JPH0247272B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は移送されている長尺可撓性支持体（以
下「ウエブ」という）に液状塗布組成物を塗布す
るための方法に関する。

液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウ
エブに塗布するための方法として広く利用されて
いる方法の一つに、Russell等により米国特許第
2761791号に提案されたいわゆる多層スライドビ
ード塗布装置を用いる方法がある。この方法は複
数の傾斜面（スライド面）を流れ下る塗布液を、
それが移送されているウエブと出会う点にビード
を形成させるようにし、このビードを介して塗布
を行なうものである。従つてこの種の装置におい
てはビードを安定に維持することが、塗布を成功
させるために必要である。しかし、塗布速度が大
となるに従つて、安定なビードの維持は困難にな
る傾向がある。

塗布液、とくに低粘塗布液を高速、かつ薄層に
塗布することができ、しかも膜質の良好な塗膜を
得ることができる塗布装置として、本発明の発明
者らは、「１種以上の塗布液を、各塗布液吐出口
よりダイ表面に吐出し、該表面に沿つて流出させ
た後、塗布液の流れに対して実質的に垂直な方向
に移送される支持体の表面に塗布する装置におい
て、少なくとも前記支持体表面に第１の塗膜層を
形成するべき第１塗布液のダイ表面上の流出面の
全域を、前記支持体表面に向つて水平に延びた平
面で形成したことを特徴とする塗布装置」を提案
し、本発明は既に特開昭56−133067号公報として
開示されている。

一方米国特許第2681294号には、ビードの下面
側を減圧状態にする手段を設けて、ビードの上下
表面に圧力差を生じさせることにより、ビードを
安定化するという技術が開示されている。又、特
開昭52−47039号公報では「対向ロールに巻き送
りされて下向きに走行する被塗布材料と注液器と
の間隙に一定量の塗布液を供給してくさび形の塗
布液溜りを形成させ、かつ前記被塗布材料の全巾
に亘つて、前記注液器の下側に隣接して設けた空
気加圧室より送られる空気圧を前記液溜りの下側
に加えながら塗布することを特徴とする塗布方
法。」が開示されている。

しかしながらこれらいずれの従来の方法または
装置を用いても特に有機溶剤系の塗布液の如き、
低粘度で濡れの良い塗布液を塗布する場合には、
ビード液が塗布装置先端から落ちる現象が生じ不
都合であつた。本明細書において、一般的に「低
粘度」と云う表現を用いるときは、10cp以下の
粘度を云い、特に本発明の適用対象となる「低粘
度で濡れの良い」と云う表現を用いるときは粘度
2cp以下・表面張力25dyne／cm以下の物性を云う
ものとする。又、有機溶剤とはアセトン、メタノ
ール、エタノール、塩化メチル、ブタノール、メ
チルグリコール、メチルエチルケトン、エチルセ
ロソルブ及びこれらと水との組合せ又はこれらの
１部の組み合わせ等写真材料、記録材料に用いる
溶剤塗布液を云う。

本発明の目的は例えば有機溶剤の如き、低粘度
で濡れの良い塗布液をウエブに塗布する際に発生
するビードの落下現象を防止することである。

本発明の他の目的は、例えば有機溶剤の如き、
低粘度で濡れの良い塗布液をウエブに塗布する
際、高速で薄層の塗布を可能にすることである。

本発明のかかる目的は、スライドビード塗布方
法において、ビードの下面側から上面側に向けて
ウエブを走行せしめ、ビードの下面側を加圧状態
にする手段を設けて、ビードの上下表面に圧力差
を生じさせることにより、ビードを安定化させる
ことにより達成される。

以下に、添付図に従つて従来技術と比較対照し
つつ本発明の内容を更に詳しく説明する。

本発明の発明者らによる先願の発明に係る塗布
装置を示す第１図において、１はウエブ、２は矢
印Ａの方向に回転するバツキングロールで、支持
体１はこれにより、矢印A′の方向に進行する。
３，４は水平面を有するダイブロツク、５は最終
ダイブロツク、６はウエブ１の表面に第１の塗膜
層９を形成する第１塗布液、７は第２塗膜層１０
を形成する第２塗布液である。第１塗布液６と第
２塗布液７とはダイブロツク３の水平面上で、積
層流となり表面張力の作用によりダイブロツクの
先端に至り、ウエブ１との間にビード８を形成す
る。ウエブ１の移動に伴ない、積層された塗布液
は数十倍以上の引き伸ばし率をもつてウエブ１の
表面に塗布され、塗膜９，１０を形成する。

第１図に示す従来の塗布装置によれば、塗布液
が水平面上を表面張力の作用にのみ依存して自由
に流れるようになつているので、ビード形成前に
液膜厚が増大し、またビード部に無理な力がかか
らず、例えば10cp以下の低粘度液を高速かつ薄
層に塗布するごとが可能であつたが、特に有機溶
剤系の塗布液の如き粘度が2cp以下で表面張力が
25dyne／cm以下の低粘度で濡れの良い液を塗布
する場合には、前述の如く、ビード液が塗布装置
先端から落ちる現象が生じ不都合であつた。

一方米国特許第2681294号には、第２図におい
て、塗布ホツパー１１により、スロツト１２を通
じて塗布液を供給し、ウエブ１の表面上に塗膜９
を形成するに際し、ビード８の下面側に減圧室１
３を設けバルブ１４、液トラツプ１５、マノメー
タ１６を使つて図示していない真空ポンプによ
り、ビード８の下面側を減圧状態となし、ビード
８の上下表面に圧力差を生じさせることにより、
ビードを安定化させると云う技術が開示されてい
る。然しながらかかる方法を適用しても、特に有
機溶剤系の塗布液の如き、低粘度で濡れの良い塗
布液を塗布する場合のビード落下現象は改善され
ず、むしろビード８が破壊される。又、特開昭52
−47039号公報では第３図において、バツキング
ロール２を矢印Ｂの向きに回転させ、ウエブ１を
矢印B′の向きに走行させて、注液器１６の塗布
液室１７に、ポンプ１８により希望膜厚を形成す
るにに必要な塗布液を供給し、スロツト１９を介
して傾斜面２０を流下せしめ、前記注液器１６と
ウエブ１との間隙にくさび形の塗布液溜り８を形
成し、次いで注液器１６の下側に、これに隣接し
て設けた空気加圧室２１のノズル２２より塗布液
溜りの下端に約50〜500mm水柱の空気圧を加えて
メニスカスを形成させ50〜100ｍ毎分で均一な薄
層塗布を行なつている。しかしながら、かかる塗
布方法も、そのビード安定化の原理は前述の米国
特許第2681294号に開示された技術と同じもので
あるため、特に有機溶剤系の塗布液の如き低粘度
で濡れの良い塗布液を塗布する場合には、ビード
８の一部が破壊されて液切れ現象を起こし、加圧
室２１の存在はむしろ逆効果となる。

本発明に係る塗布方法を実施するための塗布装
置の一例を示す第４図において、塗布液６はポン
プ１８によつて送液され、ダイブロツク３の水平
面上を表面張力の働きによつて進み、ダイブロツ
クの先端に至りウエブ１との間にビード８を形成
するが、バツキングローラー２を矢印Ａの向きに
回転し、ウエブ１を矢印A′の向きすなわちビー
ド８の下面側から上面側に向けて走行せしめ、ビ
ード８の下面側に加圧室２１を設けてブロアー２
３により加圧空気を送入し、ビード８の上下表面
に圧力差を生じさせることにより、ビードを安定
化する。加圧室２１を加圧することなしに特に有
機溶剤系の塗布液の如き低粘度で濡れの良い塗布
液を塗布する場合、ダイブロツク３の素材と、塗
布液６とが互に濡れ易いために一般にリツプと称
されるダイブロツク先端部２４に塗布液６が濡れ
拡がり、ビード８の形成が困難になるが、加圧室
２１を加圧状態にするとビード８の下側から上側
に向けて圧力が加わりビード８が持ち上げられる
ので、ビード８が安定化する。

本発明に係る塗布方法を多層のスライドビード
塗布に応用した場合の実施例塗布装置を示す第５
図において、第１塗布液６及び第２塗布液７は、
それぞれポンプ１８，１８′によつて送液され、
傾斜面を有するダイブロツク３，４の表面を積層
流となつて重力の作用により流下し、ダイブロツ
クの先端に至りウエブ１との間にビード８を形成
するが、バツキングローラー２を矢印Ａの向きに
回転し、ウエブ１を矢印A′の向きすなわちビー
ド８の下面側から上面側に向けて走行せしめ、ビ
ード８の下面側に加圧室２１を設けてブロアー２
３により加圧空気を送入し、ビード８の上下表面
に圧力差を生じさせることにより、ビードを安定
化する。ダイブロツク先端部２４の部分で生じる
現象は第４図に関する説明とほゞ同じである。

本発明によれば、上述の如く、例えば有機溶剤
の如き、低粘度で濡れの良い塗布液をウエブに塗
布する際に発生するビードの落下現象を防止でき
るが、同時に本発明によれば、かかる塗布液を塗
布する際に高速で薄層の塗布が可能となる。すな
わち、前述のビード８の落下現象又は液切れ現象
は、従来の塗布方法は装置によつても、塗布液の
送液量を増量して塗布液膜を厚くすることにより
防止可能であるが、かかる防止策は乾燥負荷の増
大や、原料の浪費を招く。本発明によれば、高速
薄層塗布が可能となるので、斯様な不都合もなく
なる。

実施例：アセトン及びメタノールをそれぞれ体積
比で４部・６部の割合で混合した粘度0.75cp、
表面張力23.7dyne／cm（いずれも20℃にて側
定）の溶液を三酢酸セルロースのウエブに毎分
100ｍで塗布した。

比較例１：第１図に示す装置では１平方メートル
当り31c.c.までの薄層塗布が安定に行なえたが、
送液量を減らすとビードの落下現象が発生し
た。

比較例２：第２図に示す塗布方法では塗布量を１
平方メートル当り100c.c.位に増さないと、ビー
ドの落下現象が発生し、塗布不能であつた（減
圧室１３の圧力は−10〜−60mmH₂O）。

実施例１：第４図において加圧室２１を６〜10mm
H₂Oとしたら、塗布量が１平方メートル当り
18c.c.迄安定な薄層塗布が可能となつた。

上記実験は毎分100ｍの塗布速度で行なつたが、
毎分200ｍまではほゞ同じ現象が予想できる。

本発明は特に写真感光フイルムの下塗液を塗布
する場合に有効である、これらは例えば、アルコ
ール（メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、メトキシエタノール、アセトキシエタノー
ル、エトキシエタノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、
メトキシプロパノール、フエノキシエタノール、
フエニルプロパノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、フエノール、ｔ−ブチルフエ
ノール、フルフリルアルコール、トリプロピレン
グリコールなど）、炭化水素（ヘキサン、リグロ
イン、シクロヘキサン、デカリン、オクタンな
ど）、ハロゲン化炭化水素（ジクロルメタン、ク
ロロホルム、メチルクロロホルム、四塩化炭素、
ジクロルエタン、トリクロルエタン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼンなど）、エーテル（エチ
ルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピル
エーテル、エチルフエニルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、アニソール、プロピレン
オキサイド、モルホリンなど）、芳香族炭化水素
（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、シメン、キユメン、スチレンなど）、ラクト
ン、ラクタム（ブチルラクトン、アセチルブチロ
ラクトン、ピロリドン、Ｎ−メチルチロリドン、
ビニルピロリドンなど）、アミド（ジメチルホル
ムアミド、ジエチルホルムアミド、ホルムアミ
ド、ジエチルアセトアミド、ホルミルモルホリ
ン、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、テトラメチル尿素など）、ケトン（ア
セトン、メチルエチルケトン）メシチルオキシ
ド、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコ
ール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノ
ン、アセトフエノンなど）、アセトニトリル、ニ
トロプロパン、ジメチルシアナミド、二硫化炭
素、ジメチルスルホキサイド、メチルエチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド、スルホラン、
エステル（蟻酸メチル、フタル酸ジメチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸
アミル、酢酸ブチル、β−メトキシエチルアセテ
ート、β−ブトキシエチルアセテート、プロピオ
ン酸プロピル、シユウ酸ジメチル、マレイン酸ジ
メチルなど）、酸（蟻酸、酢酸、酪酸、アクリル
酸、メタクリル酸など）、アミン（ピリジン）、の
中から、当業者が溶解性、乾燥しやすさ、反応
性、臭気、水との相溶性、価格などを参考にし
て、容易に一種もしくはそれ以上を選ぶことがで
きる。

然しながら、本発明は実施例もしくは上記有機
溶剤に限らず、低粘度で濡れの良い、水系の塗布
液にも、本発明の技術的範囲内で適用可能であ
る。

又ウエブとしては実施例に限らず、ポリエステ
ルベース、プラスチツクフイルム、セロフアン、
紙、薄い金属板等の可撓性を有する帯状物が含ま
れる。

又、本発明は実施例に限らず、ホツパースライ
ド塗布、エクストルージヨンビード塗布にも適用
可能な上、本発明の思想は例えば特公昭45−
12390号公報に示されたエクストルージヨン型塗
布装置にも適用可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は従来の塗布方法又は塗布
装置を示す側断面図、第４図は本発明に係る塗布
方法を実施するための塗布装置の側断面図、第５
図は本発明に係る塗布方法を実施するための他の
塗布装置の断面図を示す。 １……支持体、２……バツクアツプロール、
６，７……塗布液、８……塗布ビード部、９，１
０……塗布液膜、２１……加圧室。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ スライドビード塗布方法において、ビードの
   下面側から上面側に向けてウエブを走行せしめ、
   ビードの下面側を加圧状態にする手段を設けて、
   ビードの上下表面に圧力差を生じさせることによ
   り、ビードを安定化させることを特徴とする塗布
   方法。 ２ 粘度2cp以下、表面張力25dyne／cm以下の塗
   布液を塗布する特許請求の範囲第１項記載の塗布
   方法。