JPH0243258B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0243258B2 JPH0243258B2 JP56107431A JP10743181A JPH0243258B2 JP H0243258 B2 JPH0243258 B2 JP H0243258B2 JP 56107431 A JP56107431 A JP 56107431A JP 10743181 A JP10743181 A JP 10743181A JP H0243258 B2 JPH0243258 B2 JP H0243258B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist film
- developer
- laser beam
- substrate
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
- G03F7/3028—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck characterised by means for on-wafer monitoring of the processing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、不連続的凹所若しくは突起部からな
る光学的パターンを表面に有する光学式記録デイ
スクの原盤の製作に用いられるフオトレジスト湿
式現像方法及び現像装置に関する。
る光学的パターンを表面に有する光学式記録デイ
スクの原盤の製作に用いられるフオトレジスト湿
式現像方法及び現像装置に関する。
かかる光学式記録デイスクは、例えば、光学式
ビデオ若しくはオーデイオデイスクシステムの記
録媒体として用いられている。光学式ビデオ若し
くはオーデイオデイスクシステムは、記録媒体で
あるデイスクを回転させながらその表面の凹所若
しくは突起部からなる光学的パターンにレーザ光
を照射し、その光学的パターンによつて変調され
たレーザ光を電気信号に変換してその光学的パタ
ーンに対応する情報を再生するものである。当該
システムに用いられる記録デイスクの原盤は、研
摩したガラス基盤の表面にフオトレジスト膜を設
けて成るものであつて、当該フオトレジスト膜
は、原盤に記録さるべき情報に応じて断続的に照
射されるレーザ光によつて、渦巻状径路に沿つて
不連続的に露光処理され、フオトレジスト膜の感
光した部分は現像液によつて溶解除去され、その
跡にピツトと称される凹所の列が渦巻状に形成さ
れる。記録デイスクは、かかるピツトを有する原
盤から、連続的な音溝を有する従来のオーデイオ
デイスクと同様に複製生産される。
ビデオ若しくはオーデイオデイスクシステムの記
録媒体として用いられている。光学式ビデオ若し
くはオーデイオデイスクシステムは、記録媒体で
あるデイスクを回転させながらその表面の凹所若
しくは突起部からなる光学的パターンにレーザ光
を照射し、その光学的パターンによつて変調され
たレーザ光を電気信号に変換してその光学的パタ
ーンに対応する情報を再生するものである。当該
システムに用いられる記録デイスクの原盤は、研
摩したガラス基盤の表面にフオトレジスト膜を設
けて成るものであつて、当該フオトレジスト膜
は、原盤に記録さるべき情報に応じて断続的に照
射されるレーザ光によつて、渦巻状径路に沿つて
不連続的に露光処理され、フオトレジスト膜の感
光した部分は現像液によつて溶解除去され、その
跡にピツトと称される凹所の列が渦巻状に形成さ
れる。記録デイスクは、かかるピツトを有する原
盤から、連続的な音溝を有する従来のオーデイオ
デイスクと同様に複製生産される。
現像処理によつて形成される上記のピツトの深
さ及び幅すなわちトラツク方向に垂直な断面形状
は、レーザ光による情報検出の精度に密接に関連
する寸法である。従つて、現像工程は、このピツ
トの断面形状が所定範囲内の寸法となるように管
理されねばならない。そのため、従来は、フオト
レジストの感光した部分が現像液に溶解する化学
反応の継続時間すなわち現像時間を、経験から得
られる勘により調節することによつて当該ピツト
の深さあるいは大きさを調節する方法が採られて
いた。しかし、かかる化学反応の進行速度は露光
の度合、現像液の濃度及び温度等の条件に応じて
変るから、現像中に形成されつつあるピツトの深
さあるいは大きさをモニターすることなく勘によ
つて現像時間を調節する従来の方法によつては、
現像処理が終るまではピツトの深さあるいは大き
さを知ることが出来ず、従つて、現像処理された
原盤のピツトの深さあるいは大きさにばらつきが
生じることは避け得ない。
さ及び幅すなわちトラツク方向に垂直な断面形状
は、レーザ光による情報検出の精度に密接に関連
する寸法である。従つて、現像工程は、このピツ
トの断面形状が所定範囲内の寸法となるように管
理されねばならない。そのため、従来は、フオト
レジストの感光した部分が現像液に溶解する化学
反応の継続時間すなわち現像時間を、経験から得
られる勘により調節することによつて当該ピツト
の深さあるいは大きさを調節する方法が採られて
いた。しかし、かかる化学反応の進行速度は露光
の度合、現像液の濃度及び温度等の条件に応じて
変るから、現像中に形成されつつあるピツトの深
さあるいは大きさをモニターすることなく勘によ
つて現像時間を調節する従来の方法によつては、
現像処理が終るまではピツトの深さあるいは大き
さを知ることが出来ず、従つて、現像処理された
原盤のピツトの深さあるいは大きさにばらつきが
生じることは避け得ない。
よつて、本発明の目的は、現像処理中にピツト
の深さあるいは大きさをモニターし、その深さあ
るいは大きさが所定範囲に達したとき現像処理を
停止するよう構成されたフオトレジスト湿式現像
方法及び装置を提供することである。
の深さあるいは大きさをモニターし、その深さあ
るいは大きさが所定範囲に達したとき現像処理を
停止するよう構成されたフオトレジスト湿式現像
方法及び装置を提供することである。
この目的のため、本発明の現像方法は、露光処
理された原盤の回転中心軸を重力方向に対して所
定角度傾斜させてこれを回転させつつ、フオトレ
ジスト膜に沿つて現像液を接触させ且つフオトレ
ジスト膜の面に対して所定角度傾斜した方向から
所定波長のレーザ光をフオトレジスト膜に照射し
且つフオトレジスト膜のピツトの位置で所定方向
に回折して原盤を透過したレーザ光成分を検出
し、この回折光の強度が所定値に達したときフオ
トレジスト膜への現像液の供給を停止するなどし
てフオトレジスト膜と現像液との接触を中止して
現像処理を停止する構成である。この方法を実施
するための本発明装置は、露光処理された原盤の
回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させ
てこれを回転させるための回転駆動手段と、現像
液をフオトレジスト膜上に供給してこれに沿つて
接触させるための現像液供給手段と、フオトレジ
スト膜に対して所定角度傾斜した方向から所定波
長のレーザ光をフオトレジスト膜に照射するレー
ザ光源と、フオトレジスト膜のピツトの位置で所
定方向に回折して原盤を透過したレーザ光成分を
検出してこれを電気信号に変換する光電変換器と
を含んでおり、この電気信号を検出してそのレベ
ルが所定値に達したときフオトレジスト膜と現像
液との接触を停止させるようになされている。
理された原盤の回転中心軸を重力方向に対して所
定角度傾斜させてこれを回転させつつ、フオトレ
ジスト膜に沿つて現像液を接触させ且つフオトレ
ジスト膜の面に対して所定角度傾斜した方向から
所定波長のレーザ光をフオトレジスト膜に照射し
且つフオトレジスト膜のピツトの位置で所定方向
に回折して原盤を透過したレーザ光成分を検出
し、この回折光の強度が所定値に達したときフオ
トレジスト膜への現像液の供給を停止するなどし
てフオトレジスト膜と現像液との接触を中止して
現像処理を停止する構成である。この方法を実施
するための本発明装置は、露光処理された原盤の
回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させ
てこれを回転させるための回転駆動手段と、現像
液をフオトレジスト膜上に供給してこれに沿つて
接触させるための現像液供給手段と、フオトレジ
スト膜に対して所定角度傾斜した方向から所定波
長のレーザ光をフオトレジスト膜に照射するレー
ザ光源と、フオトレジスト膜のピツトの位置で所
定方向に回折して原盤を透過したレーザ光成分を
検出してこれを電気信号に変換する光電変換器と
を含んでおり、この電気信号を検出してそのレベ
ルが所定値に達したときフオトレジスト膜と現像
液との接触を停止させるようになされている。
次に、図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。
る。
第１図は本発明の現像装置を示すブロツク図で
ある。この装置は処理槽１を有し、露光処理され
た原盤２はこの槽内のターンテーブル３に載置さ
れる。原盤２の一方の側面のフオトレジスト膜は
図の上方に向けられている。原盤２の他方の側面
側すなわち図面下方においては、処理槽１内にて
独立した雰囲気を形成するように原盤２の周辺か
ら間隔をおいて原盤２の他方の側面下方を囲う筐
体１ａが設けられている。ターンテーブル３は重
力方向に対して所定角度θだけ傾斜しており、電
動モータ（図示せず）により駆動されて原盤２と
ともに一定速度で回転する。適当な現像液供給手
段Ｄから供給される現像液は、加圧ガス源Ｇから
供給される例えば窒素等の加圧ガスと加圧タンク
４で混合され、あるいは加圧ガスの有する所定加
圧力により加圧液体となり、バルブ５及びノズル
６を介して原盤２のフオトレジスト膜上に噴霧さ
れてその上を流下し、槽底の排出口７から槽外へ
排出される。現像液とともにノズル６から処理槽
内に噴出した加圧された現像液又は加圧ガスと現
像液との混合流体の１部はバルブ１７を介して処
理槽外に排出される。例えばヘリウム−ネオンレ
ーザチユーブ等からなるヘーザ光源８が処理槽外
に設けられており、この光源から発生されたレー
ザ光はハーフミラー９によつて分割され、これを
透過したレーザ光はモニター用光電変換器１０に
入射し、ハーフミラー９によつて反射されたレー
ザ光は、処理槽内の原盤に対して所定角度だけ傾
斜した方向から原盤２に入射する。原盤２はガラ
ス等からなる透明な基盤の表面にフオトレジスト
膜（厚みは、2000オングストローム程度又はそれ
以下）を設けて成るものであり、これに入射した
レーザ光は、ピツトが形成されていないときは原
盤２を透過してその下方に設けられたビームスト
ツパ１１によつて吸収される。
ある。この装置は処理槽１を有し、露光処理され
た原盤２はこの槽内のターンテーブル３に載置さ
れる。原盤２の一方の側面のフオトレジスト膜は
図の上方に向けられている。原盤２の他方の側面
側すなわち図面下方においては、処理槽１内にて
独立した雰囲気を形成するように原盤２の周辺か
ら間隔をおいて原盤２の他方の側面下方を囲う筐
体１ａが設けられている。ターンテーブル３は重
力方向に対して所定角度θだけ傾斜しており、電
動モータ（図示せず）により駆動されて原盤２と
ともに一定速度で回転する。適当な現像液供給手
段Ｄから供給される現像液は、加圧ガス源Ｇから
供給される例えば窒素等の加圧ガスと加圧タンク
４で混合され、あるいは加圧ガスの有する所定加
圧力により加圧液体となり、バルブ５及びノズル
６を介して原盤２のフオトレジスト膜上に噴霧さ
れてその上を流下し、槽底の排出口７から槽外へ
排出される。現像液とともにノズル６から処理槽
内に噴出した加圧された現像液又は加圧ガスと現
像液との混合流体の１部はバルブ１７を介して処
理槽外に排出される。例えばヘリウム−ネオンレ
ーザチユーブ等からなるヘーザ光源８が処理槽外
に設けられており、この光源から発生されたレー
ザ光はハーフミラー９によつて分割され、これを
透過したレーザ光はモニター用光電変換器１０に
入射し、ハーフミラー９によつて反射されたレー
ザ光は、処理槽内の原盤に対して所定角度だけ傾
斜した方向から原盤２に入射する。原盤２はガラ
ス等からなる透明な基盤の表面にフオトレジスト
膜（厚みは、2000オングストローム程度又はそれ
以下）を設けて成るものであり、これに入射した
レーザ光は、ピツトが形成されていないときは原
盤２を透過してその下方に設けられたビームスト
ツパ１１によつて吸収される。
原盤２が回転せられるとともにその表面のフオ
トレジスト膜上に現像液が散布されて現像処理が
進行するとき、フオトレジスト膜の感光した部分
は現像液によつて溶解除去されてゆき、その部分
に凹部すなわち上記のピツトが形成されてゆく。
原盤２に入射したレーザ光の一部はこのピツトに
よつて回折される。このピツトによつて回折され
たレーザ光の強度を検出するため、透過レーザ光
の径路外の所定位置に、例えばフオトダイオード
等からなる光電変換器１２が設けられている。制
御回路１３は光電変換器１２の出力電圧若しくは
電流を検出し、この回折光の強度が所定値に達し
て光電変換器１２の出力電圧若しくは電流が所定
値に達すると、バルブ駆動モータ１４を励磁して
バルブ５を閉鎖させてフオトレジスト膜上への現
像液の供給を停止させ、同時に、もう１つのバル
ブ駆動モータ１５を励磁して給水管のバルブ１６
を開いて純水をフオトレジスト膜上に散布し、現
像処理を終了させる。
トレジスト膜上に現像液が散布されて現像処理が
進行するとき、フオトレジスト膜の感光した部分
は現像液によつて溶解除去されてゆき、その部分
に凹部すなわち上記のピツトが形成されてゆく。
原盤２に入射したレーザ光の一部はこのピツトに
よつて回折される。このピツトによつて回折され
たレーザ光の強度を検出するため、透過レーザ光
の径路外の所定位置に、例えばフオトダイオード
等からなる光電変換器１２が設けられている。制
御回路１３は光電変換器１２の出力電圧若しくは
電流を検出し、この回折光の強度が所定値に達し
て光電変換器１２の出力電圧若しくは電流が所定
値に達すると、バルブ駆動モータ１４を励磁して
バルブ５を閉鎖させてフオトレジスト膜上への現
像液の供給を停止させ、同時に、もう１つのバル
ブ駆動モータ１５を励磁して給水管のバルブ１６
を開いて純水をフオトレジスト膜上に散布し、現
像処理を終了させる。
第２図は、露光強度を一定値として露光処理し
た後従来の方法によつて現像処理した11枚の原盤
の現像時間（単位、秒）と、第１図に示した本発
明装置のレーザ光源８及び光電変換器１２を含む
光学−電気系を用いて測定したピツトによる一次
回折光の強度（単位、μW）との対応関係を示す
グラフである。このデータから判るように、現像
時間と、現像によつて形成されたピツトによる一
次回折光の強度との関係はほぼ一次関数的ではあ
るが、ばらつきが大である。この一次回折光の強
度はピツトの深さ、あるいは大きさを直接反映す
るから、勘によつて現像時間を加減する従来方法
によつて得られる原盤は原盤毎のピツトの形状の
ばらつきが大きくて品質が一定でないことが判
る。
た後従来の方法によつて現像処理した11枚の原盤
の現像時間（単位、秒）と、第１図に示した本発
明装置のレーザ光源８及び光電変換器１２を含む
光学−電気系を用いて測定したピツトによる一次
回折光の強度（単位、μW）との対応関係を示す
グラフである。このデータから判るように、現像
時間と、現像によつて形成されたピツトによる一
次回折光の強度との関係はほぼ一次関数的ではあ
るが、ばらつきが大である。この一次回折光の強
度はピツトの深さ、あるいは大きさを直接反映す
るから、勘によつて現像時間を加減する従来方法
によつて得られる原盤は原盤毎のピツトの形状の
ばらつきが大きくて品質が一定でないことが判
る。
第３図は、本発明装置によつて現像処理された
原盤の現像終了後における一次回折光の強度（単
位μW）と、該原盤から製作された光学式ビデオ
デイスクに記録された信号を光学式ビデオデイス
ク再生装置を用いて再生したとき再生装置のフオ
トセンサから得られた電気信号のレベル（単位ｍ
Ｖ）との関係を示す。このデータは露光強度及び
現像時間などのパラメータをランダムに設定して
行なつた実験から得られたものであつて、現像処
理した原盤における一次回折光の強度と再生信号
レベルとの間には、露光強度すなわちフオトレジ
ストの感光の程度や現像時間等のパラメータに依
存しない指数関数的対応関係が存在することが判
る。
原盤の現像終了後における一次回折光の強度（単
位μW）と、該原盤から製作された光学式ビデオ
デイスクに記録された信号を光学式ビデオデイス
ク再生装置を用いて再生したとき再生装置のフオ
トセンサから得られた電気信号のレベル（単位ｍ
Ｖ）との関係を示す。このデータは露光強度及び
現像時間などのパラメータをランダムに設定して
行なつた実験から得られたものであつて、現像処
理した原盤における一次回折光の強度と再生信号
レベルとの間には、露光強度すなわちフオトレジ
ストの感光の程度や現像時間等のパラメータに依
存しない指数関数的対応関係が存在することが判
る。
よつて、本発明によれば、ピツトの深さあるい
は大きさのみに依存して変化する回折光強度に基
づいて現像の度合を調節することが出来るから、
所望の寸法のピツトを有する良質の原盤を得るこ
とが出来る。
は大きさのみに依存して変化する回折光強度に基
づいて現像の度合を調節することが出来るから、
所望の寸法のピツトを有する良質の原盤を得るこ
とが出来る。
第１図は本発明の現像装置の一実施例を示すブ
ロツク図、第２図は従来の現像方法によつて処理
した原盤の現像時間とピツトによる一次回折光の
強度との関係を示すグラフ、第３図は種々の現像
条件で現像処理した原盤のピツトによる一次回折
光の強度と再生信号レベルとの対応関係を示すグ
ラフである。 主要部分の符号の説明、３……ターンテーブ
ル、８……レーザ光源、９……ハーフミラー、１
０，１２……光電変換器、１３……制御回路。
ロツク図、第２図は従来の現像方法によつて処理
した原盤の現像時間とピツトによる一次回折光の
強度との関係を示すグラフ、第３図は種々の現像
条件で現像処理した原盤のピツトによる一次回折
光の強度と再生信号レベルとの対応関係を示すグ
ラフである。 主要部分の符号の説明、３……ターンテーブ
ル、８……レーザ光源、９……ハーフミラー、１
０，１２……光電変換器、１３……制御回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光学式記録デイスクの記録原盤を製作する過
程において、透明な基盤の平坦な一方の側面上の
フオトレジスト膜に現像液を接触させて、フオト
レジスト膜に凹凸を形成する現像方法であつて、
前記基盤を回転させつつ、前記フオトレジスト膜
に沿つて前記現像液を接触させ且つ前記フオトレ
ジスト膜の面に対して所定角度傾斜した方向から
レーザ光源からレーザ光を前記フオトレジスト膜
に入射させ、前記レーザ光のうちの前記フオトレ
ジスト膜で所定方向に回折して前記基盤を透過し
たレーザ光を前記一方の側面が露出する雰囲気と
は独立した雰囲気内にて検出する工程を含んでお
り、前記検出された回折光の強度が所定値に達し
たとき前記フオトレジスト膜と前記現像液との接
触を停止することを特徴とする方法。 ２ 前記凹凸は、フオトレジスト膜の渦巻状経路
をなして不連続的に感光した部分を溶解除去する
ことによりフオトレジスト膜に不連続的かつ列状
に配列したピツトであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ３ 前記基盤の回転中心軸を重力方向に対して所
定角度傾斜させて前記基盤を回転させることを特
徴とする特許請求の範囲第１又は２項記載の方
法。 ４ 前記フオトレジスト膜の前記レーザ光が照射
さるべき位置は重力方向において前記現像液が供
給さるべき位置より高い位置であることを特徴と
する特許請求の範囲第１、２又は３項記載の方
法。 ５ 透明な基盤の平坦な一方の側面上のフオトレ
ジスト膜に沿つて現像液を接触させて前記フオト
レジスト膜に凹凸を形成する現像装置であつて、
前記基盤を回転させる回転駆動手段と、前記フオ
トレジスト膜上に前記現像液を供給する現像液供
給手段と、前記フオトレジスト膜に対して所定角
度傾斜した方向からレーザ光を前記フオトレジス
ト膜に照射するレーザ光源と、前記基盤の他方の
側面から離れて配置され且つ前記フオトレジスト
膜で所定方向に回折して前記基盤を透過したレー
ザ光を前記一方の側面が露出する雰囲気とは独立
した雰囲気にて検出して受光量に応じた電気的出
力を発生する光電変換器と、前記電気的出力に応
じて前記現像液供給手段を制御する制御手段を含
むことを特徴とする装置。 ６ 前記凹凸は、フオトレジスト膜の渦巻状経路
をなして不連続的に感光した部分を溶解除去する
ことによりフオトレジスト膜に不連続的かつ列状
に配列したピツトであることを特徴とする特許請
求の範囲第５項記載の装置。 ７ 前記基盤はその回転中心軸が重力方向に対し
て所定角度傾斜した状態に保たれて回転せしめら
れることを特徴とする特許請求の範囲第５又は６
項記載の装置。 ８ 前記フオトレジスト膜の前記レーザ光が照射
さるべき位置は重力方向において前記現像液が供
給さるべき位置より高い位置であることを特徴と
する特許請求の範囲第５、６又は７項記載の装
置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56107431A JPS589242A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 |
| FR8211935A FR2509484B1 (fr) | 1981-07-08 | 1982-07-07 | Procede et dispositif pour developper un materiau photo-sensible utilise comme milieu d'enregistrement |
| US06/396,073 US4469424A (en) | 1981-07-08 | 1982-07-07 | Method and system for developing a photo-resist material used as a recording medium |
| GB08219667A GB2108707B (en) | 1981-07-08 | 1982-07-07 | Method and system for developing a photo-resist material used as a recording medium |
| DE3225575A DE3225575C2 (de) | 1981-07-08 | 1982-07-08 | Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Entwicklerflüssigkeitszufuhr in einer Fotoresistplattenentwicklungseinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56107431A JPS589242A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS589242A JPS589242A (ja) | 1983-01-19 |
| JPH0243258B2 true JPH0243258B2 (ja) | 1990-09-27 |
Family
ID=14458962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56107431A Granted JPS589242A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS589242A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5916333B2 (ja) * | 1975-12-23 | 1984-04-14 | ソニー株式会社 | カイテンキロクバイタイノマスタ−バンノセイゾウホウホウ |
| DE2728361C2 (de) * | 1977-06-23 | 1981-09-24 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Feststellen eines vorgebbaren Endzustands eines Entwicklungs- oder Ätzvorgangs |
| US4142107A (en) * | 1977-06-30 | 1979-02-27 | International Business Machines Corporation | Resist development control system |
-
1981
- 1981-07-08 JP JP56107431A patent/JPS589242A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS589242A (ja) | 1983-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0238283Y2 (ja) | ||
| JPH0473224B2 (ja) | ||
| JP3707812B2 (ja) | 光記録方法、光記録装置及び光記録媒体 | |
| US4469424A (en) | Method and system for developing a photo-resist material used as a recording medium | |
| JPH1186346A (ja) | 光ディスク、光ディスクの製造方法及び光ディスク原盤の製造方法 | |
| JPH0243259B2 (ja) | ||
| JPS589242A (ja) | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 | |
| US6313453B1 (en) | Glassmastering photoresist read after write method and system | |
| US6348294B1 (en) | Glassmastering photoresist read after write method and system | |
| US5357304A (en) | Image development apparatus and method | |
| JPH0450663B2 (ja) | ||
| JP2861073B2 (ja) | 現像装置 | |
| JPS6367550A (ja) | 情報記録原盤の欠陥検査装置 | |
| JPH0430645B2 (ja) | ||
| JPH04141840A (ja) | フォトレジスト自動現像装置 | |
| JP2613578B2 (ja) | 光ディスクの現像装置 | |
| JPS58169336A (ja) | 光デイスク装置 | |
| JPH02270147A (ja) | フォトレジスト現像方法及び装置 | |
| JP2008234797A (ja) | 現像装置および現像方法 | |
| JPS6226816Y2 (ja) | ||
| JPH01297651A (ja) | 現像装置 | |
| JPH01217743A (ja) | 現像装置 | |
| JP2004310960A (ja) | 光ディスク原盤製造装置 | |
| JPS5994251A (ja) | 情報記録装置 | |
| JPH01287274A (ja) | 成膜装置および方法 |