JPH0247568A - 半導体発光装置の周波数変調特性検出方法 - Google Patents

半導体発光装置の周波数変調特性検出方法

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JPH0247568A
JPH0247568A JP19911388A JP19911388A JPH0247568A JP H0247568 A JPH0247568 A JP H0247568A JP 19911388 A JP19911388 A JP 19911388A JP 19911388 A JP19911388 A JP 19911388A JP H0247568 A JPH0247568 A JP H0247568A
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JP
Japan
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light
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frequency modulation
light emitting
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Shoichi Ogita
省一 荻田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [i要コ 半導体レーザのような半導体発光装置から発せられる光
の周波数変調特性を検出する半導体発光装置の周波数変
調特性検出方法に関し、半導体発光装置の周波数変調特
性を高精度で簡便に検出することかできる半導体発光装
置の周波数変調特性検出方法を提供することを目的とし
、半導体発光装置から発せられる光の周波数変調特性を
検出する半導体発光装置の周波数変調特性検出方法にお
いて、前記半導体発光装置を所定の変調周波数で間欠的
に変調し、出力光に変調部分と非変調部分とを交互に生
じさせ、前記半導体発光装置からの出力光を部分し、部
分された先の−方の光の変調部分と他方の光の非変調部
分とが重なり合うように、部分された光の間に相対的に
光路差を発生させ、相対的に光路差が発生された2つの
光を混合し、混合された光を検出し、光の検出信号に基
づいて前記半導体発光装置から発せられる光の周波数変
調特性を検出するように構成する。
「産業上の利用分野] 本発明は半導体レーザのような半導体発光装置から発せ
られる光の周波数変調特性を検出する半導体発光装置の
周波数変調特性検出方法に関する。
従来の光通信は光のオンオフを’IJ  ”01に対応
させてデジタル情報を伝送していた。近年、光通信の大
容量化と高感度化等のためにコヒーレント光通信が注目
されている。コヒーレント光通信というのは光をオンオ
フさせることなく一定にしておいて、ある周波数の光を
変調するか否かにより「IJ 「0」の情報を伝送する
ものである。
半導体発光装置をコヒーレント光通信の光源として用い
る場合には、半導体発光装置の周波数変調特性を知る必
要がある。例えば、半導体発光装置に流す電流をどの位
変化させれば周波数がどの位変化するかという周波数変
調効率を測定する必要がある。しかしながら、光の周波
数は1014tlz程度と非常に高周波であるため、受
光器で電気的に直接検出することができず、゛間接的な
方法で半導体発光装置の周波数変調特性を検出しなくて
はならない。
[従来の技術] 従来、レーザのような半導体発光装置の周波数変調効率
を測定する方法として次のようなものがあった。
第1の方法は、マイケルソン干渉計による光の干渉を利
用して、光の周波数変化を光の強度変化に変換し、これ
により半導体発光装置の周波数変調効率を測定しようと
するものである(参考文献:菊池和朗池、「1.3μm
帯DFBレーザのF M変調度対AM変調度比の測定」
、電子情報通信学会、技術研究報告0QE86−76>
。半導体発光装置を周波数変調した場合でも光の強度が
一定であれば、この第1の方法により正確に測定できる
。しかしながら、例えばレーザの場合には周波数変調に
よりレーザ光の強度が一定ではなく変化してしまうため
、高精度の測定が困難であった。
第2の方法は、ファプリーペロー干渉計のような高分解
能の分光器を用いて変調時の光のスペクトルを求め、こ
の光スペクトルの形状から変調効率を求めるものである
(参考文献: C,tlarderet、  al  
”Heasurenent of the linew
idthenhance+++ent factor 
 a  of 5e11iconductoraser
s”、^pa1. Phys、 Lett、 42f4
)、15 February1983 )。周波数変調
された光のスペクトルは中心周波数のまわりに変調周波
数による側帯波ができ、この側帯波の大きさから変調効
率を求めることができる。光の場合、中心周波数が10
14オーダーで、変調周波数が5桁低い109オーダー
であるため、この方法で変調効率を精度良く求めるため
には、5桁以上の高分解能の分光器が必要なことになる
。しかしながら、そのような高分解能を実現するために
はファプリーベロー干渉計のような分光器でも超精密な
調整が必要であり、簡単に測定することができなかった
[発明が解決しようとする課題] このように第1の方法では半導体発光装置の変調特性を
高精度で検出することが原理的に困芦であるという問題
があった。また、第2の方法によれば原理的に高精度の
検出が可能であるが、高分解能であるとされる従来の分
光器を用いても高精度の検出が困難であった。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、半導体発
光装置の周波数変調特性を高精度で簡便に検出すること
ができる半導体発光装置の周波数変調特性検出方法を提
供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記目的は、半導体発光装置から発せられる光の周波数
変調特性を検出する半導体発光装置の周波数変調特性検
出方法において、前記半導体発光装置を所定の変調周波
数で間欠的に変調し、出力光に変調部分と非変調部分と
を交互に生じさせ、前記半導体発光装置からの出力光を
部分し、部分された光の一方の光の変調部分と他方の光
の非変調部分とが重なり合うように、部分された光の間
に相対的に光路差を発生させ、相対的に光路差が発生さ
れた2つの光を混合し、混合された光を検出し、光の検
出信号に基づいて前記半導体発光装置から発せられる光
の周波数変調特性を検出することを特徴とする半導体発
光装置の周波数変調特性検出方法によって達成される。
し作用〕 本発明によれば、半導体発光装置を所定の変調周波数で
間欠的に変調し、出力光に変調部分と非変調部分とを交
互に生じさせ、半導体発光装置の出力光を部分し、部分
された光の一方の光の変調部分と他方の光の非変調部分
とが重なり合うように、部分された光の間に相対的に光
路差を発生させ、これら光を混合する。混合された光の
検出信号に基づいて半導体発光装置からの光の周波数変
調特性を検出する。
[実施例] 以下、図示の実施例に基づいて本発明を説明する。
(a)第1の実施例 第1図に本発明の第1の実施例による半導体発光装置の
周波数変調特性検出装置を示す。
本実施例においては、半導体発光装置として半導体レー
ザ10の周波数変調特性が検出される。
この半導体レーザ10には駆動のために負荷抵抗12を
介して直流電圧が印加されている。周波数ωn1の交流
発振器14は半導体レーザ10を周波数変調するために
設けられ、負荷抵抗12と半導体レーザ10の中間点に
コンデンサ16及びスイッチ18を介して接続されてい
る。これにより半導体レーザ10は交流発振器14によ
る微小な高周波電流か重畳された電流により駆動される
本実施例では、半導体レーザ10のレーザ光の周波数を
1014Hz程度とし、交流発振器14の周波数ωmを
10911z程度とする。
スイフチ18を所定の周波数ωSでオンオフすることに
より、半導体レーザ10から出力されるレーザ光Aが間
欠的に周波数変調される。すると、第2図(a)に示す
ようにレーザ光Aに変調部分と非変調部分とか交互に生
ずるようになる。
ハーフミラ−20,22とミラー2・1.26により構
成される光学系によりこのレーザ光Aは分され、互いに
光路差ΔLが生ずるようにされた後混合される。ずなわ
ち、レーザ光Aはハーフミラ−20により部分される。
ハーフミラ−20を透過する一方のレーザ光Bはそのま
まハーフミラ−22を透過する。ハーフミラ−20で反
射された他方のレーザ光Cはミラー24.25で反射さ
れた後、ハーフミラ−22でも反射される。このように
レーザ光Cの方かレーザ光Bに比べて経路が長いため、
相対的に光路差ΔLが生ずる。
この光路差ΔLは、レーザ光Bとレーザ光Cの関係が第
2図(b)に示す関係になるように定められる。すなわ
ち、レーザ光Bの変調部分とレーザ光Cの非変調部分が
重なり合い、かつレーザ光Bの非変調部分とレーザ光C
の変調部分が重なり合うように、光路差を定める。この
ためには、レーザ光BとCの光路差Δし、スイフチ18
のオンオフ周期ωS、レーザ光の遠度Cの間に次式のよ
うな関係が成立すればよい。
ωS−πC/ΔL このような光路差ΔLになるように、ハーフミラ−20
,22とミラー24.26の位置関係を定める。このよ
うな光路差ΔLを有するレーザ光BとCはハーフミラ−
22により混合される。
ハーフミラ−22で混合されたレーザ光BとCの混合レ
ーザ光は光検出器28により検出される。
光検出器28の検出信号はスペクトラムアナライザ30
によりスペクトラムが収られ後述する検出原理により分
析され、半導体レーザ10の周波数変調効率が求めるら
れる。
次に本実施例の検出原理を説明する。
スペクトルから   レー の 周波数変調されたレーザ光のスペクトルは、第3図に示
すように中心周波数ω0に対して変調周波数をωmとし
て、周波数ω0±ωm、ω0±2ωm、ω0±3ωm、
・・・・・・の所にペンセル関数で表現できるような強
度分布で側帯波ができる。この側帯波の強度P1は周波
数変調効率に関係しているなめ、中心周波数の強度PO
と側帯波の強度P1の比P 1/P Oから周波数変調
効率η「Hを次のようにして求めることができる。
比P 1/P Oが測定されると次式から周波数変調指
数βが求められる。
P1/PO= [J、 (β) ” + nl” /4
XJl (β)2]/[Jl(β) 2+ ra2/1
6(J o (β)−J2(β))2]ただし、J、(
i)、J、(β)、、J、、(β)はそれぞれ0次、1
次、2次のベッセル関数である。また、mは駆動電流を
変化させることにより生ずる光の振部変調の変調指数で
ある。これは、駆動電流を変化させて半導体レーザを周
波数変調した場合には、周波数変調と同時にFA陽変調
もかかるからである。
レーザ光の強度か第4図に示すように平均光強度Pに対
して振幅2ΔPで変調された場合に、強度変調指数mは
ΔP/Pとなる。
上式から求められたβを用いると周波数変調効率η[M
は次式の如くなる。
ηFM=(βxωm/ 2 yr ) / (ΔI、−
、/2)ただし、ωmは変調周波数であり、ΔI p−
pは駆動電流のうちの変調電流成分のピーク対ピーク値
である。
このように、半導体レーザ10から出力されるレーザ光
の中心周波数の強度POと側帯波の強度P1の比P 1
/P Oが分かれば、上述のようにして周波数変調効率
ηFHを求めることができる。
しかしながら、直接レーザ光のスペクトルを測定したの
では、中心周波数が101”1オーダーであり、変調周
波数が5桁低い109オーダーであるため、極めて高精
度の分光計でなければ比P1/POを求めることができ
ない。本発明はこれを解決するものである。
レー   の  1  ゛  の   PO゛ の本実
施例では上述の所定の光路差ΔLであるレーザ光Bとレ
ーザ光Cを混合することにより、中心周波数ωQをレー
ザ光本来の101411zから光検出器28により検出
可能な周波数まで下げて測定するものである。
レーザ光Bとレーザ光Cは同一の半導体レーザ10から
出力されたちのであるため、中心周波数ω0や変調周波
数ωmがずれても、レーザ光Bとレーザ光Cの間で相対
的にずれることがない。したがって、レーザ光Bとレー
ザ光Cが第2図(b)に示すように常に一方だけか変調
されていると、混合レーザ光は常に変調されていないレ
ーザ光と変調されたレーザ光が混合されたしのとなる。
レーザ光Bの周波数をωB振幅をB、レーザ光Cの周波
数をωC振幅をCとすると、各レーザ光B及びCの式は
、 EB =B 5in(ωB t) EC=C5in(ωc t) となる。なお、一般的には各レーザ光B、Cの位相は異
なるが、半導体レーザ10を微調整することにより同一
位相にすることができるため、位相成分は省略している
3 これらレーザ光B及びCを混合したレーザ光の式は、 EH=EB +EC B  5in(ωB t)士C5in(ωc t)とな
る。
光検出器28はこの混合レーザ光のパワーに比例した信
号を出力する。混合レーザ光のパワーPHは次式の如く
なる。
PM   (EB +EC) 2 EB  +BC2+2EB EC −(B  5in(ωB t ) ) 2±(C31n
(ωCt))2 ±2BC5in(ωB t)  5in(ωc t)=
 (B 5in(ωB t ) ) 2+ (C5in
(ωc t ) ) ”+BC(cos(ωB+ωC>
t COS (ωB −ωC)t+ 今、レーザ光Bが周波数変調されていて周波数ωB=ω
0+ωmとし、レーザ光Cか主端数変調されていなくて
周波数ωC−ωOとすると、上式のパワーPHは次のよ
うになる。
P8 (BSin((ω0+ωm)t))2士(C5i
n(ωot) ) 2 +BC(cos(2ωo+ωm)t COS (0m)t) 光検出器28はレーザ光本来の1014H2の周波数ω
0に対しては早すぎて応答しないが、変調周波数ωmの
109H2には応答する。したがって、上式の第1項、
第2項及び第3項中の第1項の交流成分に応答せず直流
成分のみに応答し、交流成分としては第3項中の第2項
にのみ応答することになる。したがって、光検出器28
の出力信号のスペクトルをとると、第5図に示すように
中心周波数ωOのピークが周波数Oの所に位置し、側帯
波が周波数ωm、2ωm、3ωm、・・・の所に位置す
るようになる。第5図からレーザ光の中心周波数の強度
POと側帯波の強度P1を測定し、比P1、/POを求
め、最終的には周波数変調効率を求める。
なお、本実施例では上述のごとく被測定光を分し、一方
を遅延させた後混合して、部分した光の間に唸りを生じ
させて、変調周波数を検出しているのて′、自己による
ホモダイン、すなわち自己ホモタインということができ
る。
二のように、本実施例によれば、スペクトラムアナライ
ザ30としては10911zの変調周波数ωmに応答で
きる程度の感度で十分に測定が可能であり、簡便に半導
体レーザの周波数変調効率の検出が可能である。
fb)第2の実施例 第6図に本発明の第2の実施例による半導体発光装置の
周波数変調特性検出装置を示す。第1図に示す第1の実
施例と同一の構成要素には同一の符号をけし、説明を省
略する。
本実施例では半導体レーザ10から出力されるレーザ光
を光ファイバにより案内している。すなわち、半導体レ
ーザ10にはアイソレータ32を介して光ファイバ34
か設けられている。アイソレータ32は一旦出力された
レーザ光が反射して半導体レーザ10に戻ることを防止
するために設けられている。
光ファイバ34には光フアイバカプラ36が設けられて
いる。光ファイバ34を案内された光は、この光フアイ
バカプラ36により部分され、2本の光ファイバ38.
40に導かれる。これら光ファイバ38.40は光混合
用の光フアイバカプラ42に接続されている。
光フアイバカプラ36と42間の光ファイバ40の長さ
を光ファイバ38より長くして、これら光ファイバ38
と40を通過した光に光路差ΔLを生ずるようにする。
この光路差ΔLは変調周波数ωSとの間で第1の実施例
とほぼ同様に次式のように定める。
ΔL−πC/ n xωS ここで、nは光ファイバの屈折率である。このように光
路差ΔLを定めると、第1の実施例と同様に一方のレー
ザ光の変調部分と被変調部分とが常に重なり合うように
なる。
本実施例では光ファイバ38の途中に光変調器44を挿
入している。この光変調器44により光ファイバ38を
案内されるレーザ光が周波数ω八〇で変調される。例え
ば、10′:)Hzの周波数ω^0で変調する。これに
より光ファイバカグラ42で混合された光のスペクトル
が第7図に示すように全体的に周波数ωAOたけシフト
され、測定がより簡単になる。これは、第5図に示すよ
うに中心周波数のピークが周波数0に位置から少しシフ
トした方がスペクトラムアナライザ30の画面上で観測
し易いからである。この場合には混合する周波数が異な
るので自己によるヘテロダイン、すなわち自己ヘテロダ
インということかできる。
また、光ファイバ40の途中に位相シフタ46を挿入し
ている。位相シフタ46は印加する電圧を変化させると
内部の物質の屈折率が変化するものである。これにより
位相シフタ46を通るレーザ光の位相をシフトさせる。
位相シフタ46に印加する電圧を変化させることにより
1.光ファイバ38と光ファイバ40を通るレーザ光の
位相差を互いに強め合うように調節する。
光フアイバカプラ42により混合されたレーザ光は、第
1の実施例と同様に光検出器28により検出され、スペ
クトラムアナライザ30により測定される。
このように本実施例によれば光スペクトラムの中心周波
数のピークをずらすので容易に高精度の検出が可能であ
る。
(c)変形例 本発明は上記実施例に限らず種々の変形が可能である。
例えば、第2の実施例においては光ファイバ40の方を
光ファイバ38より長くしたが、逆に短くしてもよい。
また光変調器44を光ファイバ38に挿入し、位相シフ
タ46を光ファイバ40に挿入したが、これら光変調器
44と位相シフタ46をどちらの光ファイバ38又は4
0に挿入してもよい。また、光変調器44や位相シフタ
46を設けなくてもよい。
また、上記第1及び第2の実施例では中心周波数の強度
POと側帯波の強度P1を求めるのにスペクトラムアナ
ライザ30を用いたが、スペクトラムアナライザ30の
代わりに選択レベルメータを用いてもよい、第2の実施
例の場合であれば選択しベルメータの周波数をωAO2
ω^0+ωmに合わせることにより、中心周波数のピー
クのレベルと側帯波のレベルを直読することができる。
さらに、上記実施例では半導体レーザの周波数変調効率
を検出したが、変調効率以外の他の変調特性を検出する
ようにしてもよい。
また、第2の実施例ではレーザ光を混合するのに光フア
イバカプラを用いたが、例えば内部にハーフミラ−を有
する光結合器により混合しても良い。
さらに、上記実施例では半導体レーザの周波数変調特性
を検出したが、半導体レーザ以外の半導体発光装置の周
波数変調特性を検出するようにしてもよい。
なお、本発明による検出装置全体を光ICとして構成す
るようにしてもよい。そのようにすれば、検出装置を精
度よく作ることができ、かつ小形化が可能である。
[発明の効果1 以上の通り、本発明によれは超精密な光学系を用いるこ
となく十分に高精度の周波数変調特性の検出か可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例による半導体発光装置の
周波数変調特性検出装置を示す図、第2図は同周波数変
調特性検出装置における光路差の決定方法を説明するた
めのグラフ、第3図は周波数変調されたレーザ光のスペ
クトラムを示すグラフ、 第4図は周波数変調時のレーザ光の振幅変調を示すグラ
フ、 第5図は自己ホモダインによる混合レーザ光のスペクト
ラムを示すグラフ、 第6図は本発明の第2の実施例による半導体発光装置の
周波数変調特性検出装置を示す図、第7図は自己ヘテロ
ダインによる混合レーザ光のスペクトラムを示すグラフ
である。 図において、 10・・・半導体レーザ、12・・負荷抵抗、1・1・
・交流発振器、16・・・コンデンサ、18・・・スイ
・lチ、20.22・・・ハーフミラ−124,26・
・ミラー28・・光検出器、30・・・スペクトラムア
ナライザ、32・・・アイソレータ、3 Zl、38、
−10・・光ファイバ、36.42・・・光フアイバカ
プラ、44・・・光変調器、46・・・位相シフタ。 の周波数変凋行性検出畏置奮ホす口 筒1図 τ (α) (b) 尤距岸のミ夫定万涛を説明するグラフ 第2図 −一 周波数皮調さ札たレープ尤のズ公りトラ△第 3 図 闇波数変謂同Φレーザ光の根輻莢謬ト示ずグラフ第4図 0   ωII2ωIllIJm間又数w自己不tダイ
ンLac!rろ;見合ループ尤のスτクトラ△第 5 

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体発光装置から発せられる光の周波数変調特性
    を検出する半導体発光装置の周波数変調特性検出方法に
    おいて、 前記半導体発光装置を所定の変調周波数で間欠的に変調
    し、出力光に変調部分と非変調部分とを交互に生じさせ
    、前記半導体発光装置からの出力光を二分し、二分され
    た光の一方の光の変調部分と他方の光の非変調部分とが
    重なり合うように、二分された光の間に相対的に光路差
    を発生させ、相対的に光路差が発生された2つの光を混
    合し、混合された光を検出し、光の検出信号に基づいて
    前記半導体発光装置から発せられる光の周波数変調特性
    を検出することを特徴とする半導体発光装置の周波数変
    調特性検出方法。
JP19911388A 1988-08-10 1988-08-10 半導体発光装置の周波数変調特性検出方法 Pending JPH0247568A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102393291A (zh) * 2011-08-29 2012-03-28 深圳市大族激光科技股份有限公司 一种激光器检测方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102393291A (zh) * 2011-08-29 2012-03-28 深圳市大族激光科技股份有限公司 一种激光器检测方法

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