JPH0243343B2 - - Google Patents
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- JPH0243343B2 JPH0243343B2 JP56211212A JP21121281A JPH0243343B2 JP H0243343 B2 JPH0243343 B2 JP H0243343B2 JP 56211212 A JP56211212 A JP 56211212A JP 21121281 A JP21121281 A JP 21121281A JP H0243343 B2 JPH0243343 B2 JP H0243343B2
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- Japan
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- input
- output
- diode
- gate
- semiconductor device
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
- H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マスタースライス方式の半導体装置
に係り、入出力パツド数以上の個数だけ半導体基
板に形成された出力用トランジスタのうちの使用
に供されないトランジスタを静電破壊防止用ダイ
オードとして用いた半導体装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a master slice type semiconductor device, and the present invention relates to a master slice type semiconductor device, in which the present invention relates to a semiconductor device of the master slice type, and is provided for use among output transistors formed on a semiconductor substrate in a number equal to or greater than the number of input/output pads. The present invention relates to a semiconductor device using a transistor that is not used as a diode for preventing electrostatic damage.
半導体チツプに形成されたマスタースライス方
式の半導体装置はその集積密度が高められるにつ
れて、その集積回路パターンはますます微細化さ
れる傾向にある。そのため、その集積回路素子の
静電破壊耐圧が低下するので、その対策が講じら
れねばならなくなつて来ている。 As the integration density of master slice semiconductor devices formed on semiconductor chips increases, the integrated circuit patterns thereof tend to become increasingly finer. As a result, the electrostatic breakdown voltage of the integrated circuit element decreases, and countermeasures have become necessary.
このような要請に応える手段として、そのため
の特別の素子乃至回路を集積回路内に設けること
も考えられる。この素子乃至回路は集積回路に形
成される本来の機能を実現するのに要するもの以
外のものである。
As a means to meet such demands, it is also conceivable to provide special elements or circuits for this purpose within the integrated circuit. These elements or circuits are other than those required to realize the original functions formed in the integrated circuit.
前述のような素子乃至回路を設けることによつ
て、素子の静電破壊も防止しうることになる。し
かし、前記素子乃至回路は、静電破壊防止のため
のみのものであるため、その素子乃至回路を設け
ると、マスタースライス方式で企図した高集積化
とは裏腹の結果が出てしまうという不具合があ
る。
By providing the above-mentioned elements or circuits, it is possible to prevent electrostatic damage to the elements. However, since the above-mentioned elements and circuits are only for preventing electrostatic discharge damage, there is a problem in that the provision of such elements or circuits will produce results that are contrary to the high degree of integration intended by the master slice method. be.
本発明はこのような不具合に鑑みて創作された
もので、集積密度を低下させることなく、素子の
使用率を高めつつ、しかも静電破壊防止をも達成
しうる半導体装置を提供することをその目的とす
る。 The present invention was created in view of these problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device that can increase the usage rate of elements without reducing the integration density, and can also prevent electrostatic damage. purpose.
本発明は、半導体チツプ周囲に入出力パツドを
有し、その内側に複数のゲートを設けて成るマス
タースライス方式の半導体装置において、上記入
出力パツドの数以上の出力用トランジスタを上記
入出力パツドとゲートとの間に設け、上記入出力
パツドのうちの入力パツドとゲートとを接続する
配線に、上記出力用トランジスタの内の使用に供
されないトランジスタのベースを接続し、コレク
タを所定の電源に接続して、該使用に供されない
上記出力用トランジスタを静電破壊防止用ダイオ
ードとして接続して構成される。
The present invention provides a master slice type semiconductor device having input/output pads around a semiconductor chip and a plurality of gates provided inside the semiconductor chip, in which a number of output transistors equal to or greater than the number of input/output pads are connected to the input/output pads. Connect the base of the transistor that is not used among the output transistors to the wiring that connects the input pad of the input/output pad and the gate, and connect the collector to a specified power supply. Then, the unused output transistor is connected as a diode for preventing electrostatic damage.
マスタースライス方式に従つて半導体チツプ上
に形成され、回路構成に供されない出力用トラン
ジスタのベースが入力パツドとゲートとの配線に
接続され、その出力用トランジスタのコレクタは
所定の電源に接続されるから、前記入力パツドに
サージ等の異常電圧が入力されても、前記出力用
トランジスタにおいて緩和作用を受けて低レベル
化された電圧が前記ゲートへ印加される。
The base of the output transistor, which is formed on a semiconductor chip according to the master slice method and is not used in the circuit configuration, is connected to the wiring between the input pad and the gate, and the collector of the output transistor is connected to a specified power supply. Even if an abnormal voltage such as a surge is input to the input pad, the voltage is reduced to a low level by the output transistor and is applied to the gate.
従つて、マスタースライス方式で微細化して形
成されるゲートを前記異常電圧から保護すること
ができる。 Therefore, the gate formed by miniaturization using the master slicing method can be protected from the abnormal voltage.
第1図は本発明の一実施例を示す。1は半導体
チツプで、その周囲に入出力パツド2が配設され
ている。これら入出力パツドの内側に出力用トラ
ンジスタ3が予め設けられる。一般にマスタース
ライス方式での回路構成では、その自由度を高め
るため、マスターパターンでのトランジスタ3の
数は入出力パツド(ピン)数以上とされる。これ
ら出力用トランジスタが配設されている内側に、
所要数のゲート乃至セル4が形成されている。
FIG. 1 shows an embodiment of the invention. Reference numeral 1 denotes a semiconductor chip, around which input/output pads 2 are arranged. An output transistor 3 is provided in advance inside these input/output pads. Generally, in a circuit configuration using the master slice method, the number of transistors 3 in the master pattern is set to be greater than the number of input/output pads (pins) in order to increase the degree of freedom. Inside where these output transistors are arranged,
A required number of gates or cells 4 are formed.
そして、これらゲートの出力回路と出力パツ
ド、例えば5との間に出力用トランジスタ6が接
続される。 An output transistor 6 is connected between the output circuit of these gates and an output pad, for example 5.
このようにして接続された出力用トランジスタ
の外、回路構成に供されなかつた出力用トランジ
スタのうちの、入力パツド近傍にある、余分とな
つた出力用トランジスタ3が入力パツド6とゲー
ト4との間の配線7にダイオード接続されて接続
される。このダイオード接続のトランジスタ3の
配線7への接続端とは反対側の端子8は、ゲート
4が例えば負の駆動電圧で動作される形式のもの
であるとした場合、予め決められた基準電圧例え
ば大地電位へ接続される。 In addition to the output transistors connected in this way, of the output transistors that were not used in the circuit configuration, the redundant output transistor 3 located near the input pad connects the input pad 6 and gate 4. It is diode-connected and connected to the wiring 7 between them. If the gate 4 is of a type operated with a negative drive voltage, the terminal 8 of the diode-connected transistor 3 on the opposite side from the connection end to the wiring 7 is connected to a predetermined reference voltage, e.g. Connected to ground potential.
このようなダイオード接続の出力用トランジス
タの、入力パツドとゲートとの間の配線への接続
は必要とする入力パツド毎に施される。 Connection of such a diode-connected output transistor to the wiring between the input pad and the gate is made for each input pad required.
このような回路構成にすると、入力パツドから
サージ等の異常電圧が入つても、ダイオード接続
のトランジスタ3の容量成分が上記異常電圧に作
用してこれを入力ゲートに緩和して給与せしめる
から、微細化して静電破壊耐圧の低下している入
力ゲート4に静電破壊を生ぜしめるのを防止する
ことが出来る。この異常電圧の緩和作用は、ベー
スと広い面積で接合を形成しているコレクタに電
流が流れて生ぜしめられるので、比較的に高い異
常電圧に対しても有効となる。このような静電破
壊耐圧性の強化は上述の如きダイオード接続のト
ランジスタの数を増すことによつて達成される。
このようなトランジスタは入力パツト近くにある
のでその接続が容易である。 With such a circuit configuration, even if an abnormal voltage such as a surge enters from the input pad, the capacitance component of the diode-connected transistor 3 acts on the abnormal voltage and relieves it and supplies it to the input gate. It is possible to prevent electrostatic damage from occurring in the input gate 4 whose electrostatic breakdown voltage has decreased as a result of the electrostatic damage. This abnormal voltage mitigation effect is produced by current flowing through the collector, which forms a junction with the base over a wide area, and is therefore effective even against relatively high abnormal voltages. Such enhancement of electrostatic breakdown voltage is achieved by increasing the number of diode-connected transistors as described above.
Since such a transistor is located near the input port, it is easy to connect it.
このような静電破壊耐圧性の強化は予めチツプ
上に形成されている出力用トランジスタを用いて
達成されるから、チツプ上の素子の使用率を高め
ることになるし、集積回路の微細化を推進させ得
ることにもなる。 This enhancement of electrostatic breakdown voltage is achieved by using output transistors that are pre-formed on the chip, which increases the utilization of elements on the chip and facilitates the miniaturization of integrated circuits. It can also be promoted.
以上の説明から明らかなように本発明によれ
ば、マスタースライス方式で半導体装置の半導体
基板に予め形成されている出力用トランジスタを
静電破壊防止用ダイオードとして用いているので
素子使用率が向上し、そのダイオードによる静電
破壊耐圧性の強化により、集積回路の微細化を更
に推進させ得ることになる。そして、このような
利点は前記ダイオードの増加の許される限度にお
いて、容易に増強することが可能である。また、
前述の効果は前述ダイオード接続の容易性が得ら
れる中で獲得される等の優れた効果を享受出来
る。
As is clear from the above description, according to the present invention, the output transistor, which is pre-formed on the semiconductor substrate of the semiconductor device using the master slicing method, is used as the diode for preventing electrostatic damage, so the element usage rate is improved. By strengthening the electrostatic breakdown voltage with the diode, it will be possible to further promote the miniaturization of integrated circuits. Such advantages can be easily enhanced within the permissible increase in the number of diodes. Also,
The above-mentioned effects can be obtained while the diode connection described above is facilitated.
第1図は本発明の一実施例を示す図である。
第1図において、1は半導体チツプ、2は入出
力パツド、3は出力用トランジスタ、4はゲー
ト、6は入出力パツドのうちの入力パツド、7は
配線である。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a semiconductor chip, 2 is an input/output pad, 3 is an output transistor, 4 is a gate, 6 is an input pad among the input/output pads, and 7 is a wiring.
Claims (1)
の内側に複数のゲートを設けて成るマスタースラ
イス方式の半導体装置において、上記入出力パツ
ドの数以上の出力用トランジスタを上記入出力パ
ツドとゲートとの間に設け、上記入出力パツドの
うちの入力パツドとゲートとを接続する配線に、
上記出力用トランジスタの内の使用に供されない
トランジスタのベースを接続し、コレクタを所定
の電源に接続して、該使用に供されない上記出力
用トランジスタを静電破壊防止用ダイオードとし
て接続したことを特徴とする半導体装置。1. In a master slice type semiconductor device having an input/output pad around a semiconductor chip and a plurality of gates provided inside the semiconductor chip, a number of output transistors equal to or greater than the number of input/output pads are connected between the input/output pads and gates. In the wiring that connects the input pad and gate of the input/output pads,
The bases of the unused output transistors are connected, the collectors are connected to a predetermined power source, and the unused output transistors are connected as a diode for preventing electrostatic damage. semiconductor device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56211212A JPS58115844A (en) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56211212A JPS58115844A (en) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58115844A JPS58115844A (en) | 1983-07-09 |
| JPH0243343B2 true JPH0243343B2 (en) | 1990-09-28 |
Family
ID=16602167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56211212A Granted JPS58115844A (en) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58115844A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59208771A (en) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
| JPS6068721A (en) * | 1983-09-22 | 1985-04-19 | Fujitsu Ltd | Ecl circuit |
| JPS6146046A (en) * | 1984-08-10 | 1986-03-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57181152A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-08 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit device |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP56211212A patent/JPS58115844A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58115844A (en) | 1983-07-09 |
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