JPH0244596B2 - - Google Patents

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JPH0244596B2
JPH0244596B2 JP63330737A JP33073788A JPH0244596B2 JP H0244596 B2 JPH0244596 B2 JP H0244596B2 JP 63330737 A JP63330737 A JP 63330737A JP 33073788 A JP33073788 A JP 33073788A JP H0244596 B2 JPH0244596 B2 JP H0244596B2
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phosphonomethylglycine
waste stream
oxygen
containing gas
pressure
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JP63330737A
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Chaaruzu Gurabiatsuku Reimondo
Patoritsuku Rirei Denisu
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Monsanto Co
Original Assignee
Monsanto Co
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    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86Catalytic processes
    • B01D53/8668Removing organic compounds not provided for in B01D53/8603 - B01D53/8665
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/30Organic compounds
    • C02F2101/38Organic compounds containing nitrogen
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Processing Of Solid Wastes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明はN−ホスホノメチルグリシン製造工場
から生ずる廃棄物流の処理法、更に詳しく言え
ば、遷移金属触媒と共にホルムアルデヒドおよび
酸素を使用するこのような廃棄物流の処理法に関
する。 農業用化学薬品分野でグリホセートとして知ら
れるN−ホスホノメチルグリシンは、発芽しつつ
ある種子、地上に出現しつつある実生、成熟しつ
つある樹木および成長終つた樹木、および草木植
物および水生植物、の発育の調節に役立つ極めて
効果的な、そして商業上重要な植物毒剤である。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその塩類は、
水溶液の形で発芽後植物毒剤として、あるいは除
草剤として、1種以上の単子葉種および1種以上
の双子葉種の防除に対して便利に適用される。更
にまた、このような化合物はその特徴として広い
スペクトル活性を有する。即ち、これらは、シ
ダ、針葉樹、水生単子葉および双子葉類を含めて
(しかし、これらに限定されない)多種多様の植
物の発育を抑制する。 従来の技術および解決しようとする課題 多数の特許がN−ホスホノメチルグリシンの製
造法を記載している。Hershman、米国特許第
3969398号明細書は、N−ホスホノメチルイミノ
二酢酸の酸化によるN−ホスホノメチルグリシン
の製造法を記載している。 Gaertner、カナダ特許第1039739号明細書は、
アミノメチルホスホン酸およびエステルをグリオ
キサールまたはグリオキシル酸と反応させてカル
ボニルアルジノメタンホスホネートをつくること
によるN−ホスホノメチルグリシンの製造法を記
載している。その後、このカルボニルアルジミノ
メタンホスホネートを接触水素化に付して二重結
合を還元し、N−ホスホノメチルグリシンまたは
そのエステルをつくる。次にこのエステル基を加
水分解すればN−ホスホノメチルグリシンが得ら
れる。 Franz、米国特許第3799758号明細書は、エチ
ルグリシネート、ホルムアルデヒド、およびジエ
チルホスフアイトの反応によるN−ホスホノメチ
ルグリシンの製造を記載している。Franzにより
記述された別の方法では、水酸化ナトリウム存在
下にグリシンをクロロメチルホスホン酸でホスホ
ノメチル化し、そしてN−ホスフイノメチルグリ
シンを塩化第二水銀で酸化する方法をあげてい
る。 Gaertner、米国特許第3927080号明細書は、N
−t−ブチル−N−ホスホノメチルグリシンまた
はそのエステルの酸触媒脱アルキルによるN−ホ
スホノメチルグリシンの製造を記載している。第
3級ブチルアミンをブロモ酢酸エステルと反応さ
せてN−t−ブチル−グリシンのエステルをつく
り、次にこのものをホルムアルデヒドおよび亜リ
ン酸と反応させてN−t−ブチル−N−ホスホノ
メチルグリシン前駆物質をつくつている。 Ehrat、米国特許第4237065号明細書は、グリ
シンを第3級塩基の存在下にホルムアルデヒドと
縮合させてN−メチレングリシンをつくり、次に
このものをジメチルホスフアイトと反応させ加水
分解してN−ホスホノメチルグリシンをつくる方
法を記載している。 Pfliegle等、米国特許第4065491号明細書、グ
リシン、ホルムアルデヒド、およびジアルキルホ
スフアイトを水性アルカリ性媒質中で縮合させて
N−ホスホノメチルグリシンジアルキルエステル
とすることによりN−ホスホノメチルグリシンを
つくる方法を開示している。このジアルキルエス
テルを鉱酸で加水分解すればN−ホスホノメチル
グリシンが得られる。 これら方法のすべては、望ましくない副反応の
結果としての幾つかの副産物および未反応原料を
含む廃棄物流を生ずる。本明細書中で用いたた廃
棄物流という用語は、N−ホスホノメチルグリシ
ン生成物の実質部分を取除いた後の該物質製造か
ら生じた反応混合物のことである。廃棄物流の特
定の組成は、当然のことながら製造に用いた個々
の方法と条件により決まるであろう。このような
副産物および未反応原料の例には、ホルムアルデ
ヒド、N−置換−N−ホスホノメチルグリシン、
N−置換およびN−非置換アミノメチルホスホン
酸、ならびに未回収N−ホスホノメチルグリシン
が含まれる。望むN−ホスホノメチルグリシンの
不純化を防止するためこれら物質を過程から除去
することが時折必要になる。 N−ホスホノメチルグリシンの製造過程から廃
棄物流を捨てるための種々な手段が考えられて来
た。例えば、グリホセート製造過程から生ずる廃
棄物流を他の過程の廃棄物流で希釈し、各種取締
り機関により規制された水性流出物の限界に合う
ように好気的生物系で処理することができる。他
方、この廃棄物流を他の廃棄物流から分離し、高
温で焼却してこれらの望まない化合物を破壊する
こともできる。他の方法、例えば高温および(ま
たたは)高圧で各種化合物と反応させてこれら生
成物を破壊することも考えられて来た。 上記方法ならびに当業者により考えられるかも
しれない他の方法は、廃棄物流中のN−ホスホノ
メチルグリシンおよび製造過程からの付随する副
産物のレベルを低濃度に下げることは下げるが、
これら廃棄物処理手順は、操業費用が高い、資本
額が高い、分解効率に限界がある。または他の環
境関連問題といつた幾つかの欠点をもつ。 本明細書に開示された方法は、N−ホスホノメ
チルグリシンおよび関連誘導体の濃度を直接捨て
られる濃度まで下げる。あるいは必要に応じ捨て
る前に好気的生成系で処理する簡単で費用効率の
良い廃棄物流処理法である。本発明方法は従来考
えられている廃棄物処理法に関連した本来備わつ
ている問題を克服する。 本発明は、N−ホスホノメチルグリシン製造過
程から生ずる廃棄物流の処理法に関し、本方法は
廃棄物流を遷移金属触媒の存在下に加熱し、そし
て遷移金属触媒を含む熱廃棄物流を酸素含有ガ
ス、例えば遊離酸素を含むガスと接触させること
からなる。廃棄物処理法の全体的効率を高めるた
めに、廃棄物に化学量論的過剰量のホルムアルデ
ヒドを遷移金属触媒と共に任意に添加できる。 N−ホスホノメチルグリシンは、各種酸化法を
用いてN−ホスホノメチルイミノ二酢酸を酸化す
ることにより製造できることはこの分野で公知で
ある。米国特許第3950402号明細書は、N−ホス
ホノメチルイミノ二酢酸を、水性媒質中遊離酸素
を含むガスと不均一貴金属ベース触媒、例えばパ
ラジウム、白金、またはロジウムを用いてN−ホ
スホノメチルグリシンに酸化する方法を開示して
いる。米国特許第3954848号明細書は、過酸化水
素および酸、例えば硫酸または酢酸によるN−ホ
スホノメチルイミノ二酢酸の酸化を開示してい
る。ハンガリー特許願第011706号明細書は、金属
または金属化合物存在下過酸化物によるN−ホス
ルメチルイミノ二酢酸の酸化を開示している。 R.J.Motekaitie等、Can.J.Chem.58、1999
(1980)は、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)
およびニトリロ三酢酸(NTA)(両者ともイミ
ノ二酢酸基をもつ)の鉄()または銅()で
触媒された酸化的脱アルキルを開示している。
R.J.Motekaitis等、Can.J.Chem.、60、1207
(1982)は、ある種の金属イオン、例えばCa
()、Mg()、Fe()、Zn()およびNi()
がEDTAとキレート形成し、酸化に対してこれ
を安定化することにより酸化的脱アルキルの速度
を低下させることを開示している。 上記引用文献のうちグリホセート製造過程の廃
棄物流の処理に遷移金属触媒を使用することを開
示しているものはない。 発明を解決するための手段 本発明方法は、N−ホスホノメチルグリシン製
造から生じた廃棄物流を遷移金属触媒と混合物ま
た溶液として接触させるものである。この混合物
または溶液を分子状酸素を含むガスと接触させる
と同時に、N−置換およびN−非置換N−ホスホ
ノメチルグリシン誘導体の酸化反応を開始し、こ
れを維持するのに十分高い温度に反応物を加熱す
る。この反応混合物または溶液は、メチル化後の
酸化速度を促進するため化学量論的に過剰量のホ
ルムアルデヒドを任意に含むことができる。 本発明への使用に適した遷移金属触媒は、例え
ばマガン、コバルト、鉄、ニツケル、クロム、ル
テニウム、アルミニウム、モリブデン、バナジウ
ム、銅、亜鉛、およびセリウムといつた幾つかの
遷移金属の化合物の1種以上のいずれでもよい。
触媒は塩の形、例えばマンガン塩、例えば酢酸マ
ンガン、塩化マンガン、硫酸マンガン;錯体、例
えばマンガン()ビス(アセチルアセトネー
ト)(Mn()(acac)2);コバルト塩、例えばCo
()(SO4)、Co()ビス(アセチルアセトネー
ト)、CoCl2、CoBr2、Co(NO32および酢酸コバ
ルト;セリウム塩、例えば(NH44Ce(SO4)お
よび(NH42Ce(NO36、鉄塩、例えばFeCl3
(NH42Fe(SO42、鉄()(ジシアノ)ビス
(フエナントロリン)2テトラフルオロボレート塩、
およびK3Fe(CN)6、および他の金属塩、例えば
NiBr2、CrCl3、RuCl2(Me2SO)4、RuBr3、Al
(NO33、K4Mo(CN)8、VO(アセチルアセトネ
ート)2およびVOSO4のような形をとることがで
きる。特に適当なマンガン触媒はMn()塩で
ある。特に適当なコバルト触媒はCo()塩、例
えばCo()(SO4)、Co()Cl2、Co()Br2
Co()(OH)2およびCo()酢酸基である。 反応溶液中の遷移金属触媒の濃度は広く変える
ことができるが、なるべくは廃棄物流中の金属イ
オン濃度約0.5Mから0.0001Mの範囲内がよい。
高い触媒濃度を用いると酸化反応が促進される。 前述したN−ホスホノメチルグリシン製造から
生ずる廃棄物流を、約PH1から約PH10に、なるべ
くは約PH6から約PH9に調節する。廃棄物流のPH
は公知の方法により、例えばアルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩、またはアルカリ土類金
属水酸化物の添加により調節できる。アルカリ金
属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムまたは水酸
化カリウムが特によい。その後触媒の水溶液また
は水性スラリーを廃棄物流に加える。前記の通
り、化学量論的に過剰量のホルムアルデヒドがパ
ラホルムアルデヒドを廃棄物流に添加できる。 次に廃棄物流を適当な容器内に入れ、加圧、加
熱する。加圧下にかきまぜながら過剰の酸素含有
ガスを絶えず導入する。この酸素含有ガスは分子
状酸素を含有するガスである。分子状酸素を何種
類かの不活性ガス、例えばヘリウム、ネオン、ア
ルゴン、窒素などと混合することができる。本発
明方法に空気を使用することはできるが、大量の
不活性窒素を含むので、なるべくは少なくとも50
容量%の酸素、なるべくは少なくとも75容量%の
酸素を含む酸素含有ガス、例えば酸素富化空気を
用いる方がよく、実質的に純粋な酸素(99+%
O2)を使用するのが最も好ましい。これらの条
件下でN−置換ホスホノメチルグリシンの大部分
はN−ホスホノメチルグリシン、N−置換アミノ
メチルホスホン酸またはホスフエートの何れかに
酸化され、同時にギ酸および二酸化炭素を生ず
る。N−置換−N−アミノメチルホスホン酸類ま
たはホルムアルデヒド存在下でメチル化され、反
応条件下で更に酸化される。この反応は混合物中
のN−ホスホノメチルグリシンの実質的に全部が
破壊されてしまうまで続ける。その後、バツチを
冷却し、処置に適した区域に移す。 前記の本発明方法からの排出流は極く痕跡量の
N−ホスホノメチルグリシンおよびN−置換誘導
体を含有するだけである。この処理法の主な化学
産物はギ酸、二酸化炭素、アミノメチルホスホン
酸およびメチル化誘導体、およびリン酸である。
本法の使用による残留N−ホスホノメチルグリシ
ンおよびその誘導体の通算分解率は6時間以内で
約85%より大きい。 廃棄物流を酸素含有ガスと接触させる圧力およ
び温度を制約する因子は、利用できる装置および
安全問題の考慮のみである。室温および常圧で廃
棄物流を空気と接触させても満足すべき結果は得
られない。廃棄物流は、便宜上1×105パスカル
(14.5ポンド/平方インチゲージ圧)から20×105
パスカル(290ポンド/平方インチゲージ圧)の
圧力と沸点以下の温度で酸素含有ガスと接触させ
ねばならない。なるべく圧力は少なくとも3.8×
105パスカル(55ポンド/平方インチゲージ圧)
そして温度は約100℃とするのがよい。更に好ま
しくは、圧力少なくとも4.5×105パスカル(65ポ
ンド/平方インチゲージ圧)、温度約120℃であ
る。もつと高い圧力と温度を用いれば反応速度が
増加する。遷移金属触媒は固体か、溶液か、スラ
リーいずれかで廃棄物流に加えるのが便利であ
る。 本発明を下記の例により更に説明するが、これ
らの例に限定されることはない。あらゆる百分率
は特に断らない限り重量で表わしてある。 例 1 例1は本発明法にマンガン遷移金属触媒を使用
し、ホルムアルデヒドを使用した場合と使用しな
い場合について説明する。N−ホスホノメチルグ
リシン(GLY)2.9%、N−メチル−N−ホスホ
ノメチルグリシン(NMG)6.3%、N−ホスホノ
メチルイミノ二酢酸(GI)2.1%、およびN−ホ
ルミルホスホノメチルグリシン(NFG)0.2%お
よび他の少量不純物を水の中に含む(HPLC分析
による)グリホセート製造過程からの廃棄物流を
得た。この廃棄物流(66.5g)を水(66.5g)で
希釈し、50重量%水酸化ナトリウム溶液17gでPH
7.5に中和した。MnCl2・4H2O(H2O5ml中)の量
およびホルマリンの量を変化させた一連の実験を
行なつた。この反応体混合物を300mlステンレス
鋼オートクレーブに入れた。オートクレーブをシ
ールし、窒素で50ポンド/平方インチゲージ圧
(343kpa)に加圧し、かきまぜながら(17Hz)
120℃に加熱した。温度が120℃に達したとき、反
応混合物中に40ml/分の速度で酸素を分散させ、
また同時にオートクレーブのオフガスを排気して
50ポンド/平方インチゲージ圧(343kpa)の圧
力を維持した。示された反応時間で酸素流を打ち
切り、オートクレーブ内容物を約25℃に放冷し
た。廃棄物流中の特に重要な成分の各々につい
て、分解%をHPLCにより測定し、表に示し
た。 表に要約された結果はこのマンガン接触処理
がGLY、NMG、およびGIの分解に有効である
ことを示している。ホルマリンが存在するとほゞ
同等な反応時間でGLYの分解が増加した(例3
および例5参照)。
【表】 例 2 例2は本発明方法にマンガン遷移金属触媒を使
用し、ホルムアルデヒドを使用した場合と使用し
ない場合について説明する。GLY1.7%、
NMG3.2%、GI1.0%、NFG0.1%および他の少量
不純物を含有する(HPLC分析による)グリホセ
ート製造過程からの廃棄物流を得た。この廃棄物
流(125g)を50%水酸化ナトリウム水溶液17g
でPH7.5に中和した。MnCl2・4H2O(水5ml中)
の量およびホルマリンの量を変化させた一連の実
験を行なつた。この混合物を300mlステンレス鋼
オートクレーブに入れた。オートクレーブをシー
ルし、窒素で50ポンド/平方インチゲージ圧
(343kpa)に加圧し、かきまぜながら(17Hz)
120℃に加熱した。望む温度に達したとき、反応
混合物中に酸素ガスを40ml/分の速度で分散させ
た。オートクレーブ圧を50ポンド/平方インチゲ
ージ圧(343kpa)に保ちつつオートクレーブオ
フガスを排気した。示された反応時間で酸素流を
打ち切り、オートクレーブ内容物を室温(約25
℃)まで放冷した。廃棄物流中の成分の各々につ
いて、分解%をHPLCにより測定し、表に示し
た。 表に括めた結果は、このマンガン接触処理が
GLY、NMG、およびGIの分解に有効であるこ
とを示している。ホルマリンが存在するとGLY
の分解速度が増加した。
【表】 例 3 例3は本発明方法にコバルト触媒をホルマリン
無しで使用する例を説明する。反応は改良Fisher
−Porterガラス圧力装置またはEngineer Autocl
−ave300ml圧力反応器で行なつた。前記反応器
は頂部にかきまぜ機を設備し、これと共に試料
口、ガス入口、および排出ガス出口を備えた。か
きまぜ機によつて気−液の十分な混合を得るよう
にかきまぜを維持した。反応器を定温油浴に浸す
ことにより温度を100℃に調節した。CoCl2遷移
金属触媒の0.5M溶液を蒸留脱イオン水を用いて
調製し、GIと混合して0.5MGIスラリーを得た。
反応器をシールし、100℃に加熱し、次に酸素ガ
スで100ポンド/平方インチゲージ圧(686kpa)
に加圧した。かきまぜを開始した。実験時間は18
時間であつた。溶液のPHを水酸化ナトリウムまた
は硫酸溶液で調節した。反応物のPHを変化させる
一連の実験を行なつた。GIおよびGLYの合わせ
た分解%をHPLCにより測定し、表に示した。 表に要約された結果は、コバルト触媒処理が
GLYおよびGIの分解に有効であることを示して
いる。本例においてはPH4.00で最大の分解を起こ
した(例11)。
【表】 例 4 例4は本発明方法にホルムアルデヒド無しで鉄
触媒を使用する方法を説明する。反応条件は例3
のそれと同じであるが、ただしK3Fe(CN)6の触
媒濃度を0.01M、実験時間を18時間、初期PHを
10.0とした。GIおよびGLY合わせた分解%を
HPLCにより測定し、約50%であることが分つ
た。 本発明を特定化した具体例および操作技術に関
して相当詳細に記述して来たが、これは例示とし
てのみ示したのであり、当業者にとつては本明細
書の開示から考えて別の具体例および操作条件が
明白となるであろう。例えば、本発明方法は、他
の有機リン化合物製造過程、例えば米国特許第
3288846号明細書に開示されたキレート剤として
有用なアミノアルキレンホスホン酸の製造法から
生ずる廃棄物流の処理にも有用であろう。従つ
て、ここに記載された発明の主旨から離れること
なく変法を行なうことが可能である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 N−ホスホノメチルグリシンの製造工程から
    出るN−ホスホノメチルグリシンおよびそのN−
    置換誘導体を含む廃棄物流の酸化処理法におい
    て、 (イ) 廃棄物流中のN−ホスホノメチルグリシンと
    N−置換誘導体に対して化学量論過剰のホルム
    アルデヒドをこの廃棄物流に添加し、 (ロ) N−ホスホノメチルグリシンおよび製造副産
    物を含む廃棄物流を十分高い温度に加熱して、
    N−ホスホノメチルグリシンと副産物の酸化を
    開始、接続し、そして (ハ) マンガン、コバルト、鉄、ニツケル、クロ
    ム、ルテニウム、アルミニウム、モリブデン、
    バナジウム、銅、亜鉛、およびセリウムからな
    る群から選んだ有効量の触媒の存在下、N−ホ
    スホノメチルグリシンおよび副産物を酸化する
    に要する過剰の酸素含有ガスと廃棄物流とを接
    触させて、N−ホスホノメチルグリシンおよび
    副産物を酸化することを特徴とする、上記酸化
    処理法。 2 触媒は廃棄物流中、少なくとも0.0001モル金
    属イオン濃度で存在する、請求項1記載の方法。 3 廃棄物流を、少なくとも1×105パスカルの
    圧力と廃棄物流の沸点以下の温度において、酸素
    含有ガスと接触させる、請求項1記載の方法。 4 廃棄物流を、少なくとも3.8×105パスカルの
    圧力下酸素含有ガスと接触させる、請求項3記載
    の方法。 5 廃棄物流を、少なくとも4.5×105パスカルの
    圧力下酸素含有ガスと接触させる、請求項3記載
    の方法。
JP63330737A 1987-12-31 1988-12-27 グリホセート法廃棄物流の処理法 Granted JPH01215394A (ja)

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