17 in a 100 mm autoclave
g (0,1617 mol), C, F,, CH2CH, C0
C.F.
(40,0g、 0.0735そル)及びフッ化水素
37膳1を仕込んだ0次に攪拌しながら、温度90〜1
00’C1圧カ9kg/am2で18時間反応させた。(40.0g, 0.0735l) and 37 servings of hydrogen fluoride were added.While stirring, the temperature was 90~1.
The reaction was carried out at 00'C1 pressure and 9 kg/am2 for 18 hours.
反応が終了した後、反応生成物をトリクロロトリフルオ
ロエタンで抽出した。この抽出液からトリクロロトリプ
ルオロエタンを減圧留去すると式にし、エーテルで抽出
した。この抽出液からエーテルを留去すると、式
で示される化合物38.3.(収率70%)が得られた
。After the reaction was completed, the reaction product was extracted with trichlorotrifluoroethane. Trichlorotrioleoethane was distilled off under reduced pressure from this extract, which was then extracted with ether. When the ether was distilled off from this extract, a compound represented by the formula 38.3. (yield 70%) was obtained.
IR(KBr)ν[cm−’ ) : 2950.
+510. 1470゜1450、 1375. 13
30. +200. 1145. 1110゜+02
0. 990. 965. 880. 820. 73
5゜1−1−101−1−N、/TMS)δ[111)
III ;1.6〜3.3(輪、4H)、2.22(
s、 12H)、6.94(s、 61−1 )
参考例6
500w+ lのオートクレーブに参考例5で得た式(
IV)で示される化合物38. Of+(0,05モル
)、60%硝酸58彌1及び水57+nlを仕込み、1
70−180℃で2時間反応させた。IR (KBr) ν[cm-'): 2950.
+510. 1470°1450, 1375. 13
30. +200. 1145. 1110°+02
0. 990. 965. 880. 820. 73
5゜1-1-101-1-N, /TMS) δ[111)
III; 1.6-3.3 (ring, 4H), 2.22 (
s, 12H), 6.94 (s, 61-1) Reference Example 6 The formula obtained in Reference Example 5 (
Compound 38.IV) Of+ (0.05 mol), 58 ml of 60% nitric acid and 57+ nl of water were charged, and 1
The reaction was carried out at 70-180°C for 2 hours.
反応が終了した後、反応生成物を濾過し、残った固形物
に5%水酸化ナトリウム溶液を加えて溶解し、′4Pむ
した。1液に硫酸水溶液を加えて酸性で示される化合物
39.7g(収率90%)が得られた。After the reaction was completed, the reaction product was filtered, and the remaining solid was dissolved in 5% sodium hydroxide solution to remove '4P. An aqueous sulfuric acid solution was added to the first solution to obtain 39.7 g (yield: 90%) of an acidic compound.
I R(K Br)ν(Cm−’ ); 3400.
3000. 1710゜1615、 1580. 15
+0. 1425. +210. 1160゜111
0、 1070. +020. 980. 820.
800゜725、 705
H−NMR(アセトン u6/TMS)δ[p1+1*
] :1.7−3.3(柚、 41−1 )、6.6
〜7.6(broad、 4 H)、7.6 =
8. O(+内、61−61−1)9F−Nアセトン−
a6.’T E A )δ[ppm1 :11.5<s
、 3 F )、3.6(t、 3 F )、:1
6.9(broaJ、 2 F )、44.3(br
oad、 6 F )、45.2(broad、 2
F )、45.5(broad、 2 F )、48.
6(l+road、 2 F >参考例7
参考例6で得た式(V)で示される化合物39.7g(
0,046モル)を2001のナス型7ラスフに入れ、
減圧r温度150〜+ 60 ’Cで6時間加熱した。IR(KBr)ν(Cm-'); 3400.
3000. 1710°1615, 1580. 15
+0. 1425. +210. 1160°111
0, 1070. +020. 980. 820.
800°725, 705 H-NMR (acetone u6/TMS) δ[p1+1*
]: 1.7-3.3 (Yuzu, 41-1), 6.6
~7.6(broad, 4H), 7.6 =
8. O (within +, 61-61-1)9F-N acetone-
a6. 'T E A ) δ[ppm1 :11.5<s
, 3 F ), 3.6(t, 3 F ), :1
6.9 (broaJ, 2F), 44.3 (br
oad, 6F), 45.2(broad, 2
F), 45.5 (broad, 2 F), 48.
6 (l+road, 2 F > Reference Example 7 39.7 g of the compound represented by formula (V) obtained in Reference Example 6 (
0,046 mol) into 2001 eggplant-shaped 7 Rasf,
Heated at reduced pressure r temperature 150-+60'C for 6 hours.
加熱が終了した後、ナス型フラスコから反応生成物を取
り出し、これをエーテルで再結晶すると白色結晶の式
で示される化合物22.78(収率60%)が得られた
。After the heating was completed, the reaction product was taken out from the eggplant-shaped flask and recrystallized from ether to obtain compound 22.78 (yield: 60%) represented by the formula of white crystals.
IR(KBr)ν 〔cw+−’:l; 1860.
1780. 1620゜+490. 1470.
+4:15. 1400. I:’175. 1
335゜+205. 1180. 1155. 112
0. 1015. 900゜740、 725. 70
0
+I −N M R(熱CDCl、/TMS)δ[11
1111] ;1.6〜:1.2(+自、4H)、 7
.5〜8.1(輪、 6 日)、’ F −N M R
(熱CDCl、/TFA)δ[+’1llll ニーl
:1.2(s13F)、2.t(t、 3 F )、
35.8(broad、 2 F )、43.0(b
road、 6 F )、44.0(l+road、
4 F )、47.2(l+road、 2 F
)天施例1
式([[1)C示される芳香族ノ7ミン14.25g(
0,02モル)をN−メチル−2−ピロリドン(N M
P)35gとテトラクロロヘキサフルオロブタン65
gとの混合溶媒に溶解した後、式(■)で示される酸無
水物16.458(0,02モル)を徐々に加え撹拌し
ながら温度25°Cで8時間反応させた。反応終了後、
粘度14000cps(23℃)、濃度23.5重量%
のポリアミド酸を得た。このポリアミド酸をNMPによ
り適当な粘度に調整し、厚さが0.]+n−1空孔率5
5%のポリテトラフルオロエチレン多孔体(ツートン社
、ザイテツクス(+104)に含浸させ150℃で乾燥
し、300℃で20分間加熱しイミド1ヒし複合シート
を得た。IR(KBr)ν [cw+-':l; 1860.
1780. 1620°+490. 1470.
+4:15. 1400. I:'175. 1
335°+205. 1180. 1155. 112
0. 1015. 900°740, 725. 70
0 +I −N M R (thermal CDCl, /TMS) δ[11
1111] ;1.6~:1.2 (+self, 4H), 7
.. 5-8.1 (ring, 6 days),'F-NMR
(heat CDCl, /TFA) δ[+'1llll knee l
:1.2 (s13F), 2. t(t, 3F),
35.8 (broad, 2 F), 43.0 (b
road, 6F), 44.0(l+road,
4F), 47.2(l+road, 2F
) Example 1 14.25 g of an aromatic compound represented by the formula ([1) C (
0.02 mol) to N-methyl-2-pyrrolidone (NM
P) 35g and 65g of tetrachlorohexafluorobutane
After dissolving in a mixed solvent with g, 16.458 (0.02 mol) of the acid anhydride represented by formula (■) was gradually added and reacted with stirring at a temperature of 25°C for 8 hours. After the reaction is complete,
Viscosity 14000cps (23℃), concentration 23.5% by weight
of polyamic acid was obtained. This polyamic acid was adjusted to an appropriate viscosity with NMP, and the thickness was 0. ]+n-1 porosity 5
It was impregnated with 5% polytetrafluoroethylene porous material (Xytex (+104) manufactured by Two-Tone Co., Ltd.), dried at 150°C, and heated at 300°C for 20 minutes to obtain an imide-1 atomized composite sheet.
この複合シート8枚を12.5μ(1)のPFA(テト
ラフルオロエチレン−パーフルオロビニルエーテル共重
合体)フィルムを介し、更にその最上面及び最下面にP
F A フィルムを介して35μ鏑の銅箔を配設し熱
板の開に入れ温度330°C1圧力40kg/c纏2の
条件で10分間加熱加圧して積層体を形成した。このも
のの誘電率は2.18、誘電正接(JISC648LI
M夏(z)は0.0009であった。Eight of these composite sheets were placed through a 12.5 μ(1) PFA (tetrafluoroethylene-perfluorovinyl ether copolymer) film, and then PFA was applied to the top and bottom surfaces of the film.
A 35 μm thick copper foil was placed through the F A film, placed in the opening of a hot plate, and heated and pressed for 10 minutes at a temperature of 330° C. and a pressure of 40 kg/c to form a laminate. The dielectric constant of this material is 2.18, and the dielectric loss tangent (JISC648LI
M summer (z) was 0.0009.
実施例2
芳香族ンアミンとしてp−7二二レンジアミン2.16
g(0,02モル)を用い、溶媒をN M P (55
g)、テトラクロロヘキサフルオロブタン11.の混合
溶媒、基材をポリテトラフルオロエチレン短繊維不織布
くダイキン製、ポリフロンペーパーP A −S L、
厚さ0.55mm、空孔率75%)にした以外は実施例
1と同様にして複合シートを得た。この複合シート2枚
を用いて実施例1と同様にして積層体を形成した。この
ものを実施例1と同様にして測定した誘電率は2131
%誘電正按は0.0017であった。Example 2 p-7 22-diamine as aromatic amine 2.16
g (0.02 mol) and the solvent was N M P (55
g), tetrachlorohexafluorobutane 11. A mixed solvent of Daikin, Polyflon Paper P A-S L,
A composite sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 0.55 mm and the porosity was 75%. A laminate was formed in the same manner as in Example 1 using two of these composite sheets. The dielectric constant of this material was measured in the same manner as in Example 1 and was 2131.
The % dielectric constant was 0.0017.
実施例3
芳香族テトラカルボン酸としてピロメリット酸二無水物
4.36g(0,02モル)を用い、溶媒をNMP(6
0g)、基材を厚さ0.5mm、空孔率60%のポリテ
トラフルオロエチレン短繊維7万芙短繊維混抄不織布(
80:2(1重電比)とした以外は実施例1と同様にし
て複合シートを得た。この複合シートの上面及び下面に
12.5μ鵠のPFAフィルムを介して35μm−のM
MをM層し330℃、40kg/c#a2で10分間加
熱加圧してH171体を形成した。このものを実施例1
と同様にしで測定した誘電率は2.52、誘電正接はo
、ootsであった。Example 3 Using 4.36 g (0.02 mol) of pyromellitic dianhydride as the aromatic tetracarboxylic acid, the solvent was NMP (6
0 g), and the base material is a nonwoven fabric mixed with 70,000 short polytetrafluoroethylene fibers with a thickness of 0.5 mm and a porosity of 60% (
A composite sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio was 80:2 (1-heavy ratio). A 35 μm thick PFA film is interposed on the upper and lower surfaces of this composite sheet through a 12.5 μm thick PFA film.
A layer of M was formed and heated and pressed at 330° C. and 40 kg/c#a2 for 10 minutes to form H171 body. Example 1
The dielectric constant measured in the same manner as 2.52 and the dielectric loss tangent are o
, oots.
実施例4
基材を厚さ0.5su*、空孔率60%のポリテトラフ
ルオロエチレン短繊維/芳昏族ポリアミド短繊維iR抄
不織布(90:10重量比〉とした以外は実施例1と同
様にして複合シートを得た。この複合シートを用いて実
施例3と同様にして積層体を形成した。Example 4 Same as Example 1 except that the base material was a polytetrafluoroethylene short fiber/aromatic polyamide short fiber iR paper nonwoven fabric (90:10 weight ratio) with a thickness of 0.5su* and a porosity of 60%. A composite sheet was obtained in the same manner. Using this composite sheet, a laminate was formed in the same manner as in Example 3.
このものを実施例1と同様にして測定した誘電率は2.
35、誘電正接は0.0028であった。The dielectric constant of this material was measured in the same manner as in Example 1: 2.
35, and the dielectric loss tangent was 0.0028.
実施例5
芳香族ノアミンとして11−フェニレンジアミン2.1
6g(0,02モル)を用い溶媒をN M P (55
8)、テトラクロロヘキサフルオロブタンImgの混合
溶媒、基材をポリテトラフルオロエチレンiwAm布(
平織、目付188FI/a+2)にした以外は実施例】
と同様にして複合シートを得た。この複合シートを用い
て実施例3と同様にして積層体を形成した。このものを
実施例1と同様にして測定した誘電率は2.60、誘電
正接は0.0022であった。Example 5 11-phenylenediamine 2.1 as aromatic noamine
6 g (0.02 mol) and the solvent was N M P (55
8), a mixed solvent of tetrachlorohexafluorobutane Img, and a polytetrafluoroethylene iwAm cloth (
Example except that plain weave, fabric weight 188FI/a+2)
A composite sheet was obtained in the same manner as above. A laminate was formed using this composite sheet in the same manner as in Example 3. This material was measured in the same manner as in Example 1, and the dielectric constant was 2.60, and the dielectric loss tangent was 0.0022.
実施例6
芳香族テトラカルボン酸としてピロメリット酸二無水物
4.36g(0,02モル)を用い、溶媒をNMP(6
0g)、基材をPFA艮繊維/芳香族ポリアミド艮繊維
混繊布(90:10重量比、平織、目付163g/m’
)とした以外は実施例1と同様にして複合シートを得た
。この複合シートを用いて実施例3と同様にして積層体
を形成した。このものを実施例1と同様にして測定した
誘電率は2,61.誘電正接は0、0033であった。Example 6 4.36 g (0.02 mol) of pyromellitic dianhydride was used as the aromatic tetracarboxylic acid, and NMP (6 mol) was used as the solvent.
0g), the base material is PFA fiber/aromatic polyamide fiber mixed fabric (90:10 weight ratio, plain weave, basis weight 163g/m')
) A composite sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that. A laminate was formed using this composite sheet in the same manner as in Example 3. The dielectric constant of this material was measured in the same manner as in Example 1 and was 2.61. The dielectric loss tangent was 0.0033.
実施例7
下記繰り返し単位を有する含フッ素ポリイミドをNMP
に溶解し、適当な粘度に調整し、実施例1と同様のポリ
テトラフルオロエチレン多孔シートに含浸させ200℃
で乾燥させ複合シートを得た。Example 7 Fluorine-containing polyimide having the following repeating unit was NMP
The solution was dissolved in water, adjusted to an appropriate viscosity, and impregnated into the same porous polytetrafluoroethylene sheet as in Example 1 at 200°C.
A composite sheet was obtained.
この複合シートを用いて実施例1と同様にして積層体を
形成した。このものを実施例1と同様にしで測定した誘
電率は2.20、誘電正接はo、ootoであつた。A laminate was formed using this composite sheet in the same manner as in Example 1. This material was measured in the same manner as in Example 1, and the dielectric constant was 2.20, and the dielectric loss tangent was o.ooto.
実施例8
芳香族ノアミンとして2.2−ビス[4−(4−7ミノ
フエノキシ)フェニル1−へキサフルオロプロパン10
.05g(0,02モル)を用い、溶媒をNMP(60
g)、基材を実施例2と同様のポリテトラブルオロエチ
レン不織布とした以外は実施例1と同様にして複合シー
トを得た。この複合シートを用いて実施例3と同様にし
て積層体を形成した。このものを実施例1と同様にして
測定した誘電率は2.21、誘電正接は0.0013で
あった。Example 8 2,2-bis[4-(4-7minophenoxy)phenyl 1-hexafluoropropane 10 as aromatic noamine
.. 05g (0.02 mol) was used, and the solvent was NMP (60
g) A composite sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that the base material was the same polytetrafluoroethylene nonwoven fabric as in Example 2. A laminate was formed using this composite sheet in the same manner as in Example 3. This material was measured in the same manner as in Example 1, and the dielectric constant was 2.21, and the dielectric loss tangent was 0.0013.
実施例9
下記構造を有する含フッ素ポリイミドをNMPに溶解し
、過当な粘度にill!L、実施例3と同様のポリテト
ラフルオロエチレン′JrL繊維/石英短繊維混抄不織
布に含浸し、200°Cで乾燥させ複合シートを得た。Example 9 A fluorine-containing polyimide having the following structure was dissolved in NMP and heated to an excessive viscosity. L. The same polytetrafluoroethylene 'JrL fiber/quartz short fiber mixed nonwoven fabric as in Example 3 was impregnated and dried at 200°C to obtain a composite sheet.
この複合シートを用いて実施例3と同様にして積層体を
形成した。このものを実施例1と同様にして測定した誘
電率は2.40.16電正接は0.0012であった。A laminate was formed using this composite sheet in the same manner as in Example 3. This material was measured in the same manner as in Example 1, and the dielectric constant was 2.40.16, and the electric loss tangent was 0.0012.
溶媒としてN M P (60g)、基材として実施例
4と同様のポリテトラフルオロエチレン短繊維/芳香族
ポリアミド短繊維混抄不織布を用いた以外は実施例1と
同様にして複合シートを作成した。この複合シートを用
いて実施例3と同様にして積層体を作成した。このもの
を実施例1と同様にして測定した3電車は2.28、誘
電正接は0.0020であった。A composite sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that NMP (60 g) was used as the solvent and the same polytetrafluoroethylene short fiber/aromatic polyamide short fiber mixed nonwoven fabric as in Example 4 was used as the base material. A laminate was produced in the same manner as in Example 3 using this composite sheet. This product was measured in the same manner as in Example 1, and the value of 3 electric currents was 2.28, and the dielectric loss tangent was 0.0020.
(以 上)
出 願 人 ダイキン工業株式会社
代 理 人 弁理士 1) 村 巌実施
例10(The above) Applicant Daikin Industries, Ltd. Agent Patent attorney 1) Iwao Mura Example 10
Claims (4)
たことを特徴とする複合シート。(1) A composite sheet characterized by impregnating a fluororesin base material with fluorine-containing polyimide.
た複合シートに金属層を形成したことを特徴とする積層
体。(2) A laminate characterized in that a metal layer is formed on a composite sheet in which a fluororesin base material is impregnated with fluorine-containing polyimide.
は不織布である請求項1または2記載の複合シート又は
積層体。(3) The composite sheet or laminate according to claim 1 or 2, wherein the fluororesin base material is a porous fluororesin material, a fiber cloth, or a nonwoven fabric.
2個の酸無水物基を除いた残基、R^2は芳香族ジアミ
ンから2個のアミノ基を除いた残基であつて、R^1及
びR^2の少なくとも一方は、主鎖に▲数式、化学式、
表等があります▼ X:▲数式、化学式、表等があります▼ Rf:C_1_〜_1_0のパーフルオロアルキル基R
f′:C_1_〜_2_0のパーハロアルキル基p:0
又は1〜3の整数 q:0又は1〜3の整数 r:0又は1 s:0又は1〜5の整数 t:0又は1〜5の整数 Y:Xと同意義であるか又は水素原子、フ エニル基、置換フエニル基(置換基例: C_1_〜_5のアルキル基)、C_1_〜_8のアル
キル基、C_1_〜_8のハロアルキル基 で示される基を含む。nは1〜2,000の整数を示す
。 〕で表わされる含フッ素ポリイミドである請求項1〜3
のいずれかに記載の複合シート又は積層体。(4) Fluorine-containing polyimide has ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (1) [In the formula, R^1 is the residue obtained by removing two acid anhydride groups from aromatic tetracarboxylic dianhydride, R^2 is a residue obtained by removing two amino groups from an aromatic diamine, and at least one of R^1 and R^2 has a ▲ mathematical formula, chemical formula,
There are tables, etc. ▼
f': Perhaloalkyl group of C_1_-_2_0 p: 0
or an integer of 1 to 3 q: 0 or an integer of 1 to 3 r: 0 or 1 s: an integer of 0 or 1 to 5 t: an integer of 0 or 1 to 5 Y: the same definition as X or a hydrogen atom , phenyl group, substituted phenyl group (examples of substituents: C_1_ to_5 alkyl group), C_1_ to_8 alkyl group, and C_1_ to_8 haloalkyl group. n represents an integer from 1 to 2,000. ] Claims 1 to 3 are fluorine-containing polyimides represented by
The composite sheet or laminate according to any one of the above.
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