JPH0245796Y2 - - Google Patents
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- JPH0245796Y2 JPH0245796Y2 JP18069383U JP18069383U JPH0245796Y2 JP H0245796 Y2 JPH0245796 Y2 JP H0245796Y2 JP 18069383 U JP18069383 U JP 18069383U JP 18069383 U JP18069383 U JP 18069383U JP H0245796 Y2 JPH0245796 Y2 JP H0245796Y2
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Description
この考案は、ガスの濃度等を測定するガス測定
器の前段に接続され、被検ガス以外の干渉ガスを
除去する干渉ガス除去装置に関する。 一般に、大気中には排気ガス等により水素、一
酸化炭素、炭化水素ガス等が含まれているが、こ
のようなガスは、ある特定の種類のガスを測定す
る場合に被検ガスに粉れ込み、測定に干渉して結
果に誤差を生じさせる。このため、従来において
は、ガス測定器のガス選択性および精度を向上さ
せるために、前処理によつて前述のような干渉ガ
スを除去することが行なわれており、例えば、ガ
ス測定器の前段に、活性炭、シリカゲル、ロ紙等
を単体又は組み合わせて配置している。しかしな
がら、このようなものは水素、一酸化炭素さらに
は還元性ガスに対する吸着能が低いため、これら
の干渉ガスを充分に除去できないという問題点が
あつた。 この考案は前述の問題点に着目してなされたも
ので、水素、一酸化炭素さらには還元性ガスから
なる干渉ガスを確実に除去して、ガス選択性およ
び精度を向上させることを目的としている。 このような目的は、ガスの濃度等を測定するガ
ス測定器の前段に接続され、被検ガス以外の干渉
ガスを除去する干渉ガス除去装置であつて、白金
属触媒およびホプカライト触媒を直列に配置して
構成され被検ガスの分解温度未満に加熱された前
段除去体と、除湿剤から構成された後段除去体
と、を備えることにより達成することができる。 以下、この考案の一実施例の構成を図面に基づ
いて説明する。 図面において、1は被検ガス、例えば三フツ化
窒素(NF3)ガス、メタン(CH4)ガス、の濃度
等を測定するガス測定器であり、このガス測定器
1は活性炭が収納された活性炭ケース2およびロ
紙、綿、グラスウールが収納されたフイルタケー
ス3を有し、これらの活性炭ケース2、フイルタ
ケース3内を次々と通過した測定ガスは半導体式
又は定電位電解方式等のガスセンサ4に送られ、
被検ガスの濃度等が測定される。このガス測定器
1の前段には干渉ガス除去装置5が接続されてい
る。この干渉ガス除去装置5は前段除去体6に測
定ガスを導びく導入管7を有し、前記測定ガスに
は、前述した被検ガスと、この被検ガスの濃度等
をガスセンサ4で測定する際、この測定を干渉す
る干渉ガス、例えば水素ガス、一酸化炭素ガス、
ブタンガス、プロパンガス、エチレンガス、メタ
ノールガス、アセトンガスと、が含まれている。
前記前段除去体6はステンレススチール又はガラ
スからなるケース8を有し、このケース8内には
白金属触媒9およびホプカライト触媒10がこの
順序で直列に配置収納されている。この結果、測
定ガスは白金属触媒9、ホプカライト触媒10に
次々と接触した後、接続管11を通つて後段除去
体12に導びかれる。前記白金属触媒9としては
白金属元素およびこの酸化物が使用され、例え
ば、白金、パラジウム、ロジウム、前記元素の酸
化物またはこれらの混合物、合金である。なお、
この実施例ではケース8内に白金属触媒9、ホプ
カライト触媒10の順序で直列配置したが、この
考案においては、ホプカライト触媒10、白金属
触媒9の順序で直列配置してもよい。前記前段除
去体6は恒温加熱槽13内に収納され、この恒温
加熱槽13により前段除去体6は前記被検ガスの
分解温度未満、すなわち220℃未満、に加熱され
る。この温度以上になると、被検ガスが熱分解し
て濃度等が測定できなくなるからである。また、
この前段除去体6は130℃以上の温度に加熱する
のが好ましい。その理由は、この温度未満である
と、後掲した実施例から明らかなように最も除去
し難い水素ガスを前段除去体6で充分に除去でき
ないからである。したがつて、前段除去体6は
130℃から220℃の範囲に加熱するのが好ましいこ
とになる。前記後段除去体12は恒温加熱槽13
外に設置され、ステンレススチール又はガラスか
らなるケース14と、このケース14内に収納さ
れた除湿剤15、例えばシリカゲル、と、から構
成されている。後段除去体12を通過した測定ガ
スは冷却用の銅管16を通つた後前記ガス測定器
1に導びかれる。前述した前段除去体6、接続管
11、後段除去体12および恒温加熱槽13は全
体として干渉ガス除去装置5を構成する。 次に、この考案の一実施例の作用について説明
する。 まず、被検ガス、干渉ガスを含む測定ガスを導
入管7を通じて前段除去体6に導びき、白金属触
媒9、ホプカライト触媒10に次々と接触させ
る。このとき、前段除去体6は、恒温加熱槽13
により130℃から220℃までの範囲内の一定温度に
加熱されているため、干渉ガス中の水素ガス、ブ
タンガス、プロパンガス、エチレンガス、メタノ
ールガス、アセトンガスは白金属触媒9により酸
化され、不活性化されるとともに水分が生成され
る。また、干渉ガス中の一酸化炭素はホプカライ
ト触媒10により酸化され、不活性化される。こ
のようにして被検ガスは熱分解されることなく干
渉ガスの干渉能が除去される。次に、測定ガスは
接続管11を通つて後段除去体12に導びかれ、
この後段除去体12においてガスセンサ4に悪影
響を与える前記水分が吸湿除去される。次に、測
定ガスは銅管16において常温に冷却された後ガ
ス測定器1に導びかれる。このガス測定器1にお
いて測定ガスは活性炭ケース2、フイルタケース
3内を次々と通過した後ガスセンサ4に導びか
れ、該ガスセンサ4において被検ガスの濃度が測
定される。 以下に示す表は、被検ガスとして三フッ化窒素
ガスが10ppm含まれ、干渉ガスとして水素ガスが
10ppm、一酸化炭素ガスが30ppm、ブタンガスが
10ppm、プロパンガスが10ppm、エチレンガスが
10ppm、メタノールガスが1000ppm、アセトンガ
スが1000ppm含まれた測定ガスを前記干渉ガス除
去装置によつて処理した後の各ガスの濃度
(ppm)を示したもので、前段除去体6を100℃、
130℃、160℃、190℃、220℃の各温度に加熱して
測定したものである。
器の前段に接続され、被検ガス以外の干渉ガスを
除去する干渉ガス除去装置に関する。 一般に、大気中には排気ガス等により水素、一
酸化炭素、炭化水素ガス等が含まれているが、こ
のようなガスは、ある特定の種類のガスを測定す
る場合に被検ガスに粉れ込み、測定に干渉して結
果に誤差を生じさせる。このため、従来において
は、ガス測定器のガス選択性および精度を向上さ
せるために、前処理によつて前述のような干渉ガ
スを除去することが行なわれており、例えば、ガ
ス測定器の前段に、活性炭、シリカゲル、ロ紙等
を単体又は組み合わせて配置している。しかしな
がら、このようなものは水素、一酸化炭素さらに
は還元性ガスに対する吸着能が低いため、これら
の干渉ガスを充分に除去できないという問題点が
あつた。 この考案は前述の問題点に着目してなされたも
ので、水素、一酸化炭素さらには還元性ガスから
なる干渉ガスを確実に除去して、ガス選択性およ
び精度を向上させることを目的としている。 このような目的は、ガスの濃度等を測定するガ
ス測定器の前段に接続され、被検ガス以外の干渉
ガスを除去する干渉ガス除去装置であつて、白金
属触媒およびホプカライト触媒を直列に配置して
構成され被検ガスの分解温度未満に加熱された前
段除去体と、除湿剤から構成された後段除去体
と、を備えることにより達成することができる。 以下、この考案の一実施例の構成を図面に基づ
いて説明する。 図面において、1は被検ガス、例えば三フツ化
窒素(NF3)ガス、メタン(CH4)ガス、の濃度
等を測定するガス測定器であり、このガス測定器
1は活性炭が収納された活性炭ケース2およびロ
紙、綿、グラスウールが収納されたフイルタケー
ス3を有し、これらの活性炭ケース2、フイルタ
ケース3内を次々と通過した測定ガスは半導体式
又は定電位電解方式等のガスセンサ4に送られ、
被検ガスの濃度等が測定される。このガス測定器
1の前段には干渉ガス除去装置5が接続されてい
る。この干渉ガス除去装置5は前段除去体6に測
定ガスを導びく導入管7を有し、前記測定ガスに
は、前述した被検ガスと、この被検ガスの濃度等
をガスセンサ4で測定する際、この測定を干渉す
る干渉ガス、例えば水素ガス、一酸化炭素ガス、
ブタンガス、プロパンガス、エチレンガス、メタ
ノールガス、アセトンガスと、が含まれている。
前記前段除去体6はステンレススチール又はガラ
スからなるケース8を有し、このケース8内には
白金属触媒9およびホプカライト触媒10がこの
順序で直列に配置収納されている。この結果、測
定ガスは白金属触媒9、ホプカライト触媒10に
次々と接触した後、接続管11を通つて後段除去
体12に導びかれる。前記白金属触媒9としては
白金属元素およびこの酸化物が使用され、例え
ば、白金、パラジウム、ロジウム、前記元素の酸
化物またはこれらの混合物、合金である。なお、
この実施例ではケース8内に白金属触媒9、ホプ
カライト触媒10の順序で直列配置したが、この
考案においては、ホプカライト触媒10、白金属
触媒9の順序で直列配置してもよい。前記前段除
去体6は恒温加熱槽13内に収納され、この恒温
加熱槽13により前段除去体6は前記被検ガスの
分解温度未満、すなわち220℃未満、に加熱され
る。この温度以上になると、被検ガスが熱分解し
て濃度等が測定できなくなるからである。また、
この前段除去体6は130℃以上の温度に加熱する
のが好ましい。その理由は、この温度未満である
と、後掲した実施例から明らかなように最も除去
し難い水素ガスを前段除去体6で充分に除去でき
ないからである。したがつて、前段除去体6は
130℃から220℃の範囲に加熱するのが好ましいこ
とになる。前記後段除去体12は恒温加熱槽13
外に設置され、ステンレススチール又はガラスか
らなるケース14と、このケース14内に収納さ
れた除湿剤15、例えばシリカゲル、と、から構
成されている。後段除去体12を通過した測定ガ
スは冷却用の銅管16を通つた後前記ガス測定器
1に導びかれる。前述した前段除去体6、接続管
11、後段除去体12および恒温加熱槽13は全
体として干渉ガス除去装置5を構成する。 次に、この考案の一実施例の作用について説明
する。 まず、被検ガス、干渉ガスを含む測定ガスを導
入管7を通じて前段除去体6に導びき、白金属触
媒9、ホプカライト触媒10に次々と接触させ
る。このとき、前段除去体6は、恒温加熱槽13
により130℃から220℃までの範囲内の一定温度に
加熱されているため、干渉ガス中の水素ガス、ブ
タンガス、プロパンガス、エチレンガス、メタノ
ールガス、アセトンガスは白金属触媒9により酸
化され、不活性化されるとともに水分が生成され
る。また、干渉ガス中の一酸化炭素はホプカライ
ト触媒10により酸化され、不活性化される。こ
のようにして被検ガスは熱分解されることなく干
渉ガスの干渉能が除去される。次に、測定ガスは
接続管11を通つて後段除去体12に導びかれ、
この後段除去体12においてガスセンサ4に悪影
響を与える前記水分が吸湿除去される。次に、測
定ガスは銅管16において常温に冷却された後ガ
ス測定器1に導びかれる。このガス測定器1にお
いて測定ガスは活性炭ケース2、フイルタケース
3内を次々と通過した後ガスセンサ4に導びか
れ、該ガスセンサ4において被検ガスの濃度が測
定される。 以下に示す表は、被検ガスとして三フッ化窒素
ガスが10ppm含まれ、干渉ガスとして水素ガスが
10ppm、一酸化炭素ガスが30ppm、ブタンガスが
10ppm、プロパンガスが10ppm、エチレンガスが
10ppm、メタノールガスが1000ppm、アセトンガ
スが1000ppm含まれた測定ガスを前記干渉ガス除
去装置によつて処理した後の各ガスの濃度
(ppm)を示したもので、前段除去体6を100℃、
130℃、160℃、190℃、220℃の各温度に加熱して
測定したものである。
【表】
【表】
以上説明したように、この考案によれば、水
素、一酸化炭素さらには還元性ガスからなる干渉
ガスを確実に除去して、ガス選択性および精度を
向上させることができる。
素、一酸化炭素さらには還元性ガスからなる干渉
ガスを確実に除去して、ガス選択性および精度を
向上させることができる。
図面はこの考案の一実施例を示す概略断面図で
ある。 1……ガス測定器、6……前段除去体、9……
白金属触媒、10……ホプカライト触媒、12…
…後段除去体、15……除湿剤。
ある。 1……ガス測定器、6……前段除去体、9……
白金属触媒、10……ホプカライト触媒、12…
…後段除去体、15……除湿剤。
Claims (1)
- ガスの濃度等を測定するガス測定器の前段に接
続され、被検ガス以外の干渉ガスを除去する干渉
ガス除去装置であつて、白金属触媒およびホプカ
ライト触媒を直列に配置して構成され被検ガスの
分解温度未満に加熱された前段除去体と、除湿剤
から構成された後段除去体と、を備えたことを特
徴とする干渉ガス除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18069383U JPS6088254U (ja) | 1983-11-22 | 1983-11-22 | 干渉ガス除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18069383U JPS6088254U (ja) | 1983-11-22 | 1983-11-22 | 干渉ガス除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6088254U JPS6088254U (ja) | 1985-06-17 |
| JPH0245796Y2 true JPH0245796Y2 (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=30391725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18069383U Granted JPS6088254U (ja) | 1983-11-22 | 1983-11-22 | 干渉ガス除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6088254U (ja) |
-
1983
- 1983-11-22 JP JP18069383U patent/JPS6088254U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6088254U (ja) | 1985-06-17 |
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