JPH0248469A - 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 - Google Patents
窒化アルミニウム焼結体の製造方法Info
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- JPH0248469A JPH0248469A JP63194546A JP19454688A JPH0248469A JP H0248469 A JPH0248469 A JP H0248469A JP 63194546 A JP63194546 A JP 63194546A JP 19454688 A JP19454688 A JP 19454688A JP H0248469 A JPH0248469 A JP H0248469A
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は窒化アルミニウム焼結体の製造方法に関し、特
に産業上の要求の高い熱伝導率の高い窒化アルミニウム
焼結体の製造方法に関する。
に産業上の要求の高い熱伝導率の高い窒化アルミニウム
焼結体の製造方法に関する。
[従来の技術]
従来、集積回路の絶縁基板材料としてアルミナの焼結体
が広く使用されている。しかし、回路の高集積化の要求
が高まるにつれ、アルミナの熱伝導率(20W / m
、 K )では不十分であり、また、実装するシリコ
ンチップとの熱膨張差が大きいため接着性が悪いという
欠点が問題となってきた。
が広く使用されている。しかし、回路の高集積化の要求
が高まるにつれ、アルミナの熱伝導率(20W / m
、 K )では不十分であり、また、実装するシリコ
ンチップとの熱膨張差が大きいため接着性が悪いという
欠点が問題となってきた。
アルミナに代わる材料として酸化ベリリウム、炭化珪素
などがあるが、酸化ベリリウムは毒性があり、かつ高価
である。また炭化珪素は誘電率が大きく、絶縁耐圧が小
さいという問題がある。
などがあるが、酸化ベリリウムは毒性があり、かつ高価
である。また炭化珪素は誘電率が大きく、絶縁耐圧が小
さいという問題がある。
一方、窒化アルミニウム(以下AβNと記す)は熱伝導
率が高(、絶縁抵抗が高く、誘電率が小さく、熱膨張率
がシリコンに近いため、最も有望視されている。
率が高(、絶縁抵抗が高く、誘電率が小さく、熱膨張率
がシリコンに近いため、最も有望視されている。
すなわち、AI2.Nは理論的には320W/m、にの
熱伝導率を有すると考えられているが、特公昭46−4
1003に示されるY203、特公昭58−49510
に示されるCab。
熱伝導率を有すると考えられているが、特公昭46−4
1003に示されるY203、特公昭58−49510
に示されるCab。
Bad、SrO等を焼結助として用いても、焼結体の有
する欠陥等により、現在は160W/m、にの製品が一
般的である。
する欠陥等により、現在は160W/m、にの製品が一
般的である。
しかし、使用者側からは用途によってはさらに高い熱伝
導特性を有する焼結体が要求されている。
導特性を有する焼結体が要求されている。
高熱伝導率A2N焼結体を得る方法としては、
(1)AI2N粉末を非酸化性雰囲気中1600°C以
上で熱処理し、粉末の酸素含有量を低減した後焼結する
方法。
上で熱処理し、粉末の酸素含有量を低減した後焼結する
方法。
(2)熱処理後のAJ2N粉末を1800〜2300℃
、非酸化性雰囲気下で20kg/crr?以上の圧力下
でホットプレスし、最高210W/m、にの熱伝導率を
得る方法(特開昭61−2016681 がある。
、非酸化性雰囲気下で20kg/crr?以上の圧力下
でホットプレスし、最高210W/m、にの熱伝導率を
得る方法(特開昭61−2016681 がある。
しかし、これらの方法はAffN表層の薄い酸素膜を取
り除くため、AffNの難焼結性が顕著に現われ、焼結
助剤を添加しても生産性が低く、高価なホットプレスに
よらないと所望の焼結体が得られず、大量生産向きでは
ない。
り除くため、AffNの難焼結性が顕著に現われ、焼結
助剤を添加しても生産性が低く、高価なホットプレスに
よらないと所望の焼結体が得られず、大量生産向きでは
ない。
また、窯業製会誌、第25回窯業基礎討論会、l DO
3,3HO3(昭和62年1月)t’ハARN成形体を
還元雰囲気中、1850〜1950℃で2〜96hr焼
結することにより、高熱伝導AβN焼結体を得る方法を
示しているが、これとて高熱伝導性に優れた焼結体が得
られない。
3,3HO3(昭和62年1月)t’ハARN成形体を
還元雰囲気中、1850〜1950℃で2〜96hr焼
結することにより、高熱伝導AβN焼結体を得る方法を
示しているが、これとて高熱伝導性に優れた焼結体が得
られない。
以上の従来の方法による焼結体では、
■ 熱伝導率が不十分である。
■ ホットプレス等設備コストが高く、生産性の低い炉
でしか焼結できない。
でしか焼結できない。
■ 電気絶縁性がない。
■ 安定した品質が得られない。
といった問題点があった。
従って、このような点を改善するため、新たな高熱伝導
率Aj2N焼結体の製造方法の開発が望まれていた。
率Aj2N焼結体の製造方法の開発が望まれていた。
〔発明が解決しようとする課題1
本発明はかかる問題点のないAβN焼結体の高熱伝導化
方法を提供することを目的とするものである。すなわち
、緻密で熱伝導率および電気抵抗が高く、電気絶縁基板
に代表される材料として好適な性能を有する安価なAJ
2N焼結体の製造方法を提供することにある。
方法を提供することを目的とするものである。すなわち
、緻密で熱伝導率および電気抵抗が高く、電気絶縁基板
に代表される材料として好適な性能を有する安価なAJ
2N焼結体の製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは1以上述べた従来技術の問題点に鑑み、窒
化アルミニウム焼結体の熱伝導率を向上すべく研究を重
ねた結果、本発明に至ったものである。
化アルミニウム焼結体の熱伝導率を向上すべく研究を重
ねた結果、本発明に至ったものである。
本発明者らは窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率は、特
に結晶粒界に残存する生成相の量に依存することに注目
し、AffN焼結体を黒鉛にて挟んで熱処理し、窒化ア
ルミニウム焼結体の粒界に集積していた焼結助剤とAJ
2203との低融点生成物を黒鉛根側にしみ出させて焼
結体より除去することにより、焼結体の熱伝導率の向上
を達成した。また、焼結体の表層に残留した上記低融点
化合物を、焼結体の表層を研削するか、あるいは焼結体
をさらに再加熱することによって除去し、焼結体の絶縁
性を向上させることができる。
に結晶粒界に残存する生成相の量に依存することに注目
し、AffN焼結体を黒鉛にて挟んで熱処理し、窒化ア
ルミニウム焼結体の粒界に集積していた焼結助剤とAJ
2203との低融点生成物を黒鉛根側にしみ出させて焼
結体より除去することにより、焼結体の熱伝導率の向上
を達成した。また、焼結体の表層に残留した上記低融点
化合物を、焼結体の表層を研削するか、あるいは焼結体
をさらに再加熱することによって除去し、焼結体の絶縁
性を向上させることができる。
〔作用]
市販されている窒化アルミニウムの原料粉末には通常1
重量%(重量%を以下単に%と記す) Mii後の酸素
が含まれており、主にAffN粒子表面に酸化物層を形
成している。
重量%(重量%を以下単に%と記す) Mii後の酸素
が含まれており、主にAffN粒子表面に酸化物層を形
成している。
焼結助剤としてY2O3、Ca系化合物などを添加する
とこれらは表面の八β203と反応して低融点化合物を
形成し、Aj2Nの液相焼結を促し、緻密な焼結体を作
る。従って、AβNの焼結には表面の酸化物層は欠かせ
ないものである。しかし、−旦焼結が完了し緻密な焼結
体を得た後には、粒界に残った余剰のAR203と焼結
助剤との化合物はフォノンを散乱させ、熱伝導率の向上
を聞書すると4太られる。
とこれらは表面の八β203と反応して低融点化合物を
形成し、Aj2Nの液相焼結を促し、緻密な焼結体を作
る。従って、AβNの焼結には表面の酸化物層は欠かせ
ないものである。しかし、−旦焼結が完了し緻密な焼結
体を得た後には、粒界に残った余剰のAR203と焼結
助剤との化合物はフォノンを散乱させ、熱伝導率の向上
を聞書すると4太られる。
このため、本発明者らは焼結体のAff203と焼結助
剤との化合物を低減する方法について研究を重ね、Al
2N焼結体を黒鉛板にて挟んで熱処理する本発明に到達
し、上記化合物を黒鉛板側に浸み出させることにより焼
結体より除去し、240W/m、にの高熱伝導率Al2
N焼結体が得られたものである。
剤との化合物を低減する方法について研究を重ね、Al
2N焼結体を黒鉛板にて挟んで熱処理する本発明に到達
し、上記化合物を黒鉛板側に浸み出させることにより焼
結体より除去し、240W/m、にの高熱伝導率Al2
N焼結体が得られたものである。
このメカニズムについては現在調査中であるが、電子顕
微鏡観察によれば、粒界相は殆ど見られなくなり、Aβ
Nの結晶粒径も大きくなるのが認められる。
微鏡観察によれば、粒界相は殆ど見られなくなり、Aβ
Nの結晶粒径も大きくなるのが認められる。
本発明においては、ARN焼結体は真密度に対する見掛
密度の割合(以下単に密度と配す)が90〜100%に
なっていなければならない。なぜならば、それより低い
密度で黒鉛雰囲気にさらすとA[Nの蒸発により、焼結
体の組織に巣ができて緻密な高熱伝導体が得られないか
らである。
密度の割合(以下単に密度と配す)が90〜100%に
なっていなければならない。なぜならば、それより低い
密度で黒鉛雰囲気にさらすとA[Nの蒸発により、焼結
体の組織に巣ができて緻密な高熱伝導体が得られないか
らである。
焼結体を黒鉛にで挟むのは焼結体の広い表面に黒鉛を接
触させて効率よく液相を除去することと、焼結体シート
の反りを防止するためである。
触させて効率よく液相を除去することと、焼結体シート
の反りを防止するためである。
また、黒鉛の灰分を1%以下に限定するのは、1%より
多いとAl2N中に天分中のSiなどの金属元素が固溶
し、熱伝導率を低下させるためである。
多いとAl2N中に天分中のSiなどの金属元素が固溶
し、熱伝導率を低下させるためである。
熱処理は/INの分解を防ぐために不活性ガス雰囲気下
で行い、熱処理温度は1700℃未満では液相生成物を
除去させる効果が少なく、1700°C以上の温度が必
要である。他方、2000℃を超えると、A42Nの分
解反応が起こり、組織が悪くなり、熱伝導率の向上効果
は小さくなるので好ましくない。
で行い、熱処理温度は1700℃未満では液相生成物を
除去させる効果が少なく、1700°C以上の温度が必
要である。他方、2000℃を超えると、A42Nの分
解反応が起こり、組織が悪くなり、熱伝導率の向上効果
は小さくなるので好ましくない。
」二重本発明に従うと、焼結体は熱伝導率240W/m
、に程度の特性を有するものができるが、例えばY2O
3を焼結助剤として添加した場合には、表面層に分解し
易いYNの生成と、Cの拡散層ができるため、このまま
では絶縁耐圧が低く、絶縁体として実用に供し得ない。
、に程度の特性を有するものができるが、例えばY2O
3を焼結助剤として添加した場合には、表面層に分解し
易いYNの生成と、Cの拡散層ができるため、このまま
では絶縁耐圧が低く、絶縁体として実用に供し得ない。
この焼結体絶縁基板等の材料として使用するため、本発
明者らはさらに焼結体の表層を厚さ10〜50μm研削
除去するか、もしくは1700〜2000℃、N2中−
C’A42N容器、A9N−BN容器、BNコーチング
黒鉛容器にて再加熱す゛ることにより、絶縁耐圧の低い
物質を除去する方法を発明するに至った。
明者らはさらに焼結体の表層を厚さ10〜50μm研削
除去するか、もしくは1700〜2000℃、N2中−
C’A42N容器、A9N−BN容器、BNコーチング
黒鉛容器にて再加熱す゛ることにより、絶縁耐圧の低い
物質を除去する方法を発明するに至った。
すなわち、1つの方法は、黒鉛を用いた高純化処理後の
基板の表層を、厚さ10〜50μmにわたって研削除去
する方法である。
基板の表層を、厚さ10〜50μmにわたって研削除去
する方法である。
高純化処理条件により異なるが、Cの拡散層は5〜lO
μm、YNの生成層は3〜5μmであるので、10〜5
0μm研削すれば十分である。
μm、YNの生成層は3〜5μmであるので、10〜5
0μm研削すれば十分である。
他方、高純化処理後の基板をAl2N容器、A42N−
BN容器、BNコーチング黒鉛容器に収納し、1700
〜2000℃、N2中で再加熱することによってもCの
層、YNの層が揮散して絶縁耐圧の回復は達成できる。
BN容器、BNコーチング黒鉛容器に収納し、1700
〜2000℃、N2中で再加熱することによってもCの
層、YNの層が揮散して絶縁耐圧の回復は達成できる。
再加熱温度は1700・℃未満では、効果が少なく、1
700℃以上の温度が必要である。他方、2000℃を
超えると、AffNの分解反応により、組織が悪化する
ので2000℃以下とする。
700℃以上の温度が必要である。他方、2000℃を
超えると、AffNの分解反応により、組織が悪化する
ので2000℃以下とする。
この方法は1表層の研削除去の困難な複雑形状の焼結体
に特に適する。
に特に適する。
〔実施例1
実施例1
平均粒径1μmの、l!N粉末と平均粒径0.8gmの
焼結助剤粉末とをボールミルにて十分混合粉砕した後、
バインダとしてアクリル樹脂を添加し、ドクターブレー
ドによりシートを成形してA[Nのグリーンシートを作
成し、このグリーンシートを65 X 65 m mに
打ち抜き加工し、脱脂した後、Al2N製の坩堝に収納
し、窒素雰囲気中常圧下で3hr焼結した。
焼結助剤粉末とをボールミルにて十分混合粉砕した後、
バインダとしてアクリル樹脂を添加し、ドクターブレー
ドによりシートを成形してA[Nのグリーンシートを作
成し、このグリーンシートを65 X 65 m mに
打ち抜き加工し、脱脂した後、Al2N製の坩堝に収納
し、窒素雰囲気中常圧下で3hr焼結した。
用いた焼結助剤の種類および添加量、焼結温度、作成し
た焼結体の密度および熱伝導率を第1表に示した。
た焼結体の密度および熱伝導率を第1表に示した。
作製した焼結体を、灰分含有ff1o、002%の黒鉛
板にて挟み、窒素雰囲気下で3時間熱処理を行った。
板にて挟み、窒素雰囲気下で3時間熱処理を行った。
熱処理温度および熱処理焼結体の熱伝導率を第1表に示
した。
した。
なお、熱伝導率の測定は、熱処理焼結体の表層を20μ
m研削除去後、レーザフラッシュ法で行った。
m研削除去後、レーザフラッシュ法で行った。
第1表に示すように1本発明に従って製造された焼結体
は全て200W/m、に以上の熱伝導率を示しているが
、これらに対し熱処理温度が請求の範囲から外れる比較
例では、何れも熱伝導率が低く、本発明の方法による高
熱伝導化の効果を認めることができる。
は全て200W/m、に以上の熱伝導率を示しているが
、これらに対し熱処理温度が請求の範囲から外れる比較
例では、何れも熱伝導率が低く、本発明の方法による高
熱伝導化の効果を認めることができる。
実施例2
第1表に(A)にて示した熱処理焼結体(表層研削除去
せず)を用い、その表層を研削除去して絶縁抵抗を測定
した。
せず)を用い、その表層を研削除去して絶縁抵抗を測定
した。
測定結果を第2表に示す。
焼結体の表層を10〜50μm研削除去することにより
、実用上必要な電気絶縁体としての特性が得られること
が認められる。
、実用上必要な電気絶縁体としての特性が得られること
が認められる。
実施例3
第1表に(A)にて示した熱処理焼結体(表層研削除去
せず)を、AJ2N容器、AffN90%−B N I
0%容器、BNコーチング黒鉛容器を用い、大気圧の
窒素雰囲気下で1時間再加熱を行った。使用容器、再加
熱温度、再加熱後の絶縁抵抗、熱伝導率を第3表に示し
た。
せず)を、AJ2N容器、AffN90%−B N I
0%容器、BNコーチング黒鉛容器を用い、大気圧の
窒素雰囲気下で1時間再加熱を行った。使用容器、再加
熱温度、再加熱後の絶縁抵抗、熱伝導率を第3表に示し
た。
本は比較例
絶縁抵抗および熱伝導率が共に高いAβN焼結体が得ら
れる。
れる。
〔発明の効果〕
本発明により200W/m、に以上の熱伝導率を有する
窒化アルミニウム焼結体と、それを基材にする電気絶縁
体が提供でき、パイグリッドIC用基扱、サーデイツプ
用基板、パワートランジスタ、パワーダイオード、レー
ザーダイオード用のヒートシンク等、産業上の応用が可
能である。
窒化アルミニウム焼結体と、それを基材にする電気絶縁
体が提供でき、パイグリッドIC用基扱、サーデイツプ
用基板、パワートランジスタ、パワーダイオード、レー
ザーダイオード用のヒートシンク等、産業上の応用が可
能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 真密度に対する見掛密度の割合が90〜100%の
窒化アルミニウム焼結体を、灰分含有量が1重量%以下
の黒鉛にて挟み、不活性ガス雰囲気下で1700〜20
00℃で熱処理することを特徴とする窒化アルミニウム
焼結体の製造方法。 2 請求項1記載の熱処理の後、焼結体の表層を深さ1
0〜50μm研削除去することを特徴とする窒化アルミ
ニウム焼結体の製造方 法。 3 請求項1記載の熱処理の後、焼結体を窒化アルミニ
ウム容器、窒化アルミニウム−窒化硼素容器、窒化硼素
容器、または窒化硼素でコーチングした黒鉛容器を用い
、窒素雰囲気下で1700〜2000℃で再加熱するこ
とを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194546A JPH0248469A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194546A JPH0248469A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0248469A true JPH0248469A (ja) | 1990-02-19 |
Family
ID=16326333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63194546A Pending JPH0248469A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248469A (ja) |
-
1988
- 1988-08-05 JP JP63194546A patent/JPH0248469A/ja active Pending
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