JPH0243743A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0243743A JPH0243743A JP19376088A JP19376088A JPH0243743A JP H0243743 A JPH0243743 A JP H0243743A JP 19376088 A JP19376088 A JP 19376088A JP 19376088 A JP19376088 A JP 19376088A JP H0243743 A JPH0243743 A JP H0243743A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- bottom plate
- semiconductor device
- container
- semiconductor substrate
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、両面に電極を有する半導体基板が容器内に収
容され、導電性の容器底板には一面の電極面において固
着され、他面の電極に接続される電極体は容器上方の外
部において外部接続体と加圧接触することにより使用さ
れる半導体装置に関する。
容され、導電性の容器底板には一面の電極面において固
着され、他面の電極に接続される電極体は容器上方の外
部において外部接続体と加圧接触することにより使用さ
れる半導体装置に関する。
半導体装1を外部回路と接続する場合、外部導体板への
ねじ込み、ねじ止め、ろう付け、外部接続導線とのねし
止め、ろう付け、かしめなどの方法が用いられる。その
ほかに平面的な加圧接触を利用する場合がある。第2図
はそのような半導体装置の一例で、半導体基板1を冷却
体を兼ねる金属製底板2と樹脂製側壁3よりなる容器内
に収容し、基板1の下面の電極を底板2と、上面の電極
を電極体4とはんだ付けし、電極体4の上部が露出する
ように樹脂5を注型したものである。この半導体装置を
使用する際は、下部接続導体板と上部接続導体の間には
さみ、上部接続導体を介して、例えば150kg/ca
+”の圧力を電極体4に加えることにより、上下の接続
導体と加圧接触により接続させる。
ねじ込み、ねじ止め、ろう付け、外部接続導線とのねし
止め、ろう付け、かしめなどの方法が用いられる。その
ほかに平面的な加圧接触を利用する場合がある。第2図
はそのような半導体装置の一例で、半導体基板1を冷却
体を兼ねる金属製底板2と樹脂製側壁3よりなる容器内
に収容し、基板1の下面の電極を底板2と、上面の電極
を電極体4とはんだ付けし、電極体4の上部が露出する
ように樹脂5を注型したものである。この半導体装置を
使用する際は、下部接続導体板と上部接続導体の間には
さみ、上部接続導体を介して、例えば150kg/ca
+”の圧力を電極体4に加えることにより、上下の接続
導体と加圧接触により接続させる。
しかし、第2図に示した半導体装置を、例えば断続的な
通電を行う半導体装置として使用する場合、電力I置火
により温度の上昇する半導体基板lと底板2の間、ある
いは半導体基板lとfi導体の間のはんだ付部分に疲労
が生じ、特性の劣化が生しやすい欠点があった。この欠
点を避けるためには内部の各部品間も加圧接触させれば
よいが、特別な材料、高い加工精度を必要とするので、
低価格の半導体装置には採用不可能である。さらに第2
図に示した半導体装置では、電橋体4を加圧する圧力が
直接半導体基板1の中央部にかかるので、底板2の上面
と電橋体4の下面との間の平行度が十分でないときには
半導体基板に偏荷重が加ねり、それによっても特性劣化
が起こる可能性があった。
通電を行う半導体装置として使用する場合、電力I置火
により温度の上昇する半導体基板lと底板2の間、ある
いは半導体基板lとfi導体の間のはんだ付部分に疲労
が生じ、特性の劣化が生しやすい欠点があった。この欠
点を避けるためには内部の各部品間も加圧接触させれば
よいが、特別な材料、高い加工精度を必要とするので、
低価格の半導体装置には採用不可能である。さらに第2
図に示した半導体装置では、電橋体4を加圧する圧力が
直接半導体基板1の中央部にかかるので、底板2の上面
と電橋体4の下面との間の平行度が十分でないときには
半導体基板に偏荷重が加ねり、それによっても特性劣化
が起こる可能性があった。
本発明の課題は、上記の欠点を除き外部導体との接続の
ために加える圧力により半導体基板に偏荷重が生ずるこ
とがなく、また内部のろう件部の熱疲労も少ない半導体
装置を堤供することにある。
ために加える圧力により半導体基板に偏荷重が生ずるこ
とがなく、また内部のろう件部の熱疲労も少ない半導体
装置を堤供することにある。
(課題を解決するための手段〕
上記の課題の解決のため、本発明の半導体装1は、導電
性底板と側壁よりなる容器の底板上に複数の半導体基板
が間隔を介して平行な二列をなして配置され、半導体基
板の下面の電極は底板に、上面の電極は対向する他の列
の半導体基板の上面の電極と共通で基板の配列方向に垂
直な方向に並ぶ電極板にそれぞれ固着され、両列の半導
体基板間の間隔の直上に位置する一つの加圧体が各1i
掻体の中央部に固着され、容器内にはその加圧体の上部
を露出させて樹脂が充填されているものとする。
性底板と側壁よりなる容器の底板上に複数の半導体基板
が間隔を介して平行な二列をなして配置され、半導体基
板の下面の電極は底板に、上面の電極は対向する他の列
の半導体基板の上面の電極と共通で基板の配列方向に垂
直な方向に並ぶ電極板にそれぞれ固着され、両列の半導
体基板間の間隔の直上に位置する一つの加圧体が各1i
掻体の中央部に固着され、容器内にはその加圧体の上部
を露出させて樹脂が充填されているものとする。
半導体基板が複数に分割されているので、各基板のろう
付面積は小さくなり、熱疲労も起こりにり(、また加圧
体への直下には半導体基板はなく、加圧体への加圧力は
、中央部の下側に弾性をもつ樹脂のある電橋体の両端部
で各半導体基板に加わるため、加圧体の下面と底板の上
面との間の平行度が十分でなくても、大きな偏荷重が半
導体Vi仮に生ずることはない。
付面積は小さくなり、熱疲労も起こりにり(、また加圧
体への直下には半導体基板はなく、加圧体への加圧力は
、中央部の下側に弾性をもつ樹脂のある電橋体の両端部
で各半導体基板に加わるため、加圧体の下面と底板の上
面との間の平行度が十分でなくても、大きな偏荷重が半
導体Vi仮に生ずることはない。
第1図は本発明の一実施例の半導体装置の断面図、7g
3図はその容器底板上の部分の斜視図で、第2図と共通
の部分には同一の符号が付されている。この半導体装置
では半導体基板lは6個に分割され、二列に配置されて
容器の金属製底板2の上に下面!橋がはんだ付けされて
いる。一方上面電橋には対向している半導体基板の上面
電極と共通の厚さ0.5 luの電極板6がはんだ付け
されている。従って、3本のti板6が半導体基板lの
配列方向に垂直な方向に平行に並んでいる。さらにこの
各電極板6の中央部の上に1本の高さ5鶴の柱状加圧体
7がはんだ付けされている。この加圧体7は両列の半導
体基板1の間隔の直上にある。
3図はその容器底板上の部分の斜視図で、第2図と共通
の部分には同一の符号が付されている。この半導体装置
では半導体基板lは6個に分割され、二列に配置されて
容器の金属製底板2の上に下面!橋がはんだ付けされて
いる。一方上面電橋には対向している半導体基板の上面
電極と共通の厚さ0.5 luの電極板6がはんだ付け
されている。従って、3本のti板6が半導体基板lの
配列方向に垂直な方向に平行に並んでいる。さらにこの
各電極板6の中央部の上に1本の高さ5鶴の柱状加圧体
7がはんだ付けされている。この加圧体7は両列の半導
体基板1の間隔の直上にある。
従って、容器内に充填された注型樹脂5の上に露出して
いる加圧体7の上面に下方に向けて加圧しても、その力
は直接半導体基板1には加わらず、!掻板6を介して樹
脂層5および半導体基板1に分散して加わり、さらに底
板2に加わる。この構造において各半導体基板1は加圧
体7と底板2の間に並列接続され、同種の半導体基板を
用いれば面積の大きい半導体基板1枚の場合と同じ機能
の半導体装置が得られる。しかし、異なる種類の半導体
素子基板を用いて異なる半導体素子を並列接続した半導
体装置を製作することもできる。ただし、その場合も各
基板の厚さは同一であることが必要である。
いる加圧体7の上面に下方に向けて加圧しても、その力
は直接半導体基板1には加わらず、!掻板6を介して樹
脂層5および半導体基板1に分散して加わり、さらに底
板2に加わる。この構造において各半導体基板1は加圧
体7と底板2の間に並列接続され、同種の半導体基板を
用いれば面積の大きい半導体基板1枚の場合と同じ機能
の半導体装置が得られる。しかし、異なる種類の半導体
素子基板を用いて異なる半導体素子を並列接続した半導
体装置を製作することもできる。ただし、その場合も各
基板の厚さは同一であることが必要である。
本発明によれば、複数個の半導体基板を容器底板上に二
列配置とし、各列の向かい合う基板の上面電極に電極板
を固着し、さらに各電極板のh tMi中央部を一つの
加圧体に固着することにより、容器外で加圧体に加わる
圧力は直接半導体基板に加わらない構造となった。この
構造により、発熱部分が分散され、半導体基板の両面の
電極に対するろう付部分のろうの熱疲労による劣化が生
じにくく、半導体基板への偏荷重による特性劣化も防1
1−。
列配置とし、各列の向かい合う基板の上面電極に電極板
を固着し、さらに各電極板のh tMi中央部を一つの
加圧体に固着することにより、容器外で加圧体に加わる
圧力は直接半導体基板に加わらない構造となった。この
構造により、発熱部分が分散され、半導体基板の両面の
電極に対するろう付部分のろうの熱疲労による劣化が生
じにくく、半導体基板への偏荷重による特性劣化も防1
1−。
された信頼性の高い半導体装置が得られる。
第1図は本発明の一実施例の半導体装置の断面図、第2
図は従来の半導体装置の断面図、第3図は第1図の装置
の容器底板上の部分の斜視図である。 l 半導体基板、 :容器底板、 3 : 容器側壁、 5 : 注型樹脂、 6 : 電極板、 加圧体。 第1図 第2図 第3図
図は従来の半導体装置の断面図、第3図は第1図の装置
の容器底板上の部分の斜視図である。 l 半導体基板、 :容器底板、 3 : 容器側壁、 5 : 注型樹脂、 6 : 電極板、 加圧体。 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- 1)導電性底板と側壁よりなる容器の底板上に複数の半
導体基板が間隔が平行な二列をなして配置され、半導体
基板の下面の電極は底板に、上面の電極は対向する他の
列の半導体基板の上面の電極と共通で基板の配列方向に
垂直な方向に並ぶ電極板にそれぞれ固着され、両列の半
導体基板間の間隔の直上に位置する一つの加圧体が各電
極体の中央部に固着され、容器内にはその加圧体の上部
を露出させて樹脂が充填されたことを特徴とする半導体
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19376088A JPH0243743A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19376088A JPH0243743A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0243743A true JPH0243743A (ja) | 1990-02-14 |
Family
ID=16313352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19376088A Pending JPH0243743A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0243743A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5258522A (en) * | 1991-08-01 | 1993-11-02 | Nippon Mining Co., Ltd. | Imidazole-silane compounds and metal surface finishing agent containing the same |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP19376088A patent/JPH0243743A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5258522A (en) * | 1991-08-01 | 1993-11-02 | Nippon Mining Co., Ltd. | Imidazole-silane compounds and metal surface finishing agent containing the same |
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