JPH0244522A - Production of perpendicular magnetic disk - Google Patents
Production of perpendicular magnetic diskInfo
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- JPH0244522A JPH0244522A JP19543488A JP19543488A JPH0244522A JP H0244522 A JPH0244522 A JP H0244522A JP 19543488 A JP19543488 A JP 19543488A JP 19543488 A JP19543488 A JP 19543488A JP H0244522 A JPH0244522 A JP H0244522A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて好適な垂
直磁気ディスクの製造方法に関し、ディスク基板の材質
に関係なく、また高透磁率な軟磁性層(裏打ち層)を厚
膜化しても、その軟磁性層上にヘッド吸着を防止する所
望の粗面化された表面を有する垂直記録層を容易に形成
することを目的とし、
ディスク基板上に高透磁率な軟磁性層を形成し、その表
面に網目状電極を対向配置して該軟磁性層と網目状電極
間に電圧を印加し、電解工・ンチングにより軟磁性層の
表面を微小な凹凸を有する粗面にする。または該ディス
ク基板上に、その半径方向に少なくとも1列に設けた複
数本の針状電極を所定間隔をもって対向配置して該ディ
スク基板と複数本の針状電極間に電圧を印加し、ディス
ク基板上に前記複数本の針状電極に対応する微小な凹凸
状の粗面を有するめっき層からなる高透磁率な軟磁性層
を形成した後、該軟磁性層の粗面上に垂直記録層を形成
するように構成とする。[Detailed Description of the Invention] [Summary] This invention relates to a method of manufacturing a perpendicular magnetic disk suitable for use in a perpendicular magnetic recording type magnetic disk device, regardless of the material of the disk substrate, The purpose of this technology is to easily form a perpendicular recording layer with a desired roughened surface that prevents head adsorption on the soft magnetic layer even if the layer (layer) is made thicker, and has high magnetic permeability on the disk substrate. A soft magnetic layer is formed, mesh electrodes are arranged opposite to each other on the surface thereof, a voltage is applied between the soft magnetic layer and the mesh electrode, and the surface of the soft magnetic layer is made to have minute irregularities by electrolytic processing and nching. Make the surface rough. Alternatively, on the disk substrate, a plurality of needle-like electrodes provided in at least one row in the radial direction are arranged facing each other at a predetermined interval, and a voltage is applied between the disk substrate and the plurality of needle-like electrodes. After forming a high permeability soft magnetic layer made of a plating layer having a rough surface with minute irregularities corresponding to the plurality of needle electrodes, a perpendicular recording layer is formed on the rough surface of the soft magnetic layer. It is configured to form.
本発明は垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて
好適な垂直磁気ディスクの製造方法に係り、特にCS
S (Contact 5tart 5top)動作等
における磁気ヘッドの吸着を防止した摺動特性の良い二
層膜構造の垂直磁気ディスクの製造方法に関するもので
ある。The present invention relates to a method of manufacturing a perpendicular magnetic disk suitable for use in a perpendicular magnetic recording type magnetic disk device, and in particular, to
The present invention relates to a method for manufacturing a perpendicular magnetic disk having a double-layer structure and having good sliding characteristics that prevents the magnetic head from being attracted during S (Contact 5-tart-5-top) operation.
磁気ディスク装置においては、磁気ディスクの回転が停
止状態では磁気ヘッドがディスク面に接触しており、該
磁気ディスクの回転速度の上昇と共に磁気ヘッドが摺動
から浮上して一定間隔を保った状態で情報の記録再生を
行うC8S方式が広く用いられている。In a magnetic disk drive, when the rotation of the magnetic disk is stopped, the magnetic head is in contact with the disk surface, and as the rotational speed of the magnetic disk increases, the magnetic head lifts from sliding and maintains a constant distance. The C8S method for recording and reproducing information is widely used.
このようなC8S方式では、磁気ヘッドが磁気ディスク
面上に浮上するまでに比較的間遠で該ディスク面と接触
摺動することから、磁気ヘッド及び磁気ディスク面の摩
擦損傷を防止するために、該磁気ディスク表面には潤滑
膜等が施されている。In such a C8S method, since the magnetic head comes into contact with and slides on the magnetic disk surface at a relatively long distance before it floats above the surface, in order to prevent frictional damage to the magnetic head and the magnetic disk surface, A lubricating film or the like is applied to the surface of the magnetic disk.
この潤滑膜が施された磁気ディスクの表面が平滑過ぎる
と、C8S動作時等において磁気ヘッドが対向するディ
スク面に吸着してヘッドクラッシュが発生する傾向にあ
る。このため、C8S動作等にヘッド吸着のない、耐ク
ラツシユ性に優れた垂直磁気ディスクの製造方法が必要
とされている。If the surface of the magnetic disk coated with this lubricating film is too smooth, the magnetic head tends to stick to the opposing disk surface during C8S operation, causing a head crash. Therefore, there is a need for a method of manufacturing a perpendicular magnetic disk that does not cause head attraction during C8S operation and has excellent crash resistance.
C8S動作等におけるヘッド吸着を防止した耐クラツシ
ユ性を有する従来の垂直磁気ディスクの製造方法として
は、第10図(a)に示すように先ずディスク基板1の
表面をラッピングテープ等を用いた機械的な粗面加工(
テクスチャリング法とも呼ばれる)によって、微小な凹
凸(0,1μm以下)を有する粗面2にした後、第10
図(b)に示すようにかかる基板1の表面にNi−Fe
からなる、例えば0.5μmの膜厚の高透磁率な軟磁性
層(以下、軟磁性裏打ち層と称する)3及びCo−Cr
からなる0、2μmの膜厚の垂直記録層4とをめっき法
及びスパッタリング法等により順に形成する。As shown in FIG. 10(a), the conventional method for manufacturing perpendicular magnetic disks with crush resistance that prevents head adsorption during C8S operation, etc. is to first mechanically coat the surface of the disk substrate 1 using a wrapping tape or the like. Rough surface processing (
After creating a rough surface 2 with minute irregularities (0.1 μm or less) using the texturing method, the 10th
As shown in Figure (b), the surface of the substrate 1 is coated with Ni-Fe.
A high magnetic permeability soft magnetic layer (hereinafter referred to as soft magnetic backing layer) 3 having a film thickness of, for example, 0.5 μm and Co-Cr.
A perpendicular recording layer 4 having a film thickness of 0.2 μm is sequentially formed by plating, sputtering, or the like.
そして第10図(C)に示すようにその垂直記録層4の
表面に磁気ヘッドの接触摺動時の摩擦、摩耗を低減する
ために保護膜5及び潤滑膜6を施している。As shown in FIG. 10(C), a protective film 5 and a lubricating film 6 are applied to the surface of the perpendicular recording layer 4 in order to reduce friction and wear when the magnetic head contacts and slides.
ここでディスク基板1の表面を粗面2にする所以は、そ
の粗面2上に軟磁性裏打ち層3、垂直記録層4、保護膜
5及び潤滑膜6を順に被着形成すると、該潤滑膜6が施
された最上面が、第10図(C)に示すように前記ディ
スク基板1の表面の粗面状態を継承した面となり、この
表面状態によって磁気ヘッドとの接触面積が低減されて
ヘッド吸着が防がれ、しかも潤滑膜の膜厚が適度に保持
されると共に、磁気ヘッドに対する低摩擦、低摩耗が維
持されている。The reason why the surface of the disk substrate 1 is made into a rough surface 2 is that when a soft magnetic backing layer 3, a perpendicular recording layer 4, a protective film 5, and a lubricating film 6 are sequentially deposited on the rough surface 2, the lubricating film As shown in FIG. 10(C), the top surface on which No. 6 has been applied is a surface that inherits the rough surface condition of the surface of the disk substrate 1, and this surface condition reduces the contact area with the magnetic head, and the head Adsorption is prevented, the thickness of the lubricating film is maintained at an appropriate level, and low friction and wear on the magnetic head are maintained.
〔発明が解決しようとする課題]
ところで上記したようにヘッド吸着等を防止するために
ディスク基板1の表面を機械的な粗面加圧(テクスチャ
リング法とも呼ばれる)により粗面2にしているが、該
ディスク基板1の材質がアルミニウム、アルミニウム合
金等に比べて、比較的硬いNiP、或いはガラス等から
なるディスク基板を用いた場合、その表面を機械的に粗
面加工する際の表面荒さの制御が難しい。[Problems to be Solved by the Invention] As described above, the surface of the disk substrate 1 is made into a rough surface 2 by mechanical roughening pressure (also called texturing method) in order to prevent head adsorption, etc. When the disk substrate 1 is made of NiP or glass, which is relatively harder than aluminum, aluminum alloy, etc., the surface roughness can be controlled when the surface is mechanically roughened. is difficult.
また上記したような二層膜構造の垂直磁気ディスクにお
ける高透磁率な軟磁性裏打ち層3は、記録再生時に垂直
記録層4の裏面に発生する分極磁荷を抑制し、かつ垂直
減磁界を減らすことにより磁化の減少を防ぎ、更に磁気
ヘッドに対する磁束のリターンパスを形成することから
、記録再生効率を向上させる磁気ヘッドの一部の機能を
担っており、より良好な記録再生特性を得るためにはそ
の膜厚を厚くすることが要求される。In addition, the soft magnetic backing layer 3 with high magnetic permeability in the perpendicular magnetic disk with the above-mentioned two-layer film structure suppresses the polarization magnetic charge generated on the back surface of the perpendicular recording layer 4 during recording and reproduction, and reduces the perpendicular demagnetization field. This prevents magnetization from decreasing and also forms a return path for the magnetic flux to the magnetic head, so it plays a part in the function of the magnetic head to improve recording and reproducing efficiency, and in order to obtain better recording and reproducing characteristics. is required to increase its film thickness.
従って、前記軟磁性裏打ち層3の膜厚をミクロンオーダ
に厚くすると、その表面状態がディスク基板1表面に形
成した粗面を継承する微小な凹凸面となり難くなる。特
に成膜速度の大きいめっき法により膜厚の厚い軟磁性裏
打ち層を形成する場合には、この現象が顕著であるため
、当該ディスクの最表面にもディスク基板面の粗面の影
響が現れず、ヘッド吸着の防止効果が失われるといった
問題があった。Therefore, when the thickness of the soft magnetic underlayer 3 is increased to the order of microns, the surface condition becomes less likely to become a minute uneven surface that inherits the rough surface formed on the surface of the disk substrate 1. This phenomenon is particularly noticeable when forming a thick soft magnetic backing layer using a plating method that has a high deposition rate, so the effect of the rough surface of the disk substrate does not appear on the outermost surface of the disk. , there was a problem that the effect of preventing head adsorption was lost.
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、ディスク基板の
材質に関係なく、また高透磁率な軟磁性裏打ち層を厚膜
化しても、その軟磁性裏打ち層上にヘッド吸着を防止す
る所望の粗面化された表面を有する垂直記録層を容易に
形成することができる新規な垂直磁気ディスクの製造方
法を提供することを目的とするものである。In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention provides a desired method for preventing head adsorption onto a soft magnetic backing layer with high magnetic permeability, regardless of the material of the disk substrate and even if the soft magnetic backing layer with high magnetic permeability is thickened. It is an object of the present invention to provide a novel method for manufacturing a perpendicular magnetic disk that can easily form a perpendicular recording layer having a roughened surface.
上記した目的を達成するため、第1発明に係る製造方法
では、ディスク基板上に軟磁性裏打ち層を形成し、その
表面に網目状電極を対向配置し、該軟磁性裏打ち層と網
目状電極間に電圧を印加して電解エツチングを行い、軟
磁性裏打ち層の表面を前記網目状電極の網目に対応する
微小な凹凸を有する粗面にした後、該軟磁性裏打ち層の
粗面上に垂直記録層を形成するように構成とする。In order to achieve the above object, in the manufacturing method according to the first invention, a soft magnetic backing layer is formed on a disk substrate, mesh electrodes are arranged facing each other on the surface of the soft magnetic backing layer, and a gap between the soft magnetic backing layer and the mesh electrode is provided. After applying a voltage to perform electrolytic etching to make the surface of the soft magnetic backing layer rough with minute irregularities corresponding to the mesh of the mesh electrode, perpendicular recording is performed on the rough surface of the soft magnetic backing layer. The composition is configured to form a layer.
また第2発明に係る製造方法では、ディスク基板上に軟
磁性裏打ち層及び垂直記録層を順に積層形成した垂直磁
気ディスクにおける軟磁性裏打ち層の形成工程において
、前記ディスク基板上に、その半径方向に少なくとも1
列に設けた複数本の針状電極を所定間隔をもって対向配
置し、該ディスク基板と複数本の針状電極間に電圧を印
加した状態でディスク基板上に、前記複数本の針状電極
に対応した微小な凹凸状の粗面を有するめっき層からな
る軟磁性裏打ち層を形成することを特徴としている。Further, in the manufacturing method according to the second invention, in the step of forming a soft magnetic under layer in a perpendicular magnetic disk in which a soft magnetic under layer and a perpendicular recording layer are sequentially laminated on a disk substrate, at least 1
A plurality of needle-like electrodes provided in a row are arranged facing each other at a predetermined interval, and a voltage is applied between the disk substrate and the plurality of needle-like electrodes on the disk substrate, corresponding to the plurality of needle-like electrodes. The soft magnetic backing layer is formed of a plating layer having a rough surface with minute irregularities.
第1発明の製造方法では、ディスク基板上に形成された
例えばNi−Feからなる高透磁率な軟磁性裏打ち層を
陽極、対向配置した網目状電極を陰極とし、この両者間
に電圧を印加して電解エツチングを行うと、該網目状電
極の網線部分と対応する軟磁性裏打ち層部分が他の網目
部分よりも速い速度で電気化学的に溶かされて選択的に
エツチングされることから、該軟磁性裏打ち層の表面が
微小な凹凸状の粗面となる。In the manufacturing method of the first invention, a high permeability soft magnetic backing layer made of, for example, Ni-Fe formed on a disk substrate is used as an anode, a mesh electrode arranged facing each other is used as a cathode, and a voltage is applied between the two. When electrolytic etching is performed, the soft magnetic backing layer portion corresponding to the mesh portion of the mesh electrode is electrochemically melted at a faster rate than other mesh portions and selectively etched. The surface of the soft magnetic underlayer becomes a rough surface with minute irregularities.
また第2発明の製造方法では、ディスク基板と所定間隔
をもって対向配置した複数本の針状電極間に電圧を印加
してディスク基板上に例えばNi−Feからなるめっき
層(軟磁性裏打ち層)を形成すると、各針状電極の先端
と対応するディスク基板の表面部分への成膜速度が、他
の表面部分よりも速いため、めっき層の膜厚が部分的に
異なり、成膜されためっき層(軟磁性裏打ち層)の表面
は微小な凹凸状に粗面化される。Further, in the manufacturing method of the second invention, a plating layer (soft magnetic backing layer) made of, for example, Ni-Fe is formed on the disk substrate by applying a voltage between a plurality of needle-like electrodes arranged facing each other at a predetermined distance from the disk substrate. When formed, the deposition rate on the surface part of the disk substrate corresponding to the tip of each needle electrode is faster than on other surface parts, so the thickness of the plating layer differs partially, and the formed plating layer The surface of the (soft magnetic underlayer) is roughened into minute irregularities.
従って、上記した軟磁性裏打ち層の粗面上に垂直記録層
を形成することにより、該軟磁性裏打ち層の厚さに影響
されることなく、その微小な凹凸状の粗面を継承した表
面を有する垂直記録層を容易に形成することができる。Therefore, by forming a perpendicular recording layer on the rough surface of the soft magnetic backing layer described above, a surface that inherits the rough surface with minute irregularities can be created without being affected by the thickness of the soft magnetic backing layer. A perpendicular recording layer can be easily formed.
その結果、ヘッド吸着のない低摩擦の良好な摺動特性を
有する垂直磁気ディスクが得られる。As a result, a perpendicular magnetic disk with low friction and good sliding characteristics without head attraction is obtained.
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図は本発明の第1発明に係る垂直磁気ディスクの製
造方法の一実施例を説明するための概略電解エツチング
装置図である。FIG. 1 is a schematic diagram of an electrolytic etching apparatus for explaining an embodiment of the method for manufacturing a perpendicular magnetic disk according to the first aspect of the present invention.
本実施例では、例えば予めスパッタリング法等によりN
i−Feからなるめっき下地膜12が形成されたガラス
等からなる非磁性のディスク基板11上の表面に、硫酸
ニッケル(NiS04・6H20)と硫化第一鉄(Fe
SO,・7H20)とを主成分とするめっき液を用い、
電圧:5.OV、電流密度:6八/ da”のめっき成
膜条件により2〜3μmの厚さのNi−Feからなる厚
い高透磁率な軟磁性裏打ちN13を形成する。In this example, N
Nickel sulfate (NiS04.6H20) and ferrous sulfide (Fe
Using a plating solution whose main component is SO, 7H20),
Voltage: 5. A thick soft magnetic backing N13 made of Ni-Fe with a thickness of 2 to 3 μm and having high magnetic permeability is formed under the plating conditions of OV, current density: 68/da''.
次に第1図に示すように例えば前記Ni−Feめっき液
を電解液とするか、或いは燐酸系電解液等の電解液22
を満たした電解槽21内に、基板支持体23に取付けら
れた前記軟磁性裏打ち層13が形成されたディスク基板
11と網目状電極24とを、例えば0.1μ情程度の間
隔をもって対向配置し、該軟磁性裏打ち層13を陽極、
網目状電極24を陰極としてこの両極間に電圧を印加し
て電解エツチングを行う。Next, as shown in FIG. 1, for example, the Ni-Fe plating solution may be used as an electrolyte, or an electrolyte 22 such as a phosphoric acid electrolyte may be used.
The disk substrate 11 on which the soft magnetic backing layer 13 is formed, which is attached to the substrate support 23, and the mesh electrode 24 are arranged facing each other with an interval of, for example, about 0.1μ in an electrolytic bath 21 filled with , the soft magnetic underlayer 13 is an anode;
Electrolytic etching is performed by applying a voltage between the mesh electrode 24 as a cathode and the two electrodes.
上記網目状電極24としては、例えば目の開きが0.1
1の!lid (Cu)メツシュにニッケルめっきを施
したものを用い、電解電流は前記Ni−Feめっき時の
175、通電時間は同じ< 1/10程度にする。The mesh electrode 24 may have a mesh opening of 0.1, for example.
1! A lid (Cu) mesh plated with nickel is used, the electrolytic current is set to 175, and the current application time is set to about <1/10 of that of the Ni-Fe plating.
か(すれば、第2図に示すように前記網目状電極24の
網線24aに対応する軟磁性裏打ち層13の表面部分が
網目24b部分に対して選択的に電解エツチングされて
、第3図に示すように微小な凹凸を有する粗面14が形
成される。(Then, as shown in FIG. 2, the surface portion of the soft magnetic underlayer 13 corresponding to the mesh lines 24a of the mesh electrode 24 is selectively electrolytically etched with respect to the mesh 24b portion, and as shown in FIG. A rough surface 14 having minute irregularities is formed as shown in FIG.
従って、第4図に示すようにこの軟磁性裏打ち層13の
粗面14上に、例えばCo−Crからなる0、2μmの
膜厚の垂直記録層15をスパッタリング法等により形成
し、その表面に更に磁気ヘッドの接触摺動時の摩擦、摩
耗を低減するために保護膜16及び潤滑膜17を施して
完成させることにより、高透磁率な軟磁性裏打ち層13
の膜厚を厚くしても、その厚さに影響されることなく該
軟磁性裏打ち層I3上に、その微小な凹凸状の粗面14
を継承した表面を有する垂直記録層15、更には保護膜
16及び潤滑膜17を容易に形成することができる。Therefore, as shown in FIG. 4, a perpendicular recording layer 15 made of, for example, Co-Cr and having a thickness of 0.2 μm is formed on the rough surface 14 of the soft magnetic underlayer 13 by sputtering or the like. Furthermore, a protective film 16 and a lubricating film 17 are applied to reduce friction and wear when the magnetic head contacts and slides, thereby forming a soft magnetic backing layer 13 with high magnetic permeability.
Even if the film thickness of
It is possible to easily form the perpendicular recording layer 15 having a surface inherited from the above, as well as the protective film 16 and the lubricating film 17.
また第5図は本発明の第2発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を説明するための概略めっき装置
図である。Further, FIG. 5 is a schematic diagram of a plating apparatus for explaining an embodiment of a method for manufacturing a perpendicular magnetic disk according to the second aspect of the present invention.
本実施例では図示のように硫酸ニッケル(NiSOイー
61120)と硫化第一鉄(FeSO4・7HzO)
とを主成分とするめっき液42を満たしためっき浴槽4
1内に、基板支持体43に取付けられた、例えば表面に
予めスパッタリング法等によりNi−Feからなるめっ
き下地膜32が形成されたガラス等からなる非磁性のデ
ィスク基板31と該ディスク基板31の半径方向に1列
、または複数列に設けた複数本のタングステン(−)か
らなる針状電極44とを所定間隔(例えば1μm間隔程
度)をもって対向配置し、該ディスク基板31上のめっ
き下地膜32(陽極)と複数本の針状電極44(陽極)
間に4〜5■の電圧を印加し、50mA/cm”の電流
密度によってディスク基板31上に、2〜3μmの厚さ
のNi−Feめっき層を形成する。In this example, as shown in the figure, nickel sulfate (NiSO E 61120) and ferrous sulfide (FeSO4.7HzO) were used.
A plating bath 4 filled with a plating solution 42 mainly composed of
1, a non-magnetic disk substrate 31 made of glass or the like on which a plating base film 32 made of Ni--Fe has been formed in advance by sputtering or the like on the surface, which is attached to a substrate support 43; The plating base film 32 on the disk substrate 31 is arranged to face a plurality of tungsten (-) needle electrodes 44 provided in one or more rows in the radial direction with a predetermined interval (for example, about 1 μm interval). (anode) and multiple needle-like electrodes 44 (anode)
A voltage of 4 to 5 μm is applied between these steps, and a Ni--Fe plating layer with a thickness of 2 to 3 μm is formed on the disk substrate 31 at a current density of 50 mA/cm.
前記複数本の針状電極44としては、均一な粗面を形成
するために不溶性のタングステン(り針を用いているこ
とから、めっき中におけるめっき液内のNi、Fe等の
成分が減少するので、前記めっき浴槽41内のめっき液
42に新しいめっき液を常時補充するようにしている。Since insoluble tungsten needles are used as the plurality of needle electrodes 44 to form a uniform rough surface, components such as Ni and Fe in the plating solution during plating are reduced. The plating solution 42 in the plating bath 41 is constantly replenished with new plating solution.
まためっき操作としては、前記ディスク基板31の半径
方向に1列、または複数列に設けた複数本の針状電極4
4と対向するディスク基板31を、所定ステップ幅ずつ
一定時間毎に回転移動させてめっきを行う。The plating operation involves plating a plurality of needle-like electrodes 4 provided in one or more rows in the radial direction of the disk substrate 31.
Plating is performed by rotating the disk substrate 31 facing the substrate 4 by a predetermined step width at regular intervals.
かくすれば、第6図に示すように各針状電極44の先端
と対応するディスク基板31上のめっき下地膜32の表
面部分へのめっき成膜速度が、他の表面部分よりも速い
ため、めっき層の膜厚が部分的に異なり、第7図に示す
ように成膜されためっき層からなる軟磁性裏打ち層33
の表面は微小な凹凸を有する粗面34となる。In this way, as shown in FIG. 6, the plating film formation rate on the surface portion of the plating base film 32 on the disk substrate 31 corresponding to the tip of each needle electrode 44 is faster than on other surface portions. The thickness of the plating layer is partially different, and the soft magnetic backing layer 33 is made of a plating layer formed as shown in FIG.
The surface becomes a rough surface 34 having minute irregularities.
従って、第9図に示すようにかかる軟磁性裏打ち層33
の粗面34上に、例えばCo−Crからなる垂直記録層
35をスパッタリング法等により0.2μmの膜厚に形
成し、その表面に更に磁気ヘッドの接触摺動時の摩擦、
摩耗を低減するための保護膜36及び潤滑膜37を施し
て完成させることにより、高透磁率な軟磁性裏打ち層3
3の膜厚を厚くしても、その厚さに左右されることな(
該軟磁性裏打ち層33上に、その微小な凹凸状の粗面3
4を継承した表面を有する垂直記録層35、更には保護
膜36及び潤滑膜37を容易に形成することができる。Therefore, as shown in FIG.
A perpendicular recording layer 35 made of, for example, Co-Cr is formed on the rough surface 34 to a thickness of 0.2 μm by sputtering or the like.
By completing the protective film 36 and lubricating film 37 to reduce wear, the soft magnetic underlayer 3 with high magnetic permeability is formed.
Even if the film thickness of 3 is increased, it will not be affected by the thickness (
On the soft magnetic backing layer 33, the rough surface 3 with minute irregularities is formed.
It is possible to easily form a perpendicular recording layer 35 having a surface similar to that of 4, as well as a protective film 36 and a lubricating film 37.
なお、以上の実施例ではディスク基板31の半径方向に
1列、または複数列に設けた複数本の針状電極44と対
向するディスク基板31を、所定ステップ幅ずつ一定時
間毎に回転移動させてめっきを行う場合の例について説
明したが、ディスク基板31を固定し、対向する前記複
数本の針状電極44を同様に所定ステップ幅ずつ一定時
間毎に回転移動させるようにしてもよい。また前記複数
本の針状電極44、或いはディスク基板31の何れか一
方を該ディスク基板31の回転方向に低速度で移動させ
ながらめっきを行うようにしても良い。この場合には第
8図に示すようにディスク基板31の半径方向に微小な
凹凸状の粗面34aを有する軟磁性裏打ち層33aが形
成され同様な効果が得られる。In the above embodiment, the disk substrate 31 facing the plurality of needle electrodes 44 provided in one or more rows in the radial direction of the disk substrate 31 is rotated by a predetermined step width at regular intervals. Although an example in which plating is performed has been described, the disk substrate 31 may be fixed and the plurality of opposing needle-like electrodes 44 may similarly be rotated by a predetermined step width at regular intervals. Further, plating may be performed while moving either the plurality of needle-shaped electrodes 44 or the disk substrate 31 at a low speed in the rotational direction of the disk substrate 31. In this case, as shown in FIG. 8, a soft magnetic backing layer 33a having a rough surface 34a with minute irregularities is formed in the radial direction of the disk substrate 31, and a similar effect can be obtained.
またディスク基板31の全面に複数本の針状電極を所定
間隔をもって対向配置してめっきを行うようにしても良
い。更に軟磁性裏打ち層33表面の粗面34の荒さは、
ディスク基板31面に対する複数本の針状電極44の対
向配設密度を変化させることにより制御することができ
る。Alternatively, plating may be performed by arranging a plurality of needle-like electrodes facing each other at predetermined intervals over the entire surface of the disk substrate 31. Furthermore, the roughness of the rough surface 34 on the surface of the soft magnetic underlayer 33 is as follows:
This can be controlled by changing the density at which the plurality of needle electrodes 44 are arranged facing each other with respect to the surface of the disk substrate 31.
以−ヒの説明から明らかなように、第1.第2発明に係
る垂直磁気ディスクの製造方法によれば、ディスク基板
−ヒに形成される高透磁率な軟磁性裏打ち層の表面を、
該軟磁性裏打ち層の膜厚に左右されることなく適度の微
小な凹凸状の粗面とすることが可能となり、その軟磁性
裏打ち層上に所望の荒さの粗面を有する垂直記録層、保
護膜等を容易に形成することができる。As is clear from the explanation below, the first. According to the method for manufacturing a perpendicular magnetic disk according to the second invention, the surface of the soft magnetic underlayer with high magnetic permeability formed on the disk substrate
A perpendicular recording layer having a rough surface with a desired roughness on the soft magnetic backing layer, which can be formed into a rough surface with appropriate minute irregularities without being affected by the thickness of the soft magnetic backing layer. Films etc. can be easily formed.
従って、磁気ヘッドの吸着障害が防止され、しかも低摩
擦、低摩耗性を有する信顛性の高い垂直磁気ディスクを
得ることが可能となる等、実用上価れた効果を奏する。Therefore, it is possible to prevent adhesion failure of the magnetic head, and to obtain a highly reliable perpendicular magnetic disk having low friction and low abrasion properties, and other practical effects are achieved.
第1図は本発明の第1発明に係る垂直磁気ディスクの製
造方法の一実施例を説明する
ための概略電解エツチング装置図、
第2図は第1発明における綱目状電極による電解エツチ
ングを説明するための要部拡
大断面図、
第3図は第1発明による軟磁性裏打ち層表面の微小な凹
凸状粗面を説明するための部
分斜視図、
第4図は第1発明に係名垂直磁気ディスクの製造方法の
一実施例を説明するための要
部断面図、
第5図は本発明の第2発明に係る垂直磁気ディスクの製
造方法の一実施例を説明する
ための概略めっき装置図、
第6図は第2発明における針状電極によるめっきを説明
するための要部拡大断面図、
第7図及び第8図は第2発明による軟磁性裏打ち層表面
の微小な凹凸状粗面を説明す
るための部分斜視図、
第9図は第2発明に係る垂直磁気ディスクの製造方法の
一実施例を説明するための要
部断面図、
第10図(a)〜(C)は従来の垂直磁気ディスクの製
造方法を工程順に説明するための要部断
面図である。
第1図乃至第9図において、
11.31はディスク基板、12.32はめっき下地膜
、13.33は軟磁性裏打ち層、14.34゜34aは
粗面、15.35は垂直記録層、16.36は保護膜、
17.37は潤滑膜、21は電解槽、22は電解液、2
3.43は基板支持体、24は網目状電極、24aは網
線、24bは網目、41はめっき浴槽、42はめっき液
、44は針状電極をそれぞれ示す。
第
図
第
図
オIj木9月津ル4−!tΣJ丁97を未jカのオ万面
6オ1多ンタ;を呼子ν2図第3図
第
図FIG. 1 is a schematic diagram of an electrolytic etching apparatus for explaining an embodiment of the method for manufacturing a perpendicular magnetic disk according to the first invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating electrolytic etching using a wire-like electrode in the first invention. FIG. 3 is a partial perspective view for explaining the finely uneven rough surface of the soft magnetic underlayer surface according to the first invention; FIG. 4 is a perpendicular magnetic disk according to the first invention. FIG. 5 is a schematic plating apparatus diagram for explaining an embodiment of the method for manufacturing a perpendicular magnetic disk according to the second aspect of the present invention; FIG. FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a main part to explain plating with a needle-shaped electrode in the second invention, and FIGS. 7 and 8 illustrate a finely uneven rough surface on the surface of a soft magnetic backing layer according to the second invention. FIG. 9 is a cross-sectional view of essential parts for explaining an embodiment of the method for manufacturing a perpendicular magnetic disk according to the second invention. FIGS. FIG. 3 is a cross-sectional view of main parts for explaining a method for manufacturing a disk in order of steps. 1 to 9, 11.31 is a disk substrate, 12.32 is a plating base film, 13.33 is a soft magnetic backing layer, 14.34° 34a is a rough surface, 15.35 is a perpendicular recording layer, 16.36 is a protective film,
17.37 is a lubricating film, 21 is an electrolytic cell, 22 is an electrolytic solution, 2
3.43 is a substrate support, 24 is a mesh electrode, 24a is a mesh wire, 24b is a mesh, 41 is a plating bath, 42 is a plating solution, and 44 is a needle electrode. Figure Figure Figure O Ij Thursday September Tsuru 4-! tΣJ-97, 6 million faces, 1 multi-face; Yobuko ν2 figure 3 figure figure
Claims (3)
13)を形成し、その表面に網目状電極(24)を対向
配置して該軟磁性層(13)と網目状電極(24)間に
電圧を印加し、電解エッチングにより軟磁性層(13)
の表面を微小な凹凸を有する粗面(14)にした後、該
軟磁性層(13)の粗面(14)上に垂直記録層(15
)を形成することを特徴とする垂直磁気ディスクの製造
方法。(1) High permeability soft magnetic layer (
A mesh electrode (24) is placed on the surface of the soft magnetic layer (13), and a voltage is applied between the soft magnetic layer (13) and the mesh electrode (24), and the soft magnetic layer (13) is electrolytically etched.
After making the surface of the soft magnetic layer (13) into a rough surface (14) having minute irregularities, a perpendicular recording layer (15) is formed on the rough surface (14) of the soft magnetic layer (13).
) A method for manufacturing a perpendicular magnetic disk, the method comprising:
33)及び垂直記録層(35)を順に積層形成した垂直
磁気ディスク媒体における軟磁性層(33)の形成工程
において、上記ディスク基板(31)上に、その半径方
向に少なくとも1列に設けた複数本の針状電極(44)
を所定間隔をもって対向配置して該ディスク基板(31
)と複数本の針状電極(44)間に電圧を印加し、該デ
ィスク基板(31)上に、前記複数本の針状電極(44
)に対応する微小な凹凸状の粗面(34)を有するめっ
き層からなる高透磁率な軟磁性層(33)を形成するこ
とを特徴とする垂直磁気ディスクの製造方法。(2) High permeability soft magnetic layer (
33) and a perpendicular recording layer (35) formed in order in a perpendicular magnetic disk medium in which a plurality of soft magnetic layers (33) are formed in at least one row in the radial direction on the disk substrate (31). Book needle-shaped electrode (44)
The disk substrates (31
) and the plurality of needle-like electrodes (44), and the plurality of needle-like electrodes (44) are placed on the disk substrate (31).
) A method for manufacturing a perpendicular magnetic disk, characterized by forming a high permeability soft magnetic layer (33) made of a plating layer having a rough surface (34) with minute irregularities corresponding to the above.
状電極(44)群を、ディスク基板(31)の円周方向
にステップ的、若しくは連続的に移動させて、該ディス
ク基板(31)上に微小な凹凸状の粗面(34)を有す
るめっき層からなる高透磁率な軟磁性層(33)を形成
することを特徴とする請求項(2)に記載の垂直磁気デ
ィスクの製造方法。(3) A plurality of needle electrodes (44) facing the disk substrate (31) are moved stepwise or continuously in the circumferential direction of the disk substrate (31). 2.) Manufacturing a perpendicular magnetic disk according to claim 2, wherein a high permeability soft magnetic layer (33) made of a plating layer having a rough surface (34) with minute irregularities is formed thereon. Method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19543488A JPH0244522A (en) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | Production of perpendicular magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19543488A JPH0244522A (en) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | Production of perpendicular magnetic disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244522A true JPH0244522A (en) | 1990-02-14 |
Family
ID=16340995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19543488A Pending JPH0244522A (en) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | Production of perpendicular magnetic disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244522A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5379784A (en) * | 1993-01-23 | 1995-01-10 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for cleaning conveyor chuck |
-
1988
- 1988-08-04 JP JP19543488A patent/JPH0244522A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5379784A (en) * | 1993-01-23 | 1995-01-10 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for cleaning conveyor chuck |
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