JPH0244556Y2 - - Google Patents

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JPH0244556Y2
JPH0244556Y2 JP1975787U JP1975787U JPH0244556Y2 JP H0244556 Y2 JPH0244556 Y2 JP H0244556Y2 JP 1975787 U JP1975787 U JP 1975787U JP 1975787 U JP1975787 U JP 1975787U JP H0244556 Y2 JPH0244556 Y2 JP H0244556Y2
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slider
suction
hollow part
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bit
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JP1975787U
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JPS63128799U (ja
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【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、チツプ部品塔載機におけるチツプ部
品塔載ヘツドに関する。
従来技術 従来のチツプ部品塔載ヘツドは、第2図に示す
ように構成されている。第2図において、ヘツド
ベース1の側面にアーム2の下端が固着され、こ
のアーム2の上部にロツドが下方に向くようにエ
アシリンダ3が固着されている。また、ヘツドベ
ース1に中空部4が設けられ、この中空部4は真
空源に接続される真空ポート5(以下吸引孔とい
う)と接続されている。ヘツドベース1の中空部
4に摺動自在にスライダ6が設けられ、このスラ
イダ6の上端のねじ7とヘツドベース1の上部と
の間にスライダスプリング8が装着され、スライ
ダ6を常に上方に付勢している。また、スライダ
6は下方に開放端を設けた中空部9を有し、この
中空部9の上部にベースヘツド1の中空部4と連
通する孔9aが設けられている。スライダ6の中
空部9に軸方向に中空部11を設けた吸着ビツト
10の上端が摺動自在に挿入され、また吸着ビツ
ト10はスライダ6の中空部9に挿入されたダン
パスプリング12で下方に押されている。さらに
吸着ビツト10の側部にねじ13が固着され、こ
のねじ13をスライダ6の中空部9に連通した溝
9bに挿入することによつて、吸着ビツト10が
スライダ6の中空部9から抜けないように構成さ
れている。
この従来のチツプ部品塔載ヘツドの動作は、ヘ
ツドベース1の吸引孔5からエアーを吸引した状
態で、エアシリンダ3にエアーを供給すると、ス
ライダ6が下がり、吸着ビツト10の吸引口11
aが部品14の上部にくると、吸引口11aから
エアーが引かれることによつて部品14が吸着ビ
ツト10の吸引口11aに吸着される。
考案が解決しようとする問題点 しかしながら、このチツプ部品塔載ヘツドで
は、吸着ビツト10の中空部11がスライダ6の
中空部9と連通しているため、この中空部9に装
着されたダンパスプリング12は部品14を吸着
するときの安定性を確保するために極力弱くする
必要があるが、この吸着時の真空度を高めると、
中空部9の真空度のために吸着ビツト10が持ち
上がり、部品14が吸着できなくなるという問題
があつた。
問題点を解決するための手段 本考案は、上記問題点を解決するために、真空
源に接続された吸引孔を有し、上部にシリンダを
設けたヘツドベースと、該ヘツドベースに摺動自
在に設けられてスライダスプリングによつて上方
に付勢され、かつ下端が開放されて軸方向に中空
部が形成されたスライダと、該スライダの中空部
にロツド部と下端に吸引口を持つ中空部を有する
摺動部の一部が摺動自在に挿入され、かつダンパ
スプリングによつて下方に付勢され、かつ前記ロ
ツド部の上端に気密に摺動部材を設けた吸着ビツ
トからなることを特徴とする。
作 用 本考案によれば、吸着ビツト10の上部のロツ
ドの上端にスライダの中空部内で摺動する摺動部
材を設けているため、吸着ビツト10の真空を高
めても、摺動部材と吸着ビツトの摺動部の上部の
間の真空度が高まるだけで、ダンパスプリングに
影響を与えないので、ダンパスプリングを弱めに
設定しても高真空の吸着が可能となる。
実施例 第1図は、本考案の1実施例のチツプ部品塔載
ヘツドの断面図で、1はヘツドベース、2はアー
ム、3はエアシリンダ、4は中空部、5は吸引
孔、6はスライダ、7はねじ、8はスライダスプ
リング、9は中空部、9aは孔、9bは溝、13
はねじ、14は部品であり、これらの構成は上記
従来例と同じであるので説明は省略するが、本実
施例では、吸着ビツト15は上部にロツド部16
を設け、下部には中空部17を持つ摺動部18を
設けたものである。また、ロツド部16の端部に
スライダ6の内壁に対して気密に摺動部材19が
設けられ、さらに摺動部材19の上部の中空部2
2の頂部と摺動部材19の上部との間にダンパス
プリング12が設けられている。また、中空部2
2が外気と連通するために開放孔21が設けられ
ている。
このように構成された本実施例のチツプ部品塔
載ヘツドでは、エアシリンダ3にエアーが供給さ
れてピストンロツドが下方に突出されると、スラ
イダ6が下がる。その時、吸引孔5は真空源に接
続され、ヘツドベース1の中空部4、スライダ6
の中空部9及び吸着ビツト15の摺動部18の中
空部17は連通され、それぞれ真空になつている
が、ここで、真空を強くしても、スライダ6の中
空部9の内部では、吸着ビツト15のロツド部1
6の摺動部材19と摺動部18の上部の間で真空
が強くなるだけであるから、吸着ビツト15を移
動する方向に力が作用しない。従つて、摺動部材
19の上方に設けられたダンパスプリング12の
力が弱くても、このダンパスプリング12によつ
て吸着ビツト15は常に下方に押圧され、部品1
4の高さの違いを吸収することができる。
このように、本実施例のチツプ部品塔載ヘツド
では、スライダ6の内部にかかる真空が吸着ビツ
ト15を押し上げる力として作用しないため、ス
ライダ6内の真空度をいくら高めても、ダンパス
プリング12を正常に動作させることができる。
考案の効果 以上の説明から明らかなように、本考案は、吸
着ビツトの上部のロツドの上端にスライダの中空
部内で摺動する摺動部材を設けているため、吸着
ビツトのロツド部の摺動部材と吸着ビツトの摺動
部の上部の間で真空が強くなるだけであるから、
吸着ビツトを移動する方向に力が作用せず、真空
を高めても、ダンパスプリングに影響を与えない
ので、ダンパスプリングを弱めに設定しても高真
空の吸着が可能となるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の1実施例のチツプ部品塔載ヘ
ツドの断面図、第2図は従来のチツプ部品塔載ヘ
ツドの断面図である。 1……ヘツドベース、2……アーム、3……エ
アシリンダ、4……中空部、5……真空ポート、
6……スライダ、7……ねじ、8……スライダス
プリング、9……中空部、9a……孔、9b……
溝、13……ねじ、14……部品、15……吸着
ビツト、16……ロツド部、17……中空部、1
8……摺動部、19……摺動部材、21……開放
孔。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空源に接続された吸引孔を有し、上部にシリ
    ンダを設けたヘツドベースと、該ヘツドベースに
    摺動自在に設けられてスライダスプリングによつ
    て上方に付勢され、かつ下端が開放されて軸方向
    に中空部が形成されたスライダと、該スライダの
    中空部にロツド部と下端に吸引口を持つ中空部を
    有する摺動部の一部が摺動自在に挿入され、かつ
    ダンパスプリングによつて下方に付勢され、かつ
    前記ロツド部の上端に摺動部材を設けた吸着ビツ
    トとからなるチツプ部品塔載ヘツド。
JP1975787U 1987-02-13 1987-02-13 Expired JPH0244556Y2 (ja)

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JP1975787U JPH0244556Y2 (ja) 1987-02-13 1987-02-13

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1975787U JPH0244556Y2 (ja) 1987-02-13 1987-02-13

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JPS63128799U JPS63128799U (ja) 1988-08-23
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JP1975787U Expired JPH0244556Y2 (ja) 1987-02-13 1987-02-13

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