JPH0247544B2 - - Google Patents
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- JPH0247544B2 JPH0247544B2 JP58218370A JP21837083A JPH0247544B2 JP H0247544 B2 JPH0247544 B2 JP H0247544B2 JP 58218370 A JP58218370 A JP 58218370A JP 21837083 A JP21837083 A JP 21837083A JP H0247544 B2 JPH0247544 B2 JP H0247544B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は化学めつき用組成物に関し、特に基材
上任意の箇所のみに化学めつきにより金属導体皮
膜を形成させる事ができ、それ自身が導電性を有
する事を特徴とするアンダーコート用組成物及び
斯かる組成物を使用する化学めつき方法に関す
る。
各種プラスチツク類、ソーダ・ライム・シリカ
ガラス、ホウケイ酸ガラス等のガラス製品、木
材、紙等の電気的不導体、あるいは各種金属や導
電性塗料、導電性接着剤の硬化物等の導電体上へ
化学めつきにより金属導体皮膜を析出させるには
以下の方法がある。
プラスチツク、ガラス、セラミツクス等の電気
的不導体は、本来化学めつき感受性を有しておら
ず、従つて之等を基材とし、その表面に化学めつ
きにより金属導体皮膜を形成させる場合、該基材
表面の活性化即ち触媒付与が必要である。従来か
かる活性化手段としては、例えば(1)基材を塩化第
一錫の塩酸水溶液に浸漬して感受性を付与し、次
いで塩化パラジウム水溶液で活性化する方法、(2)
ガラス粉末中に塩化パラジウム等の触媒金属を混
合した組成物を基材表面に施工し焼付ける方法、
(3)熱硬化型または紫外線硬化型樹脂に塩化パラジ
ウム等の触媒金属を混合した組成物を基材表面に
施工し硬化させる方法および(4)有機溶媒に可溶か
または微粉末のパラジウム化合物を有機ビヒクル
に溶解混合した組成物をセラミツクス基材表面に
施工し加熱分解させる方法、が知られている。し
かしながら上記(1)の方法は、予め基材表面を物理
的又は化学的に粗面化しなければ密着性の良い皮
膜を得難く、任意の箇所にのみ化学めつきを施す
場合、予め、基材表面の金属導体不要部分をマス
キングするか、基材全体に化学めつきを施してお
き金属導体必要部分をレジスト材で保護した後、
金属導体不要部分を溶解除去しさらに先のレジス
ト材を除去しなければならないという複雑な工程
を必要とする不利がある。また強酸性の溶液に浸
漬するため、耐酸性の弱い基材に適用するには不
向である。(2)および(3)の方法は、操作および密着
性は良好であるが基材表面と化学めつきによる金
属導体皮膜との間にガラスあるいは樹脂の電気的
絶縁層を介在させる事を必要としておりこのガラ
スあるいは樹脂によつて基材表面に予め設けてあ
つた導体部分と化学めつきにより析出した金属導
体部分との電気的接続は、めつき皮膜の厚さ分の
みとなり信頼性に乏しい。また(4)の方法は、基材
表面と化学めつきによる金属導体との間には極く
薄い触媒金属の不連続の層のみで先に述べた電気
的接続信頼性は高いが基材がセラミツクスに限ら
れるという欠点を有している。
一方、樹脂に導電性フイラーを混合した導電性
塗料、導電性接着剤なるものが存在する。導電性
フイラーには、貴金属、卑金属、カーボンブラツ
ク、グラフアイト、カーボン繊維等を用いてい
る。例えばこれらペーストを基材に施工し、乾燥
または硬化した後、化学めつき液に浸漬してもめ
つきが析出しないもの(アルミニウム、亜鉛、カ
ーボンブラツク、グラフアイト等)、あるいはめ
つきが析出しても密着強度の低いものが得られる
のみである。また、卑金属の導電性フイラーは、
空気中の酸素によつて酸化され導電性が劣化す
る。酸化については各方面で酸化防止剤等を検
討、使用されているが経時変化等についてなお充
分でない。
従つて本発明の目的は、容易に施工でき、基材
表面の任意の箇所のみを活性化でき該表面に化学
めつきにより密着強度の優れた金属導体皮膜を形
成でき、しかも、それ自身導電性を有するアンダ
ーコート用組成物を提供することにある。
本発明者らは、上記目的の組成物を提供するべ
く種々研究を重ねた。その結果、熱硬化型樹脂、
紫外線硬化型樹脂、乾燥硬化型樹脂の中の少なく
とも1種の樹脂に耐熱性無機粉末、パラジウム触
媒粉末、および導電性炭素粉末の特定量を配合し
た組成物は基材表面に容易に施工でき、硬化また
は乾燥後の塗膜自身が導電性を有しており、各種
金属に対し顕著な増感作用を有し、従つて化学め
つきによつて均一にして密着強度の優れた析出金
属皮膜が形成可能となり、且つ基材表面に予め設
けてあつた導体部分との電気的接続信頼性が大き
く向上する事を見い出しここに本発明を完成する
に至つた。
即ち本発明は、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹
脂、乾燥硬化型樹脂の中より、少なくとも1種の
樹脂100重量部、耐熱性無機粉末18〜265重量部、
パラジウム触媒粉末3〜33重量部および(高)導
電性炭素粉末12〜180重量部からなり、基材上任
意の塗付箇所のみに化学めつきにより、金属導体
皮膜を形成させるためのアンダーコート用組成物
であり、硬化塗膜自身が導電性を有する事を特徴
とする、活性化用組成物に係る。
本発明組成物において熱硬化型樹脂としては、
硬化剤あるいは硬化触媒の不存在下または必要に
応じ硬化剤あるいは硬化触媒の存在下に加熱によ
り硬化する樹脂であれば広い範囲のものが使用で
きる。例えば具体的には、エポキシ樹脂、フエノ
ール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹
脂、ポリイミド樹脂等が例示できこれらのプレポ
リマー、モノマーまたはその混合したものも使用
できる。
上記エポキシ樹脂としては、限定するものでは
ないが一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を
有する化合物でグリシジルエーテル型樹脂(ビス
フエノール型化合物とエピクロルヒドリンとの縮
合生成物。ポリアルコール、グリセリン、エーテ
ル、ポリオレフイン、ノボラツク樹脂等とエピク
ロルヒドリンとの縮合生成物。エポキシウレタン
樹脂等)、グリシジルエステル型樹脂(アクリル
酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエ
ステル等)、グリシジルアミン型樹脂(グリシジ
ルアニリン、トリグリシジルイソジアヌレート
等)、線状脂肪族エポキシ樹脂(エポキシ化ポリ
ブタジエン、エポキシ化大豆油等)、脂環式エポ
キシ樹脂(ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジ
シクロペンタジエンジオキシド、ビス(3,4−
エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)ア
ジペート等)等がある。フエノール樹脂として
は、フエノール、クレゾール、キシレノール、パ
ラアルキルフエノール、パラフエニルフエノー
ル、その他これらの誘導体であるフエノール類
と、ホルムアルデヒドとヘキサメチレンテトラミ
ン、フルフラール等のアルデヒド源とをアルカリ
触媒で反応させたレゾールと呼ばれるフエノール
アルコール類、酸触媒で反応させたノボラツクと
呼ばれるジヒドロキシジフエニルメタン類に大別
される樹脂およびエポキシ変性フエノール樹脂、
メラミン変性フエノール樹脂等がある。不飽和ポ
リエステル樹脂としては、不飽和二塩基酸として
たとえばマレイン酸、無水マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、メサコン酸等と飽和二塩基酸と
してフタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、テトラクロロ無水フタル酸、3,6−
エンドジクロロメチレン、テトラクロロフタル
酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フ
タル酸等、およびエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、1,3−ブチレングリコール、ジ
エチレングリコール、ジプロピレングリコール、
ネオペンチルグリコール、ビスフエノールジオキ
シエチルエーテル等の二価アルコールの縮合生成
物にスチレン、オルトクロルスチレン、ジアリル
フタレート等の架橋剤を加えた樹脂がある。ポリ
ウレタン樹脂としては、ポリオール例えばアジピ
ン酸と無水フタル酸とトリメチロールプロパンの
縮合生成物、アジピン酸とトリメチロールプロパ
ンとブチレングリコールの縮合生成物、アジピン
酸とエチレングリコールの縮合生成物、アジピン
酸とフタル酸とエチレングリコールとグリセリン
の縮合生成物、とジイソシアネート例えばトリレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフエニルメタン−4,4′−ジイソシア
ネートとの反応生成物がある。メラミン樹脂とし
ては、メラミンとアルデヒド類との付加縮合反応
生成物で、モノメチロールメラミン、トリメチロ
ールメラミン、ヘキサメチロールメラミン、メチ
ル化メチロールメラミン、ブチル化メチロールメ
ラミン等がある。メラミンの3個のアミノ基の中
の1個を水素原子脂肪族および芳香族炭化水素あ
るいはその誘導体で置換したグアナミンを使つた
ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾクアナミ
ン、ブチル化メチロールベンゾグナナミン等があ
る。尿素樹脂としては尿素とホルムアルデヒドと
の付加縮合反応生成物で、メチレン尿素、モノメ
チロール尿素モノメチロールエーテル、ジメチロ
ール尿素ジメチルエーテル、ジメチロール尿素ジ
エチルエーテル、ジメチロール尿素n−ジブチル
エーテル、等がある。シリコン樹脂としては、ケ
イ素、酸素、有機基を含み、シロキサン結合を含
むもので、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルクロロシラン、フエニ
ルトリクロロシラン、ジフエニルジクロロシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、トリメチルエトキ
シシラン、ジメチルシエトキシシラン等の加水分
解後、縮合反応によつて得られるものがある。ポ
リイミド樹脂としてはパラ−ジ−マレイミドベン
ゼン等の芳香族ビスマレイミドと4,4′−ジアミ
ノフエニルエーテル等の芳香族ジアミンとの反応
生成物、芳香族ビスマレイミドと2,2−ビス
(4−サナトフエニル)プロパン等のトリアジン
との反応生成物等がある。
紫外線硬化型樹脂としては、主として波長が
250〜400nmの紫外線照射により重合反応を誘起
する重合開始剤によつて硬化する通常の樹脂を使
用する事ができる。その具体例としては、ラジカ
ル重合系としてアルキツド樹脂の原料として使用
されている多価アルコール類たとえば二価のエチ
レングリコール、プロピレングリコール、1,3
−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、トリエチレングリコール、三価のグリセ
リン、トリメチロールプロパン、四価のペンタエ
リスリツト、ジペンタエリスリツトなどと、多塩
基酸類たとえば二価の無水フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラブロ
ム無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無
水ヘツト酸、無水ハイミツク酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、三価の無水トリメツ
ト酸、四価のピロメリツト酸などを主原料として
アクリル酸又はメタクリル酸にて変性したポリエ
ステル(メタ)アクリレート、上記多価アルコー
ルとエポキシ基をもつグリシジルアクリレート、
グリシジルメタクリレートなどの反応生成物であ
るポリエーテル(メタ)アクリレート、不飽和ア
ルコールとオレフインとの共重合で合成される樹
脂状ポリオールを基本骨格とし、アクリル酸、メ
タクリル酸にて変性されたポリオール(メタ)ア
クリレート、上記多価アルコール、多塩基酸、ア
クリル酸と芳香族ジイソシアネート(トリレンジ
イソシアネート等)あるいは脂肪族ジイソシアネ
ート(イソホロンジイソシアネート等)との反応
生成物であるウレタンアクリレート、前述のエポ
キシ樹脂とアクリル酸との反応生成物であるエポ
キシアクリレート、スピラン核をもつ不飽和シク
ロアセタール化合物と多価アルコール、多塩基
酸、各種フエノール類との反応生成物をアクリル
酸にて変性したスピロアセタール系アクリレート
などがある。その他カチオン重合系のメカニズム
を持つものとして硬化剤にパラメトキシベンゼン
ジアゾニウムヘキサフロロホスフエート等のルイ
ス酸アリルジアゾニウム塩を使用し、紫外線照射
によつてルイス酸アリルジアゾニウム塩を分解さ
せ、その発生するルイス酸にてエポキシ基を開環
し重合せしめるものもある。この場合硬化させる
樹脂は、上記アクリレート類ではなく、熱硬化型
樹脂の例であげたエポキシ樹脂である。
乾燥硬化型樹脂としては有機溶剤に溶解できそ
の溶液から溶剤を蒸発、逸散することによつて固
化し皮膜となるもので、具体的にはアルキド樹
脂、変性アルキド樹脂、ロジン、ロジンエステ
ル、マレイン酸樹脂、セルロース系樹脂、ビニル
系樹脂、アクリル樹脂、スチロール樹脂、ポリア
ミド樹脂、等が例示できる。上記アルキド樹脂と
は、多価アルコール(エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジエチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、1,3,6−
ヘキサントリオール、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリツト、ソ
ルビトール、マニトール、ジグリセロール、トリ
グリセロール、ジペンタエリスリツト等)と多塩
基酸(無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、アジピン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラ
ブロム無水フタル酸、テトラクロル無水フタル
酸、無水ヘツト酸、無水ハイミツク酸、フマル
酸、イタコン酸、無水トリメリツト酸、ピロメリ
ツト酸等)とのエステル結合による縮合生成物で
ある。変性アルキド樹脂としては、上記アルキド
樹脂を、フエノール、ロジン、ビニルモノマー
(スチレン、ビニルトルエン、アクリル酸エステ
ル等)、ウレタン、エポキシ、イミド、等で変性
したものがある。ロジンは、その主成分は、アビ
エチン酸、d−および−ピマール酸の樹脂酸と
一般式CoH2o-10O4なるコロフエン酸よりなる。
ロジンエステルは、ロジンの主成分である樹脂酸
をアルコール類(メタノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリ
メチロールエタン、トリメチロールプロパン、ヘ
キサントリオール、ペンタエリスリツト、ジペン
タエリスリツト等)でエステル化したものであ
る。マレイン酸樹脂は、ロジン変性マレイン酸樹
脂のことでロジンの主成分である樹脂酸と無水マ
レイン酸またはフマル酸との付加物から誘導され
るもので多価アルコール(グリセリン、ペンタエ
リスリツト、ジペンタエリスリツト等)とのエス
テルが多い。セルロース系樹脂としては、ニトロ
セルロース、アセチルセルロース、アセチルブチ
リルセルロース、エチルセルロース、エチルヒド
ロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、等がある。ビニル系樹脂としては、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、スチレン、ビニルトルエン、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、無水マ
レイン酸、メタクリル酸、ビニルアルコールなど
から単独あるいは共重合させたものがある。アク
リル樹脂としては、アクリル酸、メタクリル酸お
よびこれらのエステルを単独または、相互間およ
び他樹脂と共重合させたもので、アクリル酸、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸2エチルヘキシ
ル、アクリル酸n−オクチル、アクリルアミド、
N−メチロールアクリルアミド、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸イソブチル、メ
タクリル酸2エチルヘキシル、メタクリル酸n−
オクチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸
2ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリシジル、
メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル
アミド、メタクリロニトリル等のモノマーより単
独重合あるいは共重合させたものある。スチロー
ル樹脂としては、スチレンおよびスチレンの芳香
族環またはα位の炭素にアルキル基、アルコオキ
シ基、ビニル基、ハロゲン等を導入したもの(た
とえばビニルトルエン、α−メチルスチレン、ジ
ビニルベンゼン等がある)を単独重合あるいは、
アクリロニトリル、メタクリル酸メチル、ブタジ
エン、無水マレイン酸、メチルビニルケトン、塩
化ビニル、塩化ビニリデン等と共重合したものが
ある。ポリアミド樹脂としては、別名ナイロンと
も呼ばれ分子中にアミド基を有する高分子で、ア
ミノカルボン酸の縮合または二塩基酸とジアミン
の縮合によつて得られる。たとえばω−アミノカ
プロン酸またはω−カプロラクタムより重合した
ナイロン6,11−アミノウンデカン酸より重合し
たナイロン11,ヘキサメチレンジアミンとアジピ
ン酸より共重合したナイロン66、ヘキサメチレン
ジアミンとセバチン酸より共重合したナイロン
610等がある。
上記熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、乾燥硬
化型樹脂は、それぞれモノマー、プレポリマーま
たはその混合したもの、あるいは異なる樹脂同志
で混合、変性したものを含む。さらに常温で固体
の樹脂は、いわゆる溶剤やモノマーに溶解して使
用できる。また固体の樹脂をそのまま加熱し熔融
状態で本発明組成物を調製した後、ホツトメルト
型塗料としても使用できる。該樹脂を所望により
溶解する溶剤としては、例えば炭化水素系では、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、スチレン等、塩素系で
は、ジクロロメタン、クロロホルム、1,1,1
−トリクロロエタン、四塩化炭素、エピクロルヒ
ドリン、モノクロルベンゼン等、アルコール系で
は、メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブ
タノール、n−アミルアルコール、イソアミルア
ルコール、n−ヘキサノール、シクロヘキサノー
ル、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコー
ル、O−クレゾール、P−クレゾール、エチレン
グリコール、1,2−プロピレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、
グリセリン等、ニトロ系では、ニトロメタン、ニ
トロエタン、ニトロベンゼン等、ニトリレ系では
アセトニトリル等、アミン系では、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、n−ブチルアミン、n−
ジブチルアミン、n−アミルアミン、ジアミルア
ミン、アニリン、ピリジン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン
等、ケトン系では、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルn−ブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等、エー
テルル系では、エチルエーテル、イソプロピルエ
ーテル、n−ブチルエーテル、ジオキサン、セロ
ソロブ、エチルセロソロブ、ブチルセロソロブ、
ブチルカルビトール等、エステル系では、ジエチ
ルカーボネート、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸
ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロ
ピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸
イソブチル、酢酸ベンジル、アセト酢酸エチル、
セロソロブアセテート、メチルセロソロブアセテ
ート、エチルセロソロブアセテート、ブチルセロ
ソロブアセテート、ブチルカルビトールアセテー
ト等がある。
上記熱硬化型樹脂は必要に応じて次の硬化剤お
よび硬化触媒を使用できる。エポキシ樹脂の硬化
剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン等の脂肪族ポリアミン、メタフエニ
レンジアミン,ジアミノジフエニルスルホン等の
芳香族ポリアミン、第2アミン、第3アミン、
(無水)フタル酸、(無水)テトラハイドロフタル
酸等の有機酸(無水物)、ルイス酸とアミンの錯
化合物等の1種または2種以上が用いられる。フ
エノール樹脂では、レゾール型は特に硬化剤を加
えなくでも硬化するがベンゾールスルホン酸、パ
ラトルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、
フエノールスルホン酸等の酸を使用してもよい。
ノボラツク型はパラホルムアルデヒド、ヘキサメ
チレンテトラミン等のアルデヒド源を用いる。エ
ポキシ変性フエノール樹脂はエポキシ樹脂の硬化
剤を用いてもよい。不飽和ポリエステル樹脂で
は、ベンゾイルパーオキサイド、シクロヘキサノ
ンパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、
ジ−3−ブチルパーオキサイド、3−ブチルパー
ベンゾエート、クメン、ハイドロパーオキサイド
等の有機過酸化物やスチレンモノマーなどの架橋
剤が用いられる。ポリウレタン樹脂では、1,4
−ブタンジオール、トリメチロールプロパン等の
グリコール、4,4′−メチレン−ビス(2−クロ
ルアニリン)等のジアミンが用いられる。メラミ
ン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂は、そのまま加
熱するだけで硬化するが反応系のPH調整剤として
ギ酸、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等が用
いられる。ポリイミド樹脂では、硬化剤の添加な
しで加熱するだけ硬化するが硬化触媒としてオク
チル酸亜鉛、トリエチレンジアミン、N,N−ジ
メチルベンジルアミン、2−メチルイミダゾー
ル,2−エチル4メチルイミダゾール、有機過酸
化物等が使用できる。
紫外線硬化型樹脂には、光増感剤(重合開始
剤)が用いられる。具体的には、芳香族ケトン類
(ベンゾフエノン、チオキサントン、ミヒラーズ
ケトン、ベンジル、キサントン等)ベンゾインエ
ーテル類(ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル等)、アセトフエノ
ン類(アセトフエノン、2,2−ジエトキシアセ
トフエノン、トリクロルアセトフエノン等)があ
る。また増感助剤として第3アミンを使用するこ
ともある。
耐熱性無機粉末としては例えば炭酸亜鉛、炭酸
カルシウム、炭酸コバルト、炭酸ストロンチウ
ム、炭酸鉄、炭酸銅、炭酸ニツケル、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸マンガン等の炭酸
塩、硫酸バリウム、硫酸ナトリウム、硫酸亜鉛、
硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸コバル
ト、硫酸鉛、硫酸マグネシウム、硫酸マンガン等
の硫酸塩、リン酸アルミニウム、リン酸カルシウ
ム、リン酸亜鉛、リン酸バリウム等のリン酸塩、
アルミナ、シリカ、ガラス、酸化亜鉛、酸化マグ
ネシウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化
アンチモン、酸化カドミウム、酸化カルシウム、
酸化コバルト、酸化スズ、酸化鉄、酸化銅、酸化
鉛、酸化ニツケル、酸化バナジウム、酸化バリウ
ム、酸化ベリリウム、酸化ホウ素等の酸化物、そ
の他タルク、コーデイエライト、スポジユメン、
カオリン、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウ
ム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、
炭化アルミニウム、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭
化タングステン、窒化アルミニウム、窒化ホウ
素、アスベスト、雲母、ケイソウ土、硫化モリブ
デンを例示できる。これら無機物は粉末状態で用
いられ、その平均粒径範囲が0.1μm〜50μm程度
好ましくは、0.5μm〜30μm程度のものが使用さ
れる。上記耐熱性無機粉末は本発明組成物中に上
記熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、乾燥硬化型
樹脂の少なくとも1種(以下「樹脂成分」とい
う)100重量部に対し18〜265重量部、好ましくは
36〜245重量部の範囲で配合される。これにより
得られる組成物を硬化後、硬化物にこれら無機粉
末が本来有する耐熱性を付与することは勿論のこ
と、該硬化物上へ化学めつきにより金属導体皮膜
を固着させる場合に、硬化物中に残留し、化学め
つきによる金属の析出性を大きく改善し、金属導
体皮膜の密着強度を顕著に向上させる。より詳し
く述べると、上記無機粉末を含有する本発明組成
物を硬化後、硬化皮膜は耐熱性無機粉末の存在に
よつて触媒とするパラジウムが耐熱性無機粉末の
周囲に吸着し、パラジウムの粒径に比べ耐熱性無
機粉末の粒径が大きいため樹脂硬化物中にパラジ
ウムが埋もれることなく皮膜表面により多く露出
し、引き続く化学めつきの析出を容易にすると共
に該化学めつきによる析出金属は、上記耐熱性無
機粉末に沿つて樹脂中に喰い込んで析出し、アン
カー効果により大きな密着強度を発揮し得える。
また耐熱性無機粉末として硫酸ナトリウムや炭酸
カルシウムなど水や酸、アルカリに溶けるものを
選んだ時には、樹脂硬化後、温水や酸、アルカリ
にて処理してから化学めつきを行なうと、無機粉
末溶出後の孔中にめつきが入り込んで析出しアン
カー効果がより顕著に発揮されるし、パラジウム
の露出面もより多くなり、化学めつきの析出性も
向上する。更に上記耐熱性無機粉末は、本発明組
成物に増量剤としても働くため、コスト低減の効
果も奏する。上記耐熱性無機粉末の配合量が18重
量部を下回る場合には、耐熱性無機粉末配合によ
る上記効果が発揮されず、特に組成物硬化物上へ
のめつき析出性及び析出金属皮膜の密着強度の改
善効果が認められなくなる。一方配合量を265重
量部より更に多くする場合には、組成物硬化物が
脆くなり好ましくない。
パラジウム触媒粉末としては、電気的不導体に
化学めつきを施す場合に従来から用いられている
パラジウム触媒であればいずれも使用でき、例え
ば金属パラジウムの他、塩化パラジウム、硝酸パ
ラジウム、酸化パラジウム、パラジウムブラツ
ク、パラジウムスポンジ等の無機パラジウム化合
物、酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、
カプロン酸パラジウム、カプリン酸パラジウム、
ラウリン酸パラジウム、ステアリン酸パラジウ
ム、しゆう酸パラジウム、マロン酸パラジウム、
アジピン酸パラジウム等の有機酸塩、塩化パラジ
ウム、酢酸パラジウム等とアンモニア、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレン
テトラミン、ジプロピルアミン、等ジ−(C1〜C12
アルキル)アミンやジメチルグリオキシム、パラ
ニトロソジメチルアニリン等との鎖化合物等のパ
ラジウム化合物がいずれも使用できる。これらパ
ラジウム触媒は粉末の形態で用いられ、その平均
粒径としては1μm程度以下、好ましくは0.1μm程
度以下である場合及び有機パラジウム化合物は樹
脂あるいは溶剤に溶解させて用いる。パラジウム
触媒粉末は、本発明組成物中に樹脂成分100重量
部に対し3〜33重量部、好ましくは10〜30重量部
の範囲で配合される。パラジウム触媒粉末は、本
発明組成物を基材上に適用して硬化させ、次いで
該硬化物上に化学めつきにより金属導体皮膜を析
出させるための触媒として機能するものであり、
その使用量が3重量部未満では、めつき皮膜の析
出が困難となり、また33重量部を超えても、それ
だけ効果が向上するわけではなく高価となるばか
りかむしろ樹脂および耐熱性無機粉末の配合量を
それだけ低下させることになりあまり好ましくな
い。
導電性炭素粉末としては、チヤンネルブラツ
ク、フアーネスブラツク、ランプブラツク、アセ
チレンブラツク、熱分解カーボン等のカーボンブ
ラツクとりん状黒鉛、土状黒鉛、人造黒鉛等の黒
鉛およびカーボン繊維が使用できる。これら導電
性炭素粉末の電気比抵抗は、約0.05〜90×
10-4Ω・cmの範囲にあり、その平均粒径は、約
0.01〜1μmの範囲にある。本発明組成物にはいず
れの導電性炭素粉末でも使用可能であるが、配合
量を少なくするには電気比抵抗が低いほどよく、
好ましくは50×10-4Ω・cm以下のものがよい。な
ぜなら電気比抵抗の高いものを使つて本発明組成
物硬化物の電気比抵抗を低下させるには、多量の
炭素粉末を配合せねばならず耐熱性無機粉末と同
様、組成物硬化物が脆くなり好ましくない。また
本発明組成物硬化物の特徴である導電性として
は、例えば電気回路に用いる場合(例えば液晶表
示部品、電卓用回路等流れる電流、使用目的によ
つて異なる)、約1〜10×103Ω・cm以下であれば
よい。従つて本発明組成物中に導電性炭素粉末は
樹脂成分100重量部に対し12〜180重量部、好まし
くは20〜150重量部の範囲で配合される。導電性
炭素粉末は、本発明組成物を基材上任意の箇所に
適用して硬化した硬化物に導電性を付与するため
の導電性フイラーである。従来この種の導電性フ
イラーには貴金属(金、白金、銀、パラジウム、
ロジウム、ルテニウム等)、卑金属(銅、ニツケ
ル、アルミニウム、亜鉛等)、非金属(カーボン
ブラツク、グラフアイト等)の粉末や繊維が使用
されているが貴金属は導電性も良く空気中で比較
的安定であるがマイグレーシヨン、ウイスカーの
発生等の欠点も有し、なによりコストが高い。卑
金属は空気中では酸化され導電性を失なう。この
酸化を防止するためポリビニルアルコール等の酸
化防止剤や他の還元剤で卑金属粉末を処理された
ものもあるが導電性は悪くなり、長期保存中には
やはり酸化されてしまう。本発明組成物に使用で
きるカーボンブラツク、グラフアイト、カーボン
繊維等導電性炭素粉末は、金属系導電性フイラー
に比べ導電性は低いが化学的に不活性で耐熱性、
耐薬品性がきわめて高い。しかも本発明組成物の
用途、目的から、前述したように組成物硬化物の
導電性はそれほど高くなくてもよく、約1〜10×
108Ωcm以下であれば良いので上記炭素粉末は好
適である。例えば本発明組成物を使用して電気的
不導性基材上に電気回路を形成した時、本来電流
は組成物硬化物上に化学めつきにより析出した金
属導体皮膜さらには必要に応じて施した電気めつ
きにより析出した金属導体皮膜を流れるのであつ
て、本発明組成物硬化物はこの金属導体皮膜と基
材上の別の電気回路部分との電気的接続信頼性の
向上を計るものである。従来の導電性カーボンを
配合した導電性塗料および導電性接着剤等は、そ
のままでは化学めつき感受性を有していない。ま
た金属系導電性フイラーを用いたものの中には化
学めつきに対して触媒能力を有するもの(例えば
銀、パラジウム、等で実際化学めつき析出する)
があるが、めつきを施す様に設計していないた
め、析出性は悪くめつきによる金属導体皮膜の密
着強度も低い。この密着強度の向上は前述の耐熱
性無機粉末が必要である。
本発明組成物は、以上の熱硬化型樹脂、紫外線
硬化型樹脂、乾燥硬化型樹脂からなる群より選ば
れた少なくとも1種の樹脂、耐熱性無機粉末、パ
ラジウム触媒粉末および導電性炭素粉末を必須成
分とするものであるが必要に応じ各種添加剤を配
合することもできる。即ち上記樹脂の種類に応じ
た硬化剤等の他に消泡剤、可ソ剤、増粘剤、分散
剤、湿潤剤、沈澱防止剤等を配合する。
本発明組成物は上記熱硬化型樹脂、紫外線硬化
型樹脂、乾燥硬化型樹脂の中より選ばれた1種以
上の樹脂、耐熱性無機粉末、パラジウム触媒粉末
および導電性炭素粉末の四者及び必要に応じ使用
される溶剤、硬化剤、添加剤を、該無機粉末、パ
ラジウム触媒粉末及び導電性炭素粉末が均一分散
するまで混合することにより得られ、液状、ペー
スト状および固状を呈し、そのままで基材に容易
に施工できる。基材への施工は慣用方法により行
なえ代表的な施工方法としては、例えばスクリー
ン印刷法、筆塗り法、スピナーによる塗付法、浸
漬法等を例示できる。上記各種方法に従い施工さ
れる本発明組成物の基材への適用量は、組成物を
構成する各成分の種類、量、施工方法等により適
宜決定され、特に限定されるものではないが通常
施工後の皮膜を硬化させた時、硬化皮膜が約5〜
100μm、好ましくは10〜80μmの膜厚となる量と
するのが適当である。
上記施工後、本発明組成物は通常の方法に従い
熱硬化型樹脂を用いた場合には通常200℃以下の
温度で加熱硬化され、紫外線硬化型樹脂を用いた
場合は、例えば高圧水銀灯等を利用して紫外線照
射により硬化される。また乾燥硬化型樹脂を用い
た場合は、溶剤を蒸発乾燥させる限り常温に放置
または赤外ランプ等で若干の加熱のいずれでもよ
いが溶剤を乾燥硬化される。かくして得られる硬
化被膜層は、それ自体基材と強固に密着している
ことは勿論のこと、化学めつき感受性を有してお
り、化学めつきにより該層上に均一に強固な密着
性をもつて、金属導体皮膜を形成できると共に上
記硬化被膜層自体、導電性を有し、且つ耐熱性等
においても優れている。
上記本発明組成物の硬化被膜層上への金属導体
皮膜の形成は、常法に従い、上記硬化被膜層を形
成された基材を通常の化学めつき液に浸漬するこ
とにより容易に実施できる。用いられる化学めつ
き液としては、広仝各種の公知の浴がいずれも使
用できる。例えば代表的には還元剤として次亜リ
ン酸ソーダを添加した酸性またはアルカリ性無電
解ニツケルめつき浴、ソジウムボロンハイドライ
ドで代表される硼素系還元剤を使用した無電解ニ
ツケルまたは無電解銅めつき浴、ホルマリンを還
元剤とする無電解銅めつき浴等が挙げられる。
以上の通り本発明組成物を用いる場合には、通
常の各種プラスチツク類、ソーダ・ライム・シリ
カガラス、ホウケイ酸ガラス等のガラス製品、セ
ラミツクス製品、木材、紙等の電気的不導体、あ
るいは各種金属や導電性塗料、導電性接着剤の硬
化物等の導電体の基材表面に化学めつきにより各
種金属を均一に析出せしめ得る。即ち、電気的不
導体の他に今まで容易に密着強度の高いめつきを
施す事のできなかつた金属(アルミニウム、亜鉛
等)やカーボン、グラフアイトの様な非金属の導
電体にも、密着強度の高い金属導体皮膜を析出、
固着せしめ得る。従つて本発明は、上記本発明組
成物を、基材表面に適用し、該組成物を該基材表
面に硬化させ、次いで該硬化皮膜上に化学めつき
を施す工程を包含する、基材に導電性を有する硬
化物を共に金属導体皮膜を固着させる方法をも、
提供するものである。
本発明組成物は施工が容易であり、任意の箇所
のみに、微細なパターンの銭属導体皮膜を得るこ
ともでき、硬化物自体導電性を有しているので該
金属導体皮膜と別の導体部分との電気的接続信頼
性が高い。従つて本発明によれば、プラスチツク
等の基材表面の部分金属化や、抵抗体、電子回
路、コンデンサーの電極等の製造を高い信頼性
で、容易迅速に行なうことができる。
以上実施例を挙げ本発明を更に詳しく説明す
る。なお「部」は別記しない限りすべて「重量
部」を意味するものとする。
実施例 1
エポキシ樹脂(商品名「エピコート1001」シエ
ル化学製) 24.5部
ブチルセロソロブ 24.5〃
ジシアンジアミド 1〃
アルミナ粉末 30〃
塩化パラジウム粉末 5〃
カーボンブラツク(商品名「PrintexL−6」
デグサ製) 15〃
上記成分を十分に混合しペースト状とした。こ
のペーストをガラス繊維で強化したエポキシ積層
板上に硬化後の膜厚が約20μmとなる様にスクリ
ーン印刷し(パターンは第2図)、オープン中で
硬化させた(180℃、60分)。硬化させた試料片
を、化学銅めつき液(商品名「OPCカツパー」
奥野製薬工業製)中に50℃で60分間浸漬してめつ
きした。3mm×3mmのめつき面にリード線(0.65
mmφ錫引銅線)をハンダ付けし、基板に対し垂直
方向に50mm/minの速度で引張り測定機(オート
グラフP−100島津製作所製)にてめつきがハク
リする時の強度を測定した。密着強度は約12Kgで
あつた。第2図において−間の電気抵抗値を
(1)化学めつき施工前、(2)化学めつき施工後、(3)化
学めつき施工後、260±5℃の油中3秒間→20±
15℃の1,1,1−トリクロロエタン中20秒間を
1サイクルとする熱衝撃試験を5サイクル行なつ
た後及び(4)(3)の熱衝撃試験を10サイクル行なつた
後、の4条件で測定したところ、(1)の条件では約
8.3×102Ω、(2)の条件では約5.0×10-8Ω、(3)の条
件では約5.7×10-8Ω、(4)の条件では約2.3×100Ω
であつた。
実施例 2
エポキシノボラツク樹脂(商品名「エピコート
154」シエル化学製) 26.4部
ヘキサヒドロ無水フタル酸 13.6〃
カオリン粉末 40〃
パラジウムブラツク 0.3〃
グラフアイト(商品名「GP−78」日立粉末治
金製) 20〃
上記成分を十分に混合し、ペースト状とした
後、このペースト100部をメチルエチルケトン200
部に溶解し、浸漬塗付塗料とした。この塗料に実
施例1で用いた同様のエポキシ積層板の第2図に
おける側端より部分まで浸漬し、オープン中
で乾燥硬化させた(150℃、90分)。硬化後の膜厚
は約50μmであつた。硬化させた試料片を化学銅
めつき液(商品名「OPCカツパー」奥野製薬工
業製)中に50℃で60分間浸漬してめつきした。以
下実施例1と同様の試験を行なつた。結果は表1
に示した。
実施例 3
ビスマレイミドトリアジン系樹脂(商品名
「BT2170」三菱瓦斯化学製) 20部
イソホロン 13〃
硫酸ナトリウム粉末 26〃
プロピオン酸パラジウム 15〃
カーボンブラツク(商品名「ケツチエンブラツ
ク」ライオン(株)製) 20〃
上記成分を十分に混合しペースト状とした。こ
のペーストをガラス繊維で強化したポリイミド積
層板上に硬化後の膜厚が20μmとなる様にスクリ
ーン印刷し、オーブン中で硬化させた(180℃、
60分)。硬化させた試料片を化学ニツケルめつき
液(商品名「NIKLAD740」アライド−キライト
(ALIDE−KILITE)製)中に77℃で60分間浸漬
してめつきした。以下実施例1と同様の試験を行
ない結果は表1に示した。
実施例 4
エポキシアクリレート(商品名「リポキシ
VR90」昭和高分子製) 19部
ポリエステルアクリレート(商品名「アロニツ
クスM−5700」東亜合成製) 19〃
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
9.5〃
ベンゾインイソブチルエーテル 2.4〃
リン酸カルシウム 37.4〃
酸化パラジウム 2.7〃
アセチレンブラツク 10〃
上記成分を十分に混合し、ペースト状とした。
このペーストを実施例1と同様のエポキシ積層板
上に硬化後の膜厚が約25μmとなる様にスクリー
ン印刷した後、入力80W/cmの高圧水銀灯の下を
10cm離し8秒間照射硬化させた。得られた基板に
ついて実施例1と同様にしてめつきを行ない試験
した。結果は表1に示した。
実施例 5
ウレタンアクリレート(商品名「AEGE UV
−15」東洋ポリマー製) 23部
ポリエステルアクリレート(商品名「アロニツ
クスM−5700」東亜合成製) 18.5〃
ジプロピレングリコールジアクリレート 7〃
ベンゾインイソブチルエーテル 2.5〃
炭酸カルシウム 36.2〃
パラジウムスポンジ 2.8〃
チヤンネルブラツク 10〃
上記成分を十分に混合し、ペースト状とした。
このペーストを実施例4と同様にしてエポキシ積
層板上に硬化させた後、実施例1と同様の試験を
行ない結果は表1に示した。
実施例 6
アクリル樹脂(商品名「エルバサイト2045」デ
ユポン製) 17.4部
キシレン 40.6〃
シリカ粉末 10〃
パラジウムブラツク 2〃
カーボンブラツク(商品名「ケツチエンブラツ
ク」ライオン(株)製) 30〃
上記成分を十分に混合しペースト状とし、さら
にこのペースト100部に対しキシレン150部を加え
浸漬塗布用塗料とした。
この塗料に実施例2と同様にしてエポキシ積層
板を浸漬して、常温で乾燥硬化させた(室温、
120分)。硬化後の膜厚は約30μmであつた。以下
実施例1と同様の試験を行ない結果は表1に示し
た。
比較例
エポキシ樹脂(商品名「エピコート828」シエ
ル化学社製) 30部
ヘキサヒドロ無水フタル酸 3〃
アルミナ粉末 66〃
パラジウムブラツク 1〃
上記成分を十分に混合しペースト状とした。こ
のペーストをガラス繊維で強化したエポキシ積層
板上に硬化後の膜厚が約20μmとなる様にスクリ
ーン印刷した後、オープン中で硬化させた(150
℃、60分)。以下実施例1と同様の化学銅めつき
及び試験をした。結果は表1に示した。
【表】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a composition for chemical plating, and in particular to a composition that can form a metal conductive film only on an arbitrary location on a base material by chemical plating, and that the composition itself has electrical conductivity. The present invention relates to a characteristic undercoat composition and a chemical plating method using such a composition. On various plastics, glass products such as soda/lime/silica glass and borosilicate glass, electrically nonconducting materials such as wood and paper, or conductive materials such as various metals, conductive paints, and cured conductive adhesives. There are the following methods for depositing a metal conductor film by chemical plating. Electrical nonconductors such as plastics, glass, and ceramics are not inherently sensitive to chemical plating. It is necessary to activate the surface of the substrate, that is, apply a catalyst. Conventionally, such activation means include, for example, (1) a method of immersing the substrate in an aqueous solution of stannous chloride in hydrochloric acid to impart sensitivity, and then activating it with an aqueous solution of palladium chloride;
A method of applying and baking a composition of glass powder mixed with a catalytic metal such as palladium chloride on the surface of a base material,
(3) A method in which a composition consisting of a thermosetting or ultraviolet curable resin mixed with a catalytic metal such as palladium chloride is applied to the surface of the substrate and cured; and (4) a method in which a palladium compound soluble in an organic solvent or in the form of fine powder is applied A method is known in which a composition prepared by dissolving and mixing in an organic vehicle is applied to the surface of a ceramic substrate and then thermally decomposed. However, with method (1) above, it is difficult to obtain a film with good adhesion unless the surface of the base material is roughened physically or chemically. After masking the parts of the surface that do not require metal conductors or applying chemical plating to the entire base material and protecting the parts that require metal conductors with resist material,
This method has the disadvantage of requiring a complicated process in which unnecessary portions of the metal conductor must be melted and removed, and the resist material must be further removed. Furthermore, since it is immersed in a strongly acidic solution, it is not suitable for application to substrates with weak acid resistance. Methods (2) and (3) have good operation and adhesion, but require an electrically insulating layer of glass or resin to be interposed between the substrate surface and the chemically plated metal conductor film. The electrical connection between the conductor portion previously provided on the surface of the base material using glass or resin and the metal conductor portion deposited by chemical plating is only made by the thickness of the plating film, and is therefore unreliable. In addition, method (4) uses only a very thin discontinuous layer of catalytic metal between the base material surface and the chemically plated metal conductor, and although the electrical connection reliability mentioned earlier is high, the base material It has the disadvantage of being limited to ceramics. On the other hand, there are conductive paints and conductive adhesives that are made by mixing resin with a conductive filler. For the conductive filler, noble metals, base metals, carbon black, graphite, carbon fibers, etc. are used. For example, after these pastes are applied to a base material and dried or hardened, plating does not precipitate even if immersed in a chemical plating solution (aluminum, zinc, carbon black, graphite, etc.), or the plating does not precipitate. However, only a product with low adhesion strength can be obtained. In addition, base metal conductive fillers are
It is oxidized by oxygen in the air and its conductivity deteriorates. Regarding oxidation, antioxidants and the like have been studied and used in various fields, but they are still insufficient in terms of changes over time. Therefore, it is an object of the present invention to be able to easily apply the metal conductor film, to activate only a desired location on the surface of the base material, to form a metal conductor film with excellent adhesion strength on the surface by chemical plating, and to have a conductive film that is itself conductive. An object of the present invention is to provide an undercoat composition having the following properties. The present inventors have conducted various studies in order to provide a composition for the above purpose. As a result, thermosetting resin,
A composition in which specific amounts of a heat-resistant inorganic powder, a palladium catalyst powder, and a conductive carbon powder are blended with at least one resin among an ultraviolet curable resin and a dry-curable resin can be easily applied to the surface of a substrate. The coating film itself after curing or drying is conductive and has a remarkable sensitizing effect on various metals. Therefore, chemical plating can produce a uniform precipitated metal film with excellent adhesion strength. The present inventors have now completed the present invention by discovering that the electrical connection reliability with the conductor portion previously provided on the surface of the base material is greatly improved. That is, the present invention comprises 100 parts by weight of at least one resin selected from thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and dry curable resins, 18 to 265 parts by weight of heat-resistant inorganic powder,
Consisting of 3 to 33 parts by weight of palladium catalyst powder and 12 to 180 parts by weight of (high) conductive carbon powder, for undercoating to form a metal conductive film by chemical plating only at desired locations on the substrate. The present invention relates to an activation composition characterized in that the cured coating film itself has electrical conductivity. In the composition of the present invention, the thermosetting resin includes:
A wide range of resins can be used as long as they can be cured by heating in the absence of a curing agent or curing catalyst or in the presence of a curing agent or curing catalyst if necessary. For example, specific examples include epoxy resins, phenolic resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, melamine resins, urea resins, silicone resins, and polyimide resins, and prepolymers, monomers, or mixtures thereof can also be used. The above-mentioned epoxy resins include, but are not limited to, compounds having at least two epoxy groups in one molecule, glycidyl ether type resins (condensation products of bisphenol type compounds and epichlorohydrin, polyalcohols, glycerin, ethers, Condensation products of polyolefins, novolac resins, etc. and epichlorohydrin (epoxy urethane resins, etc.), glycidyl ester type resins (acrylic acid glycidyl ester, dimer acid glycidyl ester, etc.), glycidylamine type resins (glycidylaniline, triglycidyl isodianurate, etc.) ), linear aliphatic epoxy resins (epoxidized polybutadiene, epoxidized soybean oil, etc.), alicyclic epoxy resins (vinylcyclohexene dioxide, dicyclopentadiene dioxide, bis(3,4-
epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)adipate, etc.). Phenol resins include resols made by reacting phenols such as phenol, cresol, xylenol, para-alkylphenol, paraphenylphenol, and other derivatives thereof with aldehyde sources such as formaldehyde and hexamethylenetetramine and furfural using an alkali catalyst. phenolic alcohols, dihydroxydiphenylmethanes called novolacs reacted with an acid catalyst, and epoxy-modified phenolic resins.
Examples include melamine-modified phenolic resin. Unsaturated polyester resins include unsaturated dibasic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, mesaconic acid, etc., and saturated dibasic acids such as phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, adipic acid, tetra Chlorophthalic anhydride, 3,6-
Endodichloromethylene, tetrachlorophthalic acid, 3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, etc., and ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol,
There are resins made by adding crosslinking agents such as styrene, orthochlorostyrene, and diallyl phthalate to condensation products of dihydric alcohols such as neopentyl glycol and bisphenol dioxyethyl ether. Examples of polyurethane resins include polyols such as condensation products of adipic acid, phthalic anhydride, and trimethylolpropane, condensation products of adipic acid, trimethylolpropane, and butylene glycol, condensation products of adipic acid and ethylene glycol, and adipic acid and phthalate. These include condensation products of acids, ethylene glycol and glycerin, and reaction products of diisocyanates such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate. Melamine resins are addition condensation reaction products of melamine and aldehydes, and include monomethylolmelamine, trimethylolmelamine, hexamethylolmelamine, methylated methylolmelamine, butylated methylolmelamine, and the like. Examples include benzoguanamine, methylolated benzoquanamine, and butylated methylol benzoguanamine, which use guanamine in which one of the three amino groups of melamine is substituted with a hydrogen atom aliphatic or aromatic hydrocarbon or a derivative thereof. The urea resin is an addition condensation reaction product of urea and formaldehyde, and includes methylene urea, monomethylol urea monomethylol ether, dimethylol urea dimethyl ether, dimethylol urea diethyl ether, dimethylol urea n-dibutyl ether, and the like. Silicone resins include silicon, oxygen, and organic groups, and contain siloxane bonds, such as methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, phenyltrichlorosilane, diphenyldichlorosilane, vinyltrichlorosilane, trimethylethoxysilane, Some are obtained by a condensation reaction after hydrolysis of dimethylethoxysilane and the like. Polyimide resins include reaction products of aromatic bismaleimides such as para-di-maleimidebenzene and aromatic diamines such as 4,4'-diaminophenyl ether, aromatic bismaleimides and 2,2-bis(4- There are reaction products with triazine such as sanatophenyl)propane. As ultraviolet curable resin, the wavelength is
It is possible to use ordinary resins that are cured by a polymerization initiator that induces a polymerization reaction by irradiation with ultraviolet light of 250 to 400 nm. Specific examples include polyhydric alcohols, such as divalent ethylene glycol, propylene glycol, 1,3
-butylene glycol, 1,6-hexanediol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, triethylene glycol, trivalent glycerin, trimethylolpropane, tetravalent pentaerythritate, dipentaerythritate, etc., and polybasic acids such as Divalent phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic anhydride, adipic acid,
Azelaic acid, sebacic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, hexic anhydride, hemicic anhydride, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, trivalent trimethic anhydride , polyester (meth)acrylate modified with acrylic acid or methacrylic acid using tetravalent pyromellitic acid as the main raw material, glycidyl acrylate having the above polyhydric alcohol and an epoxy group,
The basic skeleton is polyether (meth)acrylate, which is a reaction product such as glycidyl methacrylate, and a resinous polyol synthesized by copolymerizing an unsaturated alcohol with an olefin. ) Acrylate, the above polyhydric alcohol, polybasic acid, urethane acrylate which is a reaction product of acrylic acid and aromatic diisocyanate (such as tolylene diisocyanate) or aliphatic diisocyanate (such as isophorone diisocyanate), the above-mentioned epoxy resin and acrylic acid and spiroacetal acrylates, which are the reaction products of unsaturated cycloacetal compounds with a spirane nucleus and polyhydric alcohols, polybasic acids, and various phenols, modified with acrylic acid. . In addition, as a curing agent that has a cationic polymerization mechanism, a Lewis acid allyl diazonium salt such as para-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate is used, and the Lewis acid allyl diazonium salt is decomposed by ultraviolet irradiation, and the Lewis acid generated is Some products are polymerized by ring-opening the epoxy group with acid. In this case, the resin to be cured is not the above-mentioned acrylates, but the epoxy resin mentioned as an example of thermosetting resin. Dry-curing resins are those that can be dissolved in organic solvents and solidify to form a film by evaporating and escaping the solvent from the solution.Specifically, they include alkyd resins, modified alkyd resins, rosin, rosin esters, and maleic resins. Examples include acid resins, cellulose resins, vinyl resins, acrylic resins, styrene resins, and polyamide resins. The above alkyd resins include polyhydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, 1,3,6-
Hexanetriol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, mannitol, diglycerol, triglycerol, dipentaerythritol, etc.) and polybasic acids (phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic anhydride, maleic anhydride, Succinic anhydride, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrabromo phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, hexic anhydride, hemicic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, trimellitic anhydride , pyromellitic acid, etc.) through an ester bond. Examples of modified alkyd resins include those obtained by modifying the above alkyd resins with phenol, rosin, vinyl monomers (styrene, vinyltoluene, acrylic esters, etc.), urethane, epoxy, imide, and the like. The main components of rosin are resin acids of abietic acid, d- and -pimaric acid, and corofenic acid having the general formula C o H 2o-10 O 4 .
Rosin esters are made by combining resin acids, which are the main components of rosin, with alcohols (methanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, hexanetriol, pentaerythritol, dipentaerythritol). It is esterified with nitrate, etc.). Maleic acid resin is a rosin-modified maleic acid resin derived from an adduct of resin acid, which is the main component of rosin, and maleic anhydride or fumaric acid. There are many esters with erythritol, etc.). Examples of cellulose resins include nitrocellulose, acetylcellulose, acetylbutyrylcellulose, ethylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and the like. Vinyl resins include those made singly or copolymerized from vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, vinyl propionate, styrene, vinyl toluene, acrylic esters, methacrylic esters, maleic anhydride, methacrylic acid, vinyl alcohol, etc. There is. Acrylic resins include acrylic acid, methacrylic acid, and their esters, either alone or copolymerized with each other or with other resins, such as acrylic acid, isobutyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, and acrylamide. ,
N-methylolacrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-methacrylate
Octyl, lauryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate,
Some are homopolymerized or copolymerized from monomers such as dimethylaminoethyl methacrylate, methacrylamide, and methacrylonitrile. Examples of styrene resin include styrene and styrene with an alkyl group, alkoxy group, vinyl group, halogen, etc. introduced into the aromatic ring or the carbon at the α position (for example, vinyltoluene, α-methylstyrene, divinylbenzene, etc.). Homopolymerization or
Some are copolymerized with acrylonitrile, methyl methacrylate, butadiene, maleic anhydride, methyl vinyl ketone, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc. Polyamide resin, also known as nylon, is a polymer having an amide group in its molecule, and is obtained by condensation of aminocarboxylic acids or dibasic acids and diamines. For example, nylon polymerized from ω-aminocaproic acid or ω-caprolactam, nylon 11 polymerized from 6,11-aminoundecanoic acid, nylon 66 copolymerized from hexamethylene diamine and adipic acid, and nylon copolymerized from hexamethylene diamine and sebacic acid.
There are 610 etc. The thermosetting resin, ultraviolet curable resin, and dry curable resin each include a monomer, a prepolymer, a mixture thereof, or a mixture or modification of different resins. Further, resins that are solid at room temperature can be used by being dissolved in a so-called solvent or monomer. Furthermore, the composition of the present invention can be prepared by heating a solid resin as it is in a molten state, and then used as a hot-melt type paint. As the solvent for dissolving the resin as desired, for example, in the case of a hydrocarbon-based solvent,
Pentane, hexane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, styrene, etc.; for chlorine, dichloromethane, chloroform, 1,1,1
- Trichloroethane, carbon tetrachloride, epichlorohydrin, monochlorobenzene, etc. Alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, n-hexanol, cyclohexanol, benzyl Alcohol, diacetone alcohol, O-cresol, P-cresol, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol,
Glycerin, etc. Nitro-based products include nitromethane, nitroethane, nitrobenzene, etc. Nitrile-based products include acetonitrile, etc. Amine-based products include diethylamine, triethylamine, n-butylamine, n-
Dibutylamine, n-amylamine, diamylamine, aniline, pyridine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, etc. Ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl n-butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone, etc. Ethyl ether, isopropyl ether, n-butyl ether, dioxane, cellosolove, ethyl cellosolove, butyl cellosolove,
Ester types such as butyl carbitol include diethyl carbonate, methyl formate, ethyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, benzyl acetate, ethyl acetoacetate,
Examples include cellosorobe acetate, methyl cellosorobe acetate, ethyl cellosorobe acetate, butyl cellosorobe acetate, butyl carbitol acetate, and the like. The thermosetting resin described above may contain the following curing agent and curing catalyst, if necessary. As curing agents for epoxy resins, aliphatic polyamines such as diethylenetriamine and triethylenetetramine, aromatic polyamines such as metaphenylenediamine and diaminodiphenylsulfone, secondary amines, tertiary amines,
One or more of organic acids (anhydrides) such as (anhydrous) phthalic acid and (anhydrous) tetrahydrophthalic acid, and complex compounds of Lewis acids and amines are used. Among phenolic resins, resol type cures without the addition of any curing agent, but benzene sulfonic acid, p-toluene sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid,
Acids such as phenolsulfonic acid may also be used.
The novolac type uses an aldehyde source such as paraformaldehyde or hexamethylenetetramine. For the epoxy-modified phenolic resin, an epoxy resin curing agent may be used. Unsaturated polyester resins include benzoyl peroxide, cyclohexanone peroxide, lauroyl peroxide,
Organic peroxides such as di-3-butyl peroxide, 3-butyl perbenzoate, cumene, and hydroperoxide, and crosslinking agents such as styrene monomers are used. For polyurethane resin, 1,4
Glycols such as -butanediol and trimethylolpropane, and diamines such as 4,4'-methylene-bis(2-chloroaniline) are used. Melamine resins, urea resins, and silicone resins harden simply by heating, but formic acid, sodium carbonate, sodium hydroxide, etc. are used as pH regulators in the reaction system. Polyimide resin cures by heating without adding a curing agent, but zinc octylate, triethylenediamine, N,N-dimethylbenzylamine, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and organic peroxides are used as curing catalysts. etc. can be used. A photosensitizer (polymerization initiator) is used in the ultraviolet curable resin. Specifically, aromatic ketones (benzophenone, thioxanthone, Michler's ketone, benzyl, xanthone, etc.), benzoin ethers (benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc.), acetophenones (acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, trichloracetophenone, etc.). Further, a tertiary amine may be used as a sensitizing agent. Heat-resistant inorganic powders include carbonates such as zinc carbonate, calcium carbonate, cobalt carbonate, strontium carbonate, iron carbonate, copper carbonate, nickel carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, manganese carbonate, barium sulfate, sodium sulfate, zinc sulfate,
Sulfates such as aluminum sulfate, calcium sulfate, cobalt sulfate, lead sulfate, magnesium sulfate, manganese sulfate, phosphates such as aluminum phosphate, calcium phosphate, zinc phosphate, barium phosphate,
Alumina, silica, glass, zinc oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, antimony oxide, cadmium oxide, calcium oxide,
Oxides such as cobalt oxide, tin oxide, iron oxide, copper oxide, lead oxide, nickel oxide, vanadium oxide, barium oxide, beryllium oxide, boron oxide, other talc, cordierite, spodiume,
Kaolin, calcium silicate, zirconium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate,
Examples include aluminum carbide, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, aluminum nitride, boron nitride, asbestos, mica, diatomaceous earth, and molybdenum sulfide. These inorganic substances are used in powder form, and those having an average particle size range of about 0.1 μm to 50 μm, preferably about 0.5 μm to 30 μm, are used. The heat-resistant inorganic powder is contained in the composition of the present invention in an amount of 18 to 265 parts by weight per 100 parts by weight of at least one of the thermosetting resin, ultraviolet curable resin, and dry-curing resin (hereinafter referred to as "resin component"); Preferably
It is blended in a range of 36 to 245 parts by weight. After curing the resulting composition, not only can the cured product be given the heat resistance inherent to these inorganic powders, but also when a metal conductor film is fixed onto the cured product by chemical plating, the cured product can be It remains in the metal and significantly improves the metal precipitation caused by chemical plating, and significantly improves the adhesion strength of the metal conductor film. More specifically, after curing the composition of the present invention containing the above-mentioned inorganic powder, the cured film is formed by adsorbing palladium as a catalyst around the heat-resistant inorganic powder due to the presence of the heat-resistant inorganic powder, and the particle size of palladium increases. Since the particle size of the heat-resistant inorganic powder is larger than that of the heat-resistant inorganic powder, more palladium is exposed on the film surface without being buried in the cured resin material, making it easier for the subsequent chemical plating to precipitate. It bites into the resin along with the organic inorganic powder and precipitates, and can exhibit great adhesion strength due to the anchor effect.
In addition, when selecting a heat-resistant inorganic powder that is soluble in water, acid, or alkali, such as sodium sulfate or calcium carbonate, the inorganic powder may be eluted if the resin is cured and treated with warm water, acid, or alkali before chemical plating. The plating penetrates into the later holes, and the precipitation anchor effect is more pronounced, and the exposed surface of palladium is also increased, and the precipitation properties of chemical plating are also improved. Furthermore, the heat-resistant inorganic powder also acts as a filler in the composition of the present invention, and therefore has the effect of reducing costs. If the blending amount of the heat-resistant inorganic powder is less than 18 parts by weight, the above-mentioned effects due to the blending of the heat-resistant inorganic powder will not be exhibited, and in particular, the properties of plating on the cured composition and the adhesion strength of the precipitated metal film will be reduced. The improvement effect will no longer be recognized. On the other hand, if the blending amount is more than 265 parts by weight, the cured composition becomes brittle, which is not preferable. As the palladium catalyst powder, any palladium catalyst that has been conventionally used when chemically plating electrically nonconducting materials can be used. For example, in addition to metallic palladium, palladium chloride, palladium nitrate, palladium oxide, and palladium can be used. Inorganic palladium compounds such as black, palladium sponge, palladium acetate, palladium propionate,
palladium caproate, palladium caprate,
Palladium laurate, palladium stearate, palladium oxalate, palladium malonate,
Organic acid salts such as palladium adipate, palladium chloride, palladium acetate, etc. and ammonia, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, dipropylamine , etc.
Any palladium compound such as a chain compound with alkyl) amine, dimethylglyoxime, paranitrosodimethylaniline, etc. can be used. These palladium catalysts are used in the form of powder, and the average particle size thereof is about 1 μm or less, preferably about 0.1 μm or less, and the organic palladium compound is used after being dissolved in a resin or a solvent. The palladium catalyst powder is blended in the composition of the present invention in an amount of 3 to 33 parts by weight, preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin component. The palladium catalyst powder functions as a catalyst for applying the composition of the present invention onto a substrate and curing it, and then depositing a metal conductor film on the cured product by chemical plating,
If the amount used is less than 3 parts by weight, it will be difficult to deposit the plating film, and if it exceeds 33 parts by weight, the effect will not be improved by that much and will not only become expensive, but also the combination of resin and heat-resistant inorganic powder. This is not very preferable since it reduces the amount by that much. As the conductive carbon powder, carbon blacks such as channel black, furnace black, lamp black, acetylene black, and pyrolytic carbon, graphites such as phosphorous graphite, earthy graphite, and artificial graphite, and carbon fibers can be used. The electrical resistivity of these conductive carbon powders is approximately 0.05 to 90×
10 -4 Ω・cm, and its average particle size is approximately
It is in the range of 0.01 to 1 μm. Any conductive carbon powder can be used in the composition of the present invention, but in order to reduce the amount blended, the lower the electrical specific resistance, the better.
It is preferably 50×10 −4 Ω·cm or less. This is because, in order to lower the electrical resistivity of the cured product of the composition of the present invention by using a material with high electrical resistivity, a large amount of carbon powder must be blended, which makes the cured composition brittle, just like heat-resistant inorganic powder. Undesirable. Furthermore, the electrical conductivity, which is a characteristic of the cured product of the composition of the present invention, is approximately 1 to 10×10 3 when used for electrical circuits (for example, it varies depending on the current flowing in liquid crystal display parts, calculator circuits, etc., and the purpose of use). It is sufficient if it is Ω・cm or less. Therefore, the conductive carbon powder is blended in the composition of the present invention in an amount of 12 to 180 parts by weight, preferably 20 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin component. The conductive carbon powder is a conductive filler for imparting conductivity to a cured product obtained by applying the composition of the present invention to an arbitrary location on a substrate. Conventionally, this type of conductive filler is made of precious metals (gold, platinum, silver, palladium,
Powders and fibers of rhodium, ruthenium, etc.), base metals (copper, nickel, aluminum, zinc, etc.), and non-metals (carbon black, graphite, etc.) are used, but noble metals have good conductivity and are relatively stable in the air. However, it has drawbacks such as migration and generation of whiskers, and above all, it is expensive. Base metals oxidize in air and lose their conductivity. In order to prevent this oxidation, some base metal powders are treated with antioxidants such as polyvinyl alcohol or other reducing agents, but the conductivity deteriorates and they are still oxidized during long-term storage. Conductive carbon powders such as carbon black, graphite, and carbon fibers that can be used in the composition of the present invention have lower conductivity than metal conductive fillers, but are chemically inert and heat resistant.
Extremely high chemical resistance. Moreover, in view of the use and purpose of the composition of the present invention, as mentioned above, the conductivity of the cured composition does not need to be so high, and is about 1 to 10×
The above carbon powder is suitable as long as it is 10 8 Ωcm or less. For example, when an electric circuit is formed on an electrically non-conductive substrate using the composition of the present invention, the electric current is originally transferred to the metal conductor film deposited by chemical plating on the cured product of the composition, as well as to the metal conductor film deposited as necessary. The cured composition of the present invention is intended to improve the reliability of the electrical connection between this metal conductor film and another electrical circuit portion on the base material. be. Conventional conductive paints, conductive adhesives, etc. containing conductive carbon do not have susceptibility to chemical plating as they are. In addition, some metal-based conductive fillers have catalytic ability for chemical plating (for example, silver, palladium, etc. are actually deposited by chemical plating).
However, since it is not designed to be plated, the deposition properties are poor and the adhesion strength of the metal conductor film due to plating is low. This improvement in adhesion strength requires the aforementioned heat-resistant inorganic powder. The composition of the present invention essentially contains at least one resin selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and dry-curing resins, heat-resistant inorganic powder, palladium catalyst powder, and conductive carbon powder. Although it is used as a component, various additives can be added as necessary. That is, in addition to a curing agent and the like depending on the type of resin mentioned above, an antifoaming agent, a solubilizing agent, a thickener, a dispersing agent, a wetting agent, an anti-settling agent, etc. are added. The composition of the present invention comprises one or more resins selected from the above-mentioned thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and dry-curing resins, heat-resistant inorganic powder, palladium catalyst powder, and conductive carbon powder, and as necessary. The inorganic powder, palladium catalyst powder, and conductive carbon powder are mixed until the inorganic powder, palladium catalyst powder, and conductive carbon powder are uniformly dispersed. Can be easily applied to base materials. Application to the substrate can be carried out by a conventional method, and typical examples include screen printing, brush painting, application using a spinner, and dipping. The amount of the composition of the present invention to be applied to the substrate according to the various methods described above is appropriately determined depending on the type and amount of each component constituting the composition, the application method, etc., and is not particularly limited. When the subsequent film is cured, the cured film is about 5~
It is appropriate to set the amount to give a film thickness of 100 μm, preferably 10 to 80 μm. After the above-mentioned construction, the composition of the present invention is cured by heating at a temperature of usually 200°C or less when a thermosetting resin is used according to a conventional method, or by using, for example, a high-pressure mercury lamp when an ultraviolet curable resin is used. It is then cured by UV irradiation. When a dry curing resin is used, the resin may be left at room temperature or slightly heated with an infrared lamp or the like as long as the solvent is evaporated to dryness. The cured coating layer thus obtained not only has strong adhesion to the base material itself, but also has chemical plating sensitivity, and chemical plating allows uniform and strong adhesion to be formed on the layer. Not only can a metal conductive film be formed, but the cured film layer itself has electrical conductivity and is excellent in heat resistance and the like. Formation of a metal conductor film on the cured film layer of the composition of the present invention can be easily carried out by immersing the substrate on which the cured film layer has been formed in a common chemical plating solution according to a conventional method. As the chemical plating solution used, any of a wide variety of known baths can be used. For example, typical examples include acidic or alkaline electroless nickel plating baths with sodium hypophosphite added as a reducing agent, and electroless nickel or electroless copper plating using boron-based reducing agents such as sodium boron hydride. Examples include electroless copper plating baths using formalin as a reducing agent. As mentioned above, when using the composition of the present invention, various ordinary plastics, glass products such as soda lime silica glass and borosilicate glass, ceramic products, electrically nonconducting materials such as wood and paper, or various metals can be used. Various metals can be uniformly deposited on the surface of conductive substrates such as conductive paints, conductive paints, and cured conductive adhesives by chemical plating. In other words, in addition to electrically nonconducting materials, it also adheres to metals (aluminum, zinc, etc.) and non-metallic conductive materials such as carbon and graphite, which have not been easily plated with high adhesion strength until now. Depositing a strong metal conductor film,
It can be fixed. Therefore, the present invention provides a base material comprising the steps of applying the composition of the present invention to the surface of the base material, curing the composition on the surface of the base material, and then applying chemical plating to the cured film. We have also developed a method for fixing a metal conductor film together with a conductive cured material.
This is what we provide. The composition of the present invention is easy to apply, and it is possible to obtain a metal conductor film with a fine pattern only at any location.Since the cured product itself has conductivity, it is possible to apply the metal conductor film and another conductor film. Highly reliable electrical connection with other parts. Therefore, according to the present invention, partial metallization of the surface of a base material such as plastic or the manufacture of resistors, electronic circuits, capacitor electrodes, etc. can be carried out easily and quickly with high reliability. The present invention will be described in more detail with reference to Examples. All "parts" mean "parts by weight" unless otherwise specified. Example 1 Epoxy resin (trade name "Epicote 1001" manufactured by Ciel Chemical Co., Ltd.) 24.5 parts Butyl cellosolove 24.5〃 Dicyandiamide 1〃 Alumina powder 30〃 Palladium chloride powder 5〃 Carbon black (trade name "Printex L-6")
(manufactured by Degussa) 15〃 The above ingredients were thoroughly mixed to form a paste. This paste was screen printed on an epoxy laminate reinforced with glass fibers so that the film thickness after curing would be approximately 20 μm (the pattern is shown in Figure 2), and it was cured in an open environment (180°C, 60 minutes). The hardened sample piece was coated with a chemical copper plating solution (product name: "OPC Katsupa").
(manufactured by Okuno Pharmaceutical Industries) for 60 minutes at 50°C for plating. Lead wire (0.65
mmφ tin-drawn copper wire) was soldered, and the strength at which the plating peeled off was measured using a tensile measuring machine (Autograph P-100 manufactured by Shimadzu Corporation) at a speed of 50 mm/min in the direction perpendicular to the board. The adhesion strength was approximately 12 kg. In Figure 2, the electrical resistance value between -
(1) Before chemical plating construction, (2) After chemical plating construction, (3) After chemical plating construction, in oil at 260±5℃ for 3 seconds → 20±
After 5 cycles of a thermal shock test in 1,1,1-trichloroethane at 15°C for 20 seconds, and after 10 cycles of the thermal shock test in (4) and (3). When measured under condition (1), approximately
8.3×10 2 Ω, approximately 5.0×10 -8 Ω under condition (2), approximately 5.7×10 -8 Ω under condition (3), approximately 2.3×10 0 Ω under condition (4)
It was hot. Example 2 Epoxy novolak resin (product name: “Epicote”)
154'' manufactured by Ciel Chemical Co., Ltd.) 26.4 parts Hexahydrophthalic anhydride 13.6〃 Kaolin powder 40〃 Palladium black 0.3〃 Graphite (trade name ``GP-78'' manufactured by Hitachi Powder Metallurgy) 20〃 Mix the above ingredients thoroughly and make a paste. After that, add 100 parts of this paste to 200 parts of methyl ethyl ketone.
The mixture was dissolved in water to form a dip-applied paint. An epoxy laminate similar to that used in Example 1 was immersed in this paint up to a portion from the side edge in FIG. 2, and dried and cured in an open environment (150° C., 90 minutes). The film thickness after curing was approximately 50 μm. The cured sample piece was immersed in a chemical copper plating solution (trade name: "OPC Cutupa" manufactured by Okuno Pharmaceutical Industries) at 50°C for 60 minutes for plating. The same test as in Example 1 was conducted below. The results are in Table 1
It was shown to. Example 3 Bismaleimide triazine resin (trade name "BT2170" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical) 20 parts Isophorone 13〃 Sodium sulfate powder 26〃 Palladium propionate 15〃 Carbon black (trade name "Ketsutien Black" manufactured by Lion Co., Ltd.) 20〃 The above ingredients were thoroughly mixed to form a paste. This paste was screen printed on a polyimide laminate reinforced with glass fibers so that the film thickness after curing was 20 μm, and the paste was cured in an oven (180°C,
60 minutes). The cured sample pieces were immersed in a chemical nickel plating solution (trade name: NIKLAD740, manufactured by ALIDE-KILITE) at 77°C for 60 minutes for plating. The same tests as in Example 1 were conducted below, and the results are shown in Table 1. Example 4 Epoxy acrylate (product name “Lipoxy”)
VR90” manufactured by Showa Kobunshi) 19 parts polyester acrylate (product name “Aronix M-5700” manufactured by Toagosei) 19〃 1,6-hexanediol diacrylate
9.5〃 Benzoin isobutyl ether 2.4〃 Calcium phosphate 37.4〃 Palladium oxide 2.7〃 Acetylene black 10〃 The above components were thoroughly mixed to form a paste.
This paste was screen printed on the same epoxy laminate as in Example 1 so that the film thickness after curing was approximately 25 μm, and then heated under a high pressure mercury lamp with an input of 80 W/cm.
It was irradiated and cured for 8 seconds at a distance of 10 cm. The obtained substrate was plated and tested in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. Example 5 Urethane acrylate (product name "AEGE UV")
-15'' manufactured by Toyo Polymer) 23 parts polyester acrylate (trade name ``Aronix M-5700'' manufactured by Toagosei) 18.5〃 Dipropylene glycol diacrylate 7〃 Benzoin isobutyl ether 2.5〃 Calcium carbonate 36.2〃 Palladium sponge 2.8〃 Channel black 10〃 The above components were thoroughly mixed to form a paste.
After this paste was cured on an epoxy laminate in the same manner as in Example 4, the same tests as in Example 1 were conducted and the results are shown in Table 1. Example 6 Acrylic resin (trade name "Elvacite 2045" manufactured by Dupont) 17.4 parts xylene 40.6〃 Silica powder 10〃 Palladium black 2〃 Carbon black (trade name "Ketsuchen Black" manufactured by Lion Co., Ltd.) 30〃 The above ingredients The mixture was thoroughly mixed to form a paste, and 150 parts of xylene was added to 100 parts of this paste to prepare a dip coating paint. An epoxy laminate was immersed in this paint in the same manner as in Example 2, and dried and cured at room temperature (room temperature,
120 minutes). The film thickness after curing was approximately 30 μm. The same tests as in Example 1 were conducted below, and the results are shown in Table 1. Comparative Example Epoxy resin (trade name "Epicote 828" manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.) 30 parts Hexahydrophthalic anhydride 3 Alumina powder 66 Palladium black 1 The above components were thoroughly mixed to form a paste. This paste was screen printed on an epoxy laminate reinforced with glass fibers so that the film thickness after curing was approximately 20 μm, and then cured in an open environment (150 μm).
°C, 60 min). The same chemical copper plating and tests as in Example 1 were then carried out. The results are shown in Table 1. 【table】
第1図は電気的不導性基材に本発明組成物を適
用した後化学めつきにより金属導体皮膜を形成せ
しめた試料の断面図であり、1は化学めつきによ
る金属導体皮膜、2は本発明組成物、3は4上に
予め設けてある導体、4は電気的不導性の基材を
示す。
第2図は第1図の試料の平面図であり、1〜4
は第1図と同様であり、A及びBはそれぞれ導体
3の一方を示し、Cは化学めつき液に浸漬する場
合の上部水準位置を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a sample in which a metal conductor film was formed by chemical plating after the composition of the present invention was applied to an electrically nonconductive substrate; 1 is a metal conductor film formed by chemical plating, and 2 is a In the composition of the present invention, 3 indicates a conductor previously provided on 4, and 4 indicates an electrically nonconductive base material. FIG. 2 is a plan view of the sample in FIG.
are the same as in FIG. 1, where A and B each indicate one of the conductors 3, and C indicates the upper level position when immersed in a chemical plating solution.
Claims (1)
化型樹脂からなる群より選ばれた少なくとも1種
の樹脂100重量部、耐熱性無機粉末18〜265重量
部、パラジウム触媒粉末3〜33重量部および導電
性炭素粉末12〜180重量部からなることを特徴と
する化学めつき用組成物。 2 熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂及び乾燥硬
化型樹脂からなる群より選ばれた少なくとも1種
の樹脂100重量部、耐熱性無機粉末18〜265重量
部、パラジウム触媒粉末3〜33重量部および導電
性炭素粉末12〜180重量部からなる組成物を基材
表面の所望箇所に適用し硬化せしめた後該硬化物
上に化学めつきにより金属導体皮膜を形成せしめ
ることを特徴とする 化学めつき方法。[Claims] 1. 100 parts by weight of at least one resin selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and dry curable resins, 18 to 265 parts by weight of heat-resistant inorganic powder, and palladium catalyst powder. A chemical plating composition comprising 3 to 33 parts by weight and 12 to 180 parts by weight of conductive carbon powder. 2 100 parts by weight of at least one resin selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and dry curable resins, 18 to 265 parts by weight of heat-resistant inorganic powder, 3 to 33 parts by weight of palladium catalyst powder, and Chemical plating, characterized in that a composition consisting of 12 to 180 parts by weight of conductive carbon powder is applied to a desired location on the surface of a base material, cured, and then a metal conductive film is formed on the cured product by chemical plating. Method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58218370A JPS60110877A (en) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | Composition for chemical plating and chemical plating method using said composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58218370A JPS60110877A (en) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | Composition for chemical plating and chemical plating method using said composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60110877A JPS60110877A (en) | 1985-06-17 |
| JPH0247544B2 true JPH0247544B2 (en) | 1990-10-22 |
Family
ID=16718827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58218370A Granted JPS60110877A (en) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | Composition for chemical plating and chemical plating method using said composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60110877A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006150353A (en) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | UV curable catalyst composition |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP6649631B2 (en) * | 2014-09-05 | 2020-02-19 | 日産化学株式会社 | Photocurable electroless plating base agent |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6059399B2 (en) * | 1980-10-21 | 1985-12-25 | 日本シ−ルドエンジニアリング株式会社 | Expandable flexible pipe construction method underground |
-
1983
- 1983-11-18 JP JP58218370A patent/JPS60110877A/en active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006150353A (en) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | UV curable catalyst composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60110877A (en) | 1985-06-17 |
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