JPH0247434Y2 - - Google Patents

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JPH0247434Y2
JPH0247434Y2 JP5236386U JP5236386U JPH0247434Y2 JP H0247434 Y2 JPH0247434 Y2 JP H0247434Y2 JP 5236386 U JP5236386 U JP 5236386U JP 5236386 U JP5236386 U JP 5236386U JP H0247434 Y2 JPH0247434 Y2 JP H0247434Y2
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JP
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molten metal
powder
gutter
opening
electromagnetic
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JP5236386U
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  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はアルミなどのダライ粉を再生するため
の溶解装置に関するものである。
〔従来技術〕
アルミ反射炉において、例えば加熱部からの溶
湯を取りだし、電磁樋にて斜上方に搬送し、案内
樋にて被溶解ダライ粉投入用ウエル部に流下させ
る構成がある(特公昭57−27387号)。この構成に
おいて、反射炉ウエル部に流下する溶湯にダライ
粉を添加すると、当該ダライ粉は、上記した流下
する溶湯に混入した分についてはウエル部の溶湯
中に浴し、ダライ粉の周囲に接する溶湯から外気
に接することなく溶解する。
しかるに、ダライ粉の一部は、流下する溶湯に
混入することなくウエル部に浮遊する。
〔考案が解決しようとする問題点〕
上記ウエル部における浮遊状態のダライ粉は、
周囲が外気に曝されたまま加熱されるので酸化が
促進されてスラグ発生の要因となる。このスラグ
は、不純物として、溶湯表面上に浮遊し、取り出
し作業が強いられるが、この作業は極めて面倒
で、ひいてはスラグが浮遊する箇所の溶湯をも排
出する必要が生じ、溶湯の歩留が低下する等の問
題点があつた。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、溶湯案内樋の垂直方向に形成した溶
湯流下用開孔の真上ないし近傍にダライ粉を供給
するようにしたことを要旨とする。
〔作用〕
案内樋の垂直方向の開孔から流下する溶湯にダ
ライ粉が巻き込まれ、当該ダライ粉は、溶湯中に
的確に浴する。
〔実施例〕 以下、図示する実施例について具体的に説明す
る。第1図は本考案の要旨をなす箇所の第3図C
−C断図面、第2図、第3図はそれぞれこの考案
を実施する反射炉の一部切欠き側面図、及び平面
図、第4図は第3図のA−A断面図、第5図は第
3図のB−B断面図である。第2−−5図におい
て、1は反射炉本体で、排気孔1aを形成すると
ともに加熱部1e、被溶解金属投入用ウエル部1
bを備え、当該ウエル部1bより十分内部に位置
する加熱部1eの側面に通湯口1cを形成してい
る。2は貯湯槽で、上記通湯口1cに連通する開
口2aから反射炉1の加熱部1e内部に存する高
温の溶湯Mが導かれる。3は電磁樋で、誘導子を
構成する鉄心3a、この鉄心3aに備えられる移
動磁界発生用巻線3b並びに上記誘導子上に配置
される底部耐火壁3c、及び側方耐火壁3d1,
3d2から構成される。そして、この電磁樋3は
貯湯槽2の底部より本体1のウエル部1bの側方
における反射炉1中の許容最大容湯レベルより上
位に溶湯Mを搬送する。4は電磁樋用支持脚であ
る。5は蓋体で、貯湯槽2及び電磁樋3の上方部
を覆つている。6は案内樋で、電磁樋3の上方端
部から流出する溶湯Mを被溶解金属投入用ウエル
部1b上方に導き、溶湯Mを開口部1b中に流下
させる。7はバーナー装置で、反射炉1のウエル
部1bとは反対側に存する炉壁に備えられ、反射
炉1の加熱部1e内に火炎を放射し、加熱部1e
内の溶湯Mを強力に加熱する。
ところで、上記案内樋6の先端には、第1図に
示すように、案内された溶湯Mが流下する開孔1
1が垂直方向に形成され、この開孔11の上部に
までダライ粉12を供給するフイーダ13が備え
られている。14はダライ粉蓄積槽で、この内部
に蓄積されたダライ粉をフイーダー13の作用に
より適量ずつ切り出す。
上記構成において、まずアルミ等の被溶解金属
が固まり状にて反射炉1の加熱部1e内に投入さ
れ、バーナー装置7から反射炉1の加熱部1e内
に放炎される熱によつて加熱を受ける。この過程
において反射炉内にはある程度溶湯Mが蓄積さ
れ、いわゆる種湯(これは他より溶湯の形で炉内
に注湯するようにしてもよい)が得られる。
さて、高温の溶湯Mが通湯口1c及び開口2a
を通じて加熱部1eより貯湯槽2並びに電磁樋3
に導かれた状態において電磁樋3の巻線3bに交
流電力が印加されると第1図に示す矢印X方向の
移動磁界が発生する。これによつて、電磁樋3は
磁束の浸透深さの及ぶ範囲にて溶湯Mに矢印X方
向の推力を及ぼす。つまり、電磁樋3の底部耐火
壁3cにおける反射炉1内の溶湯レベル以上の部
分では溶湯Mの厚さは必然的に磁束の浸透深さの
範囲内に限定され、溶湯Mはとどこおる余地なく
強力に電磁樋に沿う斜上方に引上げられて案内樋
6に形成した垂直方向の開孔11を通じてウエル
部1bに流下する。この際、ダライ粉蓄積槽より
ダライ粉12が適量ずつ切り出され、この切り出
されたダライ粉は、流下する溶湯Mにおいてでき
る円推形状の空間に落下する。従つて、供給され
たダライ粉は、開孔11より流下する溶湯に包み
込まれてウエル部に浴することになる。
〔効果〕
以上述べたように、本考案に係わるダライ粉の
溶解装置は、熱エネルギーを蓄えた溶湯を垂直方
向の開孔より流下させるとともに、この開孔にダ
ライ粉を適量ずつ供給するようにしたものであ
る。このような構成により、被溶解ダライ粉は、
流下する溶湯Mに覆われる作用を伴つて溶湯中に
浴することから、外気に触れることなく溶解され
る。これに伴い、被溶解ダライ粉は酸化の余地な
く、スラグの発生もなく、溶湯の歩留りの低下を
防止できる等の優れた特長を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は要部を示す第3図のC−C断面図、第
2図は一部切り欠き側面図、第3図は平面図、第
4図は第3図のA−A断面図、第5図は第3図の
B−B断面図である。 6……溶湯案内路、M……溶湯、11……開
孔、12……ダライ粉、S……円推状空間。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 溶湯案内路より流下する熱エネルギー吸収状
    態の溶湯に被溶解ダライ粉を添加して溶湯を生
    成する構成において、上記溶湯案内路の溶湯流
    出口を垂直方向に形成した開孔とし、当該開孔
    の真上ないしその近傍にダライ粉を供給する手
    段を備えたことを特徴とするダライ粉の溶解装
    置。 2 熱エネルギー吸収状態の溶湯を、反射炉の加
    熱部より得て、ウエル部に導いて流下させるこ
    とを特徴とする実用新案登録請求範囲第1項記
    載のダライ粉の溶解装置。
JP5236386U 1986-04-08 1986-04-08 Expired JPH0247434Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5236386U JPH0247434Y2 (ja) 1986-04-08 1986-04-08

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JP5236386U JPH0247434Y2 (ja) 1986-04-08 1986-04-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62164592U JPS62164592U (ja) 1987-10-19
JPH0247434Y2 true JPH0247434Y2 (ja) 1990-12-13

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JP5236386U Expired JPH0247434Y2 (ja) 1986-04-08 1986-04-08

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