JPH0247034B2 - - Google Patents
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- JPH0247034B2 JPH0247034B2 JP58027016A JP2701683A JPH0247034B2 JP H0247034 B2 JPH0247034 B2 JP H0247034B2 JP 58027016 A JP58027016 A JP 58027016A JP 2701683 A JP2701683 A JP 2701683A JP H0247034 B2 JPH0247034 B2 JP H0247034B2
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- transistors
- transistor
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
この発明はダイナミツクランダムアクセスメモ
リ(以下D−RAMという)に用いて好適なMOS
型ワード線信号駆動回路に関する。[Detailed Description of the Invention] (Technical Field) This invention relates to a MOS suitable for use in a dynamic random access memory (hereinafter referred to as D-RAM).
The present invention relates to a type word line signal driving circuit.
(従来技術)
記憶容量が大きくアクセスタイムの速いMOS
型D−RAMを高集積化して実現しようとする
と、構成素子であるMOSトランジスタを縮少化
する必要がある。このためゲート長が短かくなり
いわゆるシヨートチヤンネル効果によつてドレイ
ン・ソース間のリーク電流が増加する場合があ
る。このためD−RAM内のワードライン信号駆
動回路がこのリーク電流により誤動作することが
ある。即ち、ページモードに切替えてワード線を
選択し、活性化信号を印加してハイレベル(以下
“H”と称する)にした後、ビツト線を順次選択
してメモリセルに書込を行つていく過程で、選択
されたワード線の“H”電位が前述したリーク電
流により電位降下をおこしてしまい書込が完全に
行なえない状態が発生することがあつた。D−
RAMの設計にあたつては前述したシヨートチヤ
ンネル効果が発生しない限度までゲート長を短か
くするが、シヨートチヤンネル効果の発生は
MOSトランジスタのドレイン・ソース間に印加
される電圧の大きさに大きく依存するため印加電
圧の比較的低いメモリセル部と印加電圧の比較的
高いワード線信号駆動回路などの周辺回路部とを
同一仕様でトランジスタの設計を行うと上述した
不都合が発生することが多かつた。(Conventional technology) MOS with large storage capacity and fast access time
In order to realize a highly integrated type D-RAM, it is necessary to reduce the size of the MOS transistors that are its constituent elements. As a result, the gate length becomes short, and leakage current between the drain and source may increase due to the so-called short channel effect. Therefore, the word line signal drive circuit in the D-RAM may malfunction due to this leakage current. That is, after switching to page mode and selecting a word line and applying an activation signal to set it to a high level (hereinafter referred to as "H"), bit lines are sequentially selected and data is written into the memory cell. In the process, the "H" potential of the selected word line may drop due to the aforementioned leakage current, resulting in a situation in which writing cannot be performed completely. D-
When designing a RAM, the gate length is shortened to the extent that the short channel effect mentioned above does not occur, but the short channel effect does not occur.
Because it depends largely on the magnitude of the voltage applied between the drain and source of the MOS transistor, the memory cell section, where the applied voltage is relatively low, and the peripheral circuit section, such as the word line signal drive circuit, where the applied voltage is relatively high, have the same specifications. When transistors are designed in this way, the above-mentioned problems often occur.
(目的)
この発明の目的は高速化のためのシヨートチヤ
ンネルの要求は満たしつつもシヨートチヤンネル
効果による誤動作の発生をなくすることの出来る
MOS型ワード線信号駆動回路を提供するにある。(Purpose) The purpose of this invention is to eliminate the occurrence of malfunctions due to the short channel effect while satisfying the short channel requirements for high speed.
The present invention provides a MOS type word line signal driving circuit.
(概要)
この発明は上記目的を達成するために、ワード
線信号駆動回路内の一部のMOSトランジスタの
スレツシヨルド電圧を他のトランジスタのそれに
比して大きくなるようにしたもので、以下実施例
に基づいて詳細に説明する。(Summary) In order to achieve the above object, the present invention is such that the threshold voltage of some MOS transistors in the word line signal drive circuit is made larger than that of other transistors. This will be explained in detail based on the following.
(実施例)
第1図はワード線信号駆動回路を含むこの発明
が適用されるD−RAMの回路結線図である。(Embodiment) FIG. 1 is a circuit connection diagram of a D-RAM to which the present invention is applied, including a word line signal drive circuit.
ワード線信号駆動回路はワード線活性化信号端
子Pに一端が接続され、ゲートに供給されるワー
ド線選択信号D1,D2…Dnに応答してワード線
L1,L2…Lnに活性化信号を伝達するトランジス
タQ11,Q12,…Q1oと、このワード線L1,L2…Ln
上の活性化信号をリセツトするリセツト回路10
とから構成される。20はメモリ部で、トランジ
スタTとコンデンサCの組からなるメモリセルが
マトリツクス状に配列されている。各メモリセル
はワード線L1,L2…Lnとビツト線B1,B2,…Bn
とに結合しており、選択的にコンデンサCに電荷
を蓄積することにより記憶が行なわれる。 The word line signal drive circuit has one end connected to the word line activation signal terminal P, and operates the word line in response to word line selection signals D 1 , D 2 . . . Dn supplied to the gates.
Transistors Q 11 , Q 12 , ... Q 1o that transmit activation signals to L 1 , L 2 ...Ln, and the word lines L 1 , L 2 ...Ln
Reset circuit 10 for resetting the above activation signal
It consists of Reference numeral 20 denotes a memory section in which memory cells each consisting of a combination of a transistor T and a capacitor C are arranged in a matrix. Each memory cell has word lines L 1 , L 2 ...Ln and bit lines B 1 , B 2 , ...Bn
The storage is performed by selectively storing charge in the capacitor C.
従来の回路ではメモリを構成するトランジスタ
Tを含めすべてのトランジスタのゲート長は同一
になるように設計されていたが、第1図に示した
回路では図中に点線で囲んで示したトランジスタ
Q11,Q12,Q1o,Q21,Q22…Q2oのスレツシヨル
ド電圧を他のトランジスタのそれよりも高くして
いる。製造工程を増加させることなく一部のトラ
ンジスタのスレツシヨルド電圧を高くするにはゲ
ート長を他のトランジスタのそれよりも長くすれ
ば良く、これは写真蝕刻用のマスクを一部変更す
るだけで簡単に実現することができる。 In conventional circuits, the gate lengths of all transistors including the transistor T constituting the memory were designed to be the same, but in the circuit shown in Figure 1, the transistors surrounded by dotted lines in the figure
The threshold voltages of Q 11 , Q 12 , Q 1o , Q 21 , Q 22 . . . Q 2o are set higher than those of other transistors. In order to increase the threshold voltage of some transistors without increasing the manufacturing process, it is sufficient to make the gate length longer than that of other transistors, and this can be easily done by simply changing some of the photolithography masks. It can be realized.
次に第1図の回路の動作を説明するが、簡単の
ためにワード線L1とL2についてのみ説明を限定
するが他も同様である。第2図は動作を説明する
ためのタイミングチヤートである。ワード線活性
化信号端子Pの電位がVCC+VTH+α(ここでVCC
は電源電圧、VTHはトランジスタQ11,Q12のスレ
ツシヨルド電圧、αは余裕電圧である。)まで立
上り、その後ワード線選択信号端子D1に電源電
圧VCCが印加されるとトランジスタQ11はオンし
て活性化信号をワード線L1に伝達する。この時
ワード線L1の電位はVCCとなつて“H”となる。
ワード線L1の電位上昇にともなつてトランジス
タQ31がオンし始め、ワード線L1の電位がトラン
ジスタQ31のスレツシヨルド電圧VTH3を越えると、
リセツト線Nの電位はVCC−VTH4(ここでVTH4はト
ランジスタQ4のスレツシヨルド電圧)からOVに
落ちる。リセツト線Nの電位降下にともないトラ
ンジスタQ21がオフし始め、その電位がVTH2(ここ
でVTH2はトランジスタQ21,Q22のスレツシヨルド
電圧)以下になつたところで完全にオフ状態とな
る。選択されなかつたワード線選択信号端子D2
はOVに保たれているためトランジスタQ12はオ
ンせず、ワード線L2の電位はOVである。 Next, the operation of the circuit shown in FIG. 1 will be described. For simplicity, the explanation will be limited to word lines L1 and L2 , but the same applies to the other circuits. FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation. The potential of the word line activation signal terminal P is V CC +V TH +α (here, V CC
is the power supply voltage, V TH is the threshold voltage of transistors Q 11 and Q 12 , and α is the margin voltage. ), and then when the power supply voltage V CC is applied to the word line selection signal terminal D 1 , the transistor Q 11 turns on and transmits the activation signal to the word line L 1 . At this time, the potential of the word line L1 becomes V CC and becomes "H".
As the potential of the word line L1 rises, the transistor Q31 starts to turn on, and when the potential of the word line L1 exceeds the threshold voltage VTH3 of the transistor Q31 ,
The potential on reset line N drops from V CC -V TH4 (where V TH4 is the threshold voltage of transistor Q4 ) to OV. As the potential of the reset line N decreases, the transistor Q21 begins to turn off, and becomes completely off when its potential falls below V TH2 (here, V TH2 is the threshold voltage of the transistors Q 21 and Q 22 ). Unselected word line selection signal terminal D 2
is maintained at OV, transistor Q12 is not turned on, and the potential of word line L2 is OV.
次にVCCの電位を持つリセツト信号がリセツト
信号端子Rに入力されるとトランジスタQ4はオ
ン状態となり、リセツト線Nの電位はVCC−VTH4
まで昇圧される。そしてリセツト線Nの電位が
VTH2以上になつたところでトランジスタQ21,Q22
がオン状態となり、ワード線L1の電位はOVに減
圧していく。それと同時にトランジスタQ31,
Q32がオフし、リセツト線Nの電位はVCC−VTH4
に落ちつく。このような動作においてワード線
L1,L2はワード線選択信号によつて選択された
時のみ“H”となりリセツト信号によつてリセツ
トされるまで“H”の状態を維持している必要が
ある。 Next, when a reset signal with a potential of V CC is input to the reset signal terminal R, the transistor Q4 is turned on, and the potential of the reset line N becomes V CC -V TH4.
The pressure is increased to And the potential of reset line N is
When V TH2 or higher, transistors Q 21 and Q 22
turns on, and the potential of word line L1 is reduced to OV. At the same time, transistor Q 31 ,
Q32 is turned off and the potential of reset line N is V CC −V TH4
calm down. In such an operation, the word line
L 1 and L 2 become "H" only when selected by the word line selection signal, and must remain in the "H" state until reset by the reset signal.
従来の回路ではトランジスタQ11,Q12,Q21,
Q22のシヨートチヤンネル効果によりリーク電流
が発生しワード線L1,L2の“H”の電位が降下
したり、ワード線活性化信号の電位が降下してし
まうという欠点があつたが、第1図に示したよう
にトランジスタQ11,Q12…Q1o,Q21,Q22,…
Q2oのスレツシヨルド電圧を高くして、シヨート
チヤンネル効果によるリーク電流が発生しないよ
うにしておけばこのような欠点を解消することが
出来る。(第2図には点線で電位降下をともなう
場合の波形図を示している。)したがつて正常な
メモリ書込動作が阻害されることはなくなる。 In the conventional circuit, transistors Q 11 , Q 12 , Q 21 ,
There was a drawback that a leakage current was generated due to the short channel effect of Q 22 , causing the "H" potential of word lines L 1 and L 2 to drop, and the potential of the word line activation signal to drop. As shown in FIG. 1, the transistors Q 11 , Q 12 ...Q 1o , Q 21 , Q 22 , ...
This drawback can be overcome by increasing the threshold voltage of Q 2o to prevent leakage current from occurring due to the short channel effect. (In FIG. 2, the dotted line shows a waveform diagram in the case where a potential drop is involved.) Therefore, normal memory write operation is not inhibited.
なおこの発明は第1図に示した回路にのみ限定
されるものではなく、ワード線に活性化信号を伝
達するトランジスタとワード線に接続されてリセ
ツト動作を行うトランジスタのゲート長を他のト
ランジスタのそれに比して長くしたすべての
MOS型ワード線信号駆動回路に適用出来ること
はいうまでもない。 Note that the present invention is not limited to the circuit shown in FIG. 1; the gate length of the transistor that transmits the activation signal to the word line and the transistor that is connected to the word line and performs the reset operation can be changed to that of other transistors. All lengths compared to
Needless to say, it can be applied to a MOS type word line signal drive circuit.
(効果)
以上実施例に基づいて詳細に説明したように、
この発明では回路を構成するトランジスタのスレ
ツシヨルド電圧を異ならせてシヨートチヤンネル
効果によるリーク電流の発生を防止するようにし
たので、高速化と良好な動作マージンという2つ
の要求を同時に満足するD−RAMを実現するこ
とが出来るというすぐれた効果がある。(Effects) As explained in detail based on the examples above,
In this invention, the threshold voltages of the transistors constituting the circuit are made different to prevent the occurrence of leakage current due to the short channel effect, so the D-RAM can simultaneously satisfy the two requirements of high speed and good operating margin. It has the excellent effect of being able to realize the following.
第1図はこの発明が適用されるD−RAMの回
路結線図の一例、第2図は第1図の回路動作を説
明するためのタイムチヤートである。
10……リセツト回路、20……メモリ部、
Q11,Q12,…Q1o……スレツシヨルド電圧の高い
トランジスタ(第1のトランジスタ)、Q21,
Q22,…Q2o……スレツシヨルド電圧の高いトラ
ンジスタ(第2のトランジスタ)、P……ワード
線活性化信号端子、D1,D2…Dn……ワード線選
択信号端子、L1,L2…Ln……ワード線、R……
ワード線リセツト信号端子。
FIG. 1 is an example of a circuit connection diagram of a D-RAM to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a time chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG. 10...Reset circuit, 20...Memory section,
Q 11 , Q 12 , ...Q 1o ... Transistor with high threshold voltage (first transistor), Q 21 ,
Q 22 ,...Q 2o ...Transistor with high threshold voltage (second transistor), P...Word line activation signal terminal, D1 , D2 ...Dn...Word line selection signal terminal, L1 , L2 ...Ln...word line, R...
Word line reset signal terminal.
Claims (1)
ド線活性化信号を伝達する第1のMOSトランジ
スタと、リセツト信号に応答して前記ワード線の
活性化信号レベルをリセツトするリセツト回路と
を具備したMOS型ワード線信号駆動回路におい
て、 前記リセツト回路にあつて前記ワード線に接続
され前記リセツト信号印加時に前記ワード線の活
性化信号レベルをリセツトする第2のMOSトラ
ンジスタと前記第1のMOSトランジスタとのゲ
ート長をメモリセルを構成するトランジスタのゲ
ート長よりも長くした事を特徴とするMOS型ワ
ード線信号駆動回路。[Claims] 1. A first MOS transistor that transmits a word line activation signal to the word line in response to a word line selection signal, and a first MOS transistor that resets the activation signal level of the word line in response to a reset signal. A MOS word line signal drive circuit comprising: a second MOS transistor connected to the word line in the reset circuit and resetting the activation signal level of the word line when the reset signal is applied; A MOS word line signal drive circuit characterized in that the gate length of the first MOS transistor is longer than the gate length of the transistors constituting the memory cell.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58027016A JPS59154689A (en) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | Signal driving circuit of mos type word line |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58027016A JPS59154689A (en) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | Signal driving circuit of mos type word line |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3241352A Division JPH07105135B2 (en) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59154689A JPS59154689A (en) | 1984-09-03 |
| JPH0247034B2 true JPH0247034B2 (en) | 1990-10-18 |
Family
ID=12209292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58027016A Granted JPS59154689A (en) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | Signal driving circuit of mos type word line |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59154689A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07105135B2 (en) * | 1991-09-20 | 1995-11-13 | 沖電気工業株式会社 | Semiconductor memory device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5255338A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-06 | Hitachi Ltd | Memory |
-
1983
- 1983-02-22 JP JP58027016A patent/JPS59154689A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59154689A (en) | 1984-09-03 |
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