JPH0247843B2 - Seramitsukubarisuta - Google Patents
SeramitsukubarisutaInfo
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- JPH0247843B2 JPH0247843B2 JP56175999A JP17599981A JPH0247843B2 JP H0247843 B2 JPH0247843 B2 JP H0247843B2 JP 56175999 A JP56175999 A JP 56175999A JP 17599981 A JP17599981 A JP 17599981A JP H0247843 B2 JPH0247843 B2 JP H0247843B2
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Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセラミツクバリスタに関するものであ
つて、その目的とするところは異常電圧又は過大
な侵入サージによつて破損されることのない自己
防御作用を備えたセラミツクバリスタを提供する
ことにある。
つて、その目的とするところは異常電圧又は過大
な侵入サージによつて破損されることのない自己
防御作用を備えたセラミツクバリスタを提供する
ことにある。
酸化亜鉛を主体とするセラミツクバリスタは、
酸化亜鉛にビスマス、アンチモン、コバルト、マ
ンガン等の金属酸化物を添加して混合成形し、
1000〜1300℃で焼結して形成され、すぐれた非直
線電圧抵抗特性を有するので各種電気回路のサー
ジ吸収器として広く用いられている。第1図は従
来のセラミツクバリスタを示している。1はセラ
ミツク基板で、その表面および裏面には、銀又は
銅、あるいはアルミニユーム等の導電性金属の焼
き付け、メツキあるいは溶射等によつて平面電極
2,2′を形成している。3,3′は平面電極2,
2′に半田付けされたリード線である。
酸化亜鉛にビスマス、アンチモン、コバルト、マ
ンガン等の金属酸化物を添加して混合成形し、
1000〜1300℃で焼結して形成され、すぐれた非直
線電圧抵抗特性を有するので各種電気回路のサー
ジ吸収器として広く用いられている。第1図は従
来のセラミツクバリスタを示している。1はセラ
ミツク基板で、その表面および裏面には、銀又は
銅、あるいはアルミニユーム等の導電性金属の焼
き付け、メツキあるいは溶射等によつて平面電極
2,2′を形成している。3,3′は平面電極2,
2′に半田付けされたリード線である。
ところで上記構造のセラミツクバリスタは、定
格最大値以上の異常電圧が印加されたとき、ある
いは耐量以上の過大サージが侵入したときは短
絡、破壊されるので、回路に遮断器又は電流ヒユ
ーズを接続してこれを異常電圧および過大サージ
から保護している。本発明はこの点にかんがみ、
セラミツクバリスタそれ自体に異常電圧および過
大サージに対する防御機能を付与することによ
り、遮断器、電流ヒユーズ等を省略し、配線基板
を簡素化することを意図するものである。
格最大値以上の異常電圧が印加されたとき、ある
いは耐量以上の過大サージが侵入したときは短
絡、破壊されるので、回路に遮断器又は電流ヒユ
ーズを接続してこれを異常電圧および過大サージ
から保護している。本発明はこの点にかんがみ、
セラミツクバリスタそれ自体に異常電圧および過
大サージに対する防御機能を付与することによ
り、遮断器、電流ヒユーズ等を省略し、配線基板
を簡素化することを意図するものである。
本発明の実施例を第2図、第3図および第4図
によつて説明する。第2図において、4は長方形
のセラミツク基板で、その表面および裏面の中央
部から片方によつた位置に、若干の巾をもつ耐熱
絶縁層5,5′が設けてある。この耐熱絶縁層5,
5′は耐熱ガラスあるいはアルミナなどの耐熱性
無機絶縁材料を焼付け、溶射などの方法によつて
数十μm程度の厚さに形成される。第3図におい
て6a,6b,6c,6dおよび6′a,6′b,
6′c,6′dは表面および裏面の中央部に設けた
分離された複数個の対向電極で、6aと6′a,
6bと6′b,6cと6′c,6dと6′dとはセ
ラミツク基板4をはさんで相対向しており、前記
耐熱絶縁層5,5′の中央部側に設けてある。7
および7′は耐熱絶縁層5,5′の中央部側と反対
の側に設けた巾の狭い共通電極で、表面の共通電
極7と裏面の共通電極7′はその位置を互い違い
に設けてある。8a,8b,8c,8dおよび
8′a,8′b,8′c,8′dは複数個の対向電極
6,6′と共通電極7,7′とを連通する渡り電極
である。対向電極6,6′は銀又は銅あるいはア
ルミニユームの焼付け、メツキ、溶射などの方法
によつて形成される。渡り電極8,8′は比較的
融点の低いアルミニユーム等の易溶性金属の溶射
あるいは蒸着によつて耐熱絶縁層5,5′の上に
形成され、その厚さは数ミクロンないしは30μm
である。9,9′は表面および裏面の共通電極7,
7′に半田付けされたリード線である。リード線
9,9′の半田付けされたセラミツク基板4の表
面はエポキシ樹脂などによつてコーテイングされ
る。第4図は本発明の他の実施例である。この実
施例は耐熱絶縁層および渡り電極を含む上記の電
極構造をセラミツク基板4の表面にのみ設け、裏
面には第1図の平面電極2′と同様な裏面電極1
0を設け、これにリード線9′が半田付けしてあ
る。
によつて説明する。第2図において、4は長方形
のセラミツク基板で、その表面および裏面の中央
部から片方によつた位置に、若干の巾をもつ耐熱
絶縁層5,5′が設けてある。この耐熱絶縁層5,
5′は耐熱ガラスあるいはアルミナなどの耐熱性
無機絶縁材料を焼付け、溶射などの方法によつて
数十μm程度の厚さに形成される。第3図におい
て6a,6b,6c,6dおよび6′a,6′b,
6′c,6′dは表面および裏面の中央部に設けた
分離された複数個の対向電極で、6aと6′a,
6bと6′b,6cと6′c,6dと6′dとはセ
ラミツク基板4をはさんで相対向しており、前記
耐熱絶縁層5,5′の中央部側に設けてある。7
および7′は耐熱絶縁層5,5′の中央部側と反対
の側に設けた巾の狭い共通電極で、表面の共通電
極7と裏面の共通電極7′はその位置を互い違い
に設けてある。8a,8b,8c,8dおよび
8′a,8′b,8′c,8′dは複数個の対向電極
6,6′と共通電極7,7′とを連通する渡り電極
である。対向電極6,6′は銀又は銅あるいはア
ルミニユームの焼付け、メツキ、溶射などの方法
によつて形成される。渡り電極8,8′は比較的
融点の低いアルミニユーム等の易溶性金属の溶射
あるいは蒸着によつて耐熱絶縁層5,5′の上に
形成され、その厚さは数ミクロンないしは30μm
である。9,9′は表面および裏面の共通電極7,
7′に半田付けされたリード線である。リード線
9,9′の半田付けされたセラミツク基板4の表
面はエポキシ樹脂などによつてコーテイングされ
る。第4図は本発明の他の実施例である。この実
施例は耐熱絶縁層および渡り電極を含む上記の電
極構造をセラミツク基板4の表面にのみ設け、裏
面には第1図の平面電極2′と同様な裏面電極1
0を設け、これにリード線9′が半田付けしてあ
る。
次に本発明のセラミツクバリスタの作用を説明
する。いま、過大サージの侵入によつて第3図イ
および第5図に示すようにセラミツク基板4に短
絡aが発生したとする。このときの短絡電流はリ
ード線9から渡り電極8c,8′cを通過してリ
ード線9′に流れるから易溶性金属よりなる渡り
電極8c,8′cのどちらか一方又は双方が通過
電流によつて溶断される。すなわち、渡り電極
8,8′は電流ヒユーズとして作用するからその
材料、厚み、巾、長さは遮断電流によつて設定さ
れる。第1図の従来のセラミツクバリスタにおい
ては、短絡が発生すると短絡電流によつてセラミ
ツク基板に低抵抗の貫通孔を生じ、この貫通孔を
通過する過大電流のシユール熱によつてセラミツ
ク基板が焼損するが、本発明は渡り電極の溶断に
よつてこれを未然に防止するばかりでなく、短絡
が発生した後も、残余の約75%がセラミツクバリ
スタとしての作用を保持している。
する。いま、過大サージの侵入によつて第3図イ
および第5図に示すようにセラミツク基板4に短
絡aが発生したとする。このときの短絡電流はリ
ード線9から渡り電極8c,8′cを通過してリ
ード線9′に流れるから易溶性金属よりなる渡り
電極8c,8′cのどちらか一方又は双方が通過
電流によつて溶断される。すなわち、渡り電極
8,8′は電流ヒユーズとして作用するからその
材料、厚み、巾、長さは遮断電流によつて設定さ
れる。第1図の従来のセラミツクバリスタにおい
ては、短絡が発生すると短絡電流によつてセラミ
ツク基板に低抵抗の貫通孔を生じ、この貫通孔を
通過する過大電流のシユール熱によつてセラミツ
ク基板が焼損するが、本発明は渡り電極の溶断に
よつてこれを未然に防止するばかりでなく、短絡
が発生した後も、残余の約75%がセラミツクバリ
スタとしての作用を保持している。
以上述べたように本発明のセラミツクバリスタ
は、セラミツク基板4の表面および裏面に、その
中央部から片方によつた位置に耐熱絶縁層5,
5′を互い違いの位置に設け、この耐熱絶縁層5,
5′の中央部側に分離された複数個の対向電極6,
6′を前記セラミツク基板4の表面および裏面に
相対向するように形成し、前記耐熱絶縁層5,
5′の中央部側と反対の側には巾の狭い共通電極
7,7′を前記セラミツク基板4の表面および裏
面に互い違いに形成し、複数個の前記対向電極
6,6′と前記共通電極7,7′とを前記耐熱絶縁
層5,5′の上に形成した巾の狭い易溶性金属よ
りなる渡り電極8,8′によつて連通させ、表面
および裏面の共通電極7,7′にはそれぞれリー
ド線9,9′を半田付けした構造を有するので、
定格最大以上の異常電圧が印加されたとき、ある
いは耐量以上の過大サージが侵入したときには渡
り電極8,8′が溶断してセラミツクバリスタの
破壊焼損を未然に防止する。したがつて、セラミ
ツクバリスタを保護するための遮断器又は電流ヒ
ユーズの必要がないから配線基板が簡素化され、
冒頭で述べた本発明の目的を達成する作用効果を
有する。
は、セラミツク基板4の表面および裏面に、その
中央部から片方によつた位置に耐熱絶縁層5,
5′を互い違いの位置に設け、この耐熱絶縁層5,
5′の中央部側に分離された複数個の対向電極6,
6′を前記セラミツク基板4の表面および裏面に
相対向するように形成し、前記耐熱絶縁層5,
5′の中央部側と反対の側には巾の狭い共通電極
7,7′を前記セラミツク基板4の表面および裏
面に互い違いに形成し、複数個の前記対向電極
6,6′と前記共通電極7,7′とを前記耐熱絶縁
層5,5′の上に形成した巾の狭い易溶性金属よ
りなる渡り電極8,8′によつて連通させ、表面
および裏面の共通電極7,7′にはそれぞれリー
ド線9,9′を半田付けした構造を有するので、
定格最大以上の異常電圧が印加されたとき、ある
いは耐量以上の過大サージが侵入したときには渡
り電極8,8′が溶断してセラミツクバリスタの
破壊焼損を未然に防止する。したがつて、セラミ
ツクバリスタを保護するための遮断器又は電流ヒ
ユーズの必要がないから配線基板が簡素化され、
冒頭で述べた本発明の目的を達成する作用効果を
有する。
第1図:従来のセラミツクバリスタを示す図
で、イは平面図、ロは側面図、第2図:本発明の
セラミツク基板の実施例を示す図で、イは平面
図、ロは側面図、第3図:本発明のセラミツクバ
リスタの実施例を示す図で、イは平面図、ロは側
面図、第4図:本発明のセラミツクバリスタの他
の実施例の側面図、第5図:本発明のセラミツク
バリスタの作用説明図。 記号、4……セラミツク基板、5,5′……耐
熱絶縁層、6,6′……対向電極、7,7′……共
通電極、8,8′……渡り電極、9,9′…リード
線、10……裏面電極。
で、イは平面図、ロは側面図、第2図:本発明の
セラミツク基板の実施例を示す図で、イは平面
図、ロは側面図、第3図:本発明のセラミツクバ
リスタの実施例を示す図で、イは平面図、ロは側
面図、第4図:本発明のセラミツクバリスタの他
の実施例の側面図、第5図:本発明のセラミツク
バリスタの作用説明図。 記号、4……セラミツク基板、5,5′……耐
熱絶縁層、6,6′……対向電極、7,7′……共
通電極、8,8′……渡り電極、9,9′…リード
線、10……裏面電極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 セラミツク基板の表面および裏面に、その中
央部から片方によつた位置に若干の幅をもつ耐熱
絶縁層を互い違いの位置に設け、この耐熱絶縁層
の中央部側に分離された複数個の対向電極を前記
セラミツク基板の表面および裏面に相対向するよ
うに形成し、前記耐熱絶縁層の中央部側と反対の
側には幅の狭い共通電極を前記セラミツク基板の
表面および裏面に互い違いに形成し、前記複数個
の対向電極と前記共通電極とを前記耐熱絶縁層の
上に設けた幅の狭い易溶性金属よりなる複数個の
渡り電極によつて連通させ、表面および裏面の前
記共通電極にはそれぞれリード線を半田付けした
ことを特徴としたセラミツクバリスタ。 2 セラミツク基板の表面に、その中央部から片
方によつた位置に、若干の幅をもつ耐熱絶縁層を
設け、この耐熱絶縁層の中央部側に分離された複
数個の対向電極を前記セラミツク基板の表面に、
裏面に設けられた1つの平面電極に相対向するよ
うに形成し、前記耐熱絶縁層の中央部側と反対の
側には幅の狭い共通電極を前記セラミツク基板の
表面に裏面の前記平面電極に対向せぬよう形成
し、前記複数個の対向電極と、前記共通電極とを
前記耐熱絶縁層の上に設けられた幅の狭い易溶性
金属よりなる複数個の渡り電極によつて連通さ
せ、表面の前記共通電極および裏面の前記平面電
極に、それぞれリード線を半田付けしたことを特
徴としたセラミツクバリスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175999A JPH0247843B2 (ja) | 1981-11-02 | 1981-11-02 | Seramitsukubarisuta |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175999A JPH0247843B2 (ja) | 1981-11-02 | 1981-11-02 | Seramitsukubarisuta |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877202A JPS5877202A (ja) | 1983-05-10 |
| JPH0247843B2 true JPH0247843B2 (ja) | 1990-10-23 |
Family
ID=16005932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175999A Expired - Lifetime JPH0247843B2 (ja) | 1981-11-02 | 1981-11-02 | Seramitsukubarisuta |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0247843B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62168604U (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-26 |
-
1981
- 1981-11-02 JP JP56175999A patent/JPH0247843B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5877202A (ja) | 1983-05-10 |
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