JPH0248620B2 - Batsuchishikishinkujochakusochojohatsugenshunosochi - Google Patents
BatsuchishikishinkujochakusochojohatsugenshunosochiInfo
- Publication number
- JPH0248620B2 JPH0248620B2 JP16750985A JP16750985A JPH0248620B2 JP H0248620 B2 JPH0248620 B2 JP H0248620B2 JP 16750985 A JP16750985 A JP 16750985A JP 16750985 A JP16750985 A JP 16750985A JP H0248620 B2 JPH0248620 B2 JP H0248620B2
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- evaporation
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 77
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はバツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装
置に関するものである。
置に関するものである。
[従来の技術]
従来、バツチ式真空蒸着装置としては種々の型
式のものが提案されており、例えば、実公昭49−
18121号公報、特公昭43−11370号公報、特公昭58
−3032号公報および特公昭58−17829号公報等に
記載のものを公知例としてあげることができる。
これらの公知の装置はいずれも真空容器から成る
蒸着室内に被処理物と蒸発源とを対向させて配置
し、真空中で物質を加熱して蒸発させ、その蒸気
を被処理物上に凝縮させて薄膜を形成するように
構成されている。
式のものが提案されており、例えば、実公昭49−
18121号公報、特公昭43−11370号公報、特公昭58
−3032号公報および特公昭58−17829号公報等に
記載のものを公知例としてあげることができる。
これらの公知の装置はいずれも真空容器から成る
蒸着室内に被処理物と蒸発源とを対向させて配置
し、真空中で物質を加熱して蒸発させ、その蒸気
を被処理物上に凝縮させて薄膜を形成するように
構成されている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、このようなバツチ式真空蒸着装置に
おいては、蒸着作業が終了すると、蒸着室を大気
に開放して被処理物の入れ換えを行なう必要があ
る。この場合、蒸着作業終了直後に大気を導入す
ると、蒸発源は、急冷されるため損傷することが
ある。このため蒸着作業終了後、蒸発源がある程
度冷却されるまで蒸着室を大気に開放するのを待
つ必要がある。その結果、1バツチ当りに要する
時間が長くなり、生産性が悪い。
おいては、蒸着作業が終了すると、蒸着室を大気
に開放して被処理物の入れ換えを行なう必要があ
る。この場合、蒸着作業終了直後に大気を導入す
ると、蒸発源は、急冷されるため損傷することが
ある。このため蒸着作業終了後、蒸発源がある程
度冷却されるまで蒸着室を大気に開放するのを待
つ必要がある。その結果、1バツチ当りに要する
時間が長くなり、生産性が悪い。
また、蒸着作業終了毎に蒸発源が大気中に晒さ
れるので、酸化等が起こり、消耗が早く、メンテ
ナンス費用が増大する傾向があつた。
れるので、酸化等が起こり、消耗が早く、メンテ
ナンス費用が増大する傾向があつた。
一方、蒸着室と蒸発源室とを別個に設け、これ
らの両室を大口径のバルプで仕切り、蒸発源室を
常に真空状態に保持し、蒸着室のみを大気圧にす
るようにした二室式真空蒸着装置も提案されてい
るが、蒸着室内の被処理物と蒸発源室内の蒸発源
とは対抗させて位置決めしなければならないた
め、装置の構成が自ずと制限を受け、しかも蒸着
室と蒸発源室との間に大口径のバルプを設ける必
要があるので、蒸着室内の被処理物と蒸発源室内
の蒸発源との距離についても制約を受けることに
なる。
らの両室を大口径のバルプで仕切り、蒸発源室を
常に真空状態に保持し、蒸着室のみを大気圧にす
るようにした二室式真空蒸着装置も提案されてい
るが、蒸着室内の被処理物と蒸発源室内の蒸発源
とは対抗させて位置決めしなければならないた
め、装置の構成が自ずと制限を受け、しかも蒸着
室と蒸発源室との間に大口径のバルプを設ける必
要があるので、蒸着室内の被処理物と蒸発源室内
の蒸発源との距離についても制約を受けることに
なる。
そこで、本発明は、上述のような従来技術の問
題点を解決して、1バツチ当りの作業時間を大幅
に短縮でき、しかも蒸発源を毎回大気に晒さずに
作動させることのできるバツチ式真空蒸着装置用
蒸発源収納装置を提供することを目的としてい
る。
題点を解決して、1バツチ当りの作業時間を大幅
に短縮でき、しかも蒸発源を毎回大気に晒さずに
作動させることのできるバツチ式真空蒸着装置用
蒸発源収納装置を提供することを目的としてい
る。
[問題点を解決するための手段]
上記の目的を達成するために、本発明によるバ
ツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置は、内部に
基板と蒸発源とを挿置し、上記蒸発源から蒸発さ
せた蒸着物質蒸気を上記基板上に凝縮させて蒸着
を行なうようにした真空蒸着室と、上記真空蒸着
室に仕切弁を介して連結し、真空を維持できるよ
うにした蒸発源収納室とを有し、上記真空蒸着室
と上記蒸発源収納室との間で上記蒸発源を移動で
きるようにしたことを特徴としている。
ツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置は、内部に
基板と蒸発源とを挿置し、上記蒸発源から蒸発さ
せた蒸着物質蒸気を上記基板上に凝縮させて蒸着
を行なうようにした真空蒸着室と、上記真空蒸着
室に仕切弁を介して連結し、真空を維持できるよ
うにした蒸発源収納室とを有し、上記真空蒸着室
と上記蒸発源収納室との間で上記蒸発源を移動で
きるようにしたことを特徴としている。
[作用]
本発明によるバツチ式真空蒸着装置用蒸発源収
納装置においては、真空蒸着室に仕切弁を介して
連結して別個に蒸発源収納室が設けられ、蒸着処
理中蒸発源は蒸発源収納室から真空蒸着室内の被
処理物に対向する位置に搬入され、蒸着処理終了
後の被処理物の取出し時には再び蒸発源収納室内
に収納される。これにより、蒸発源を大気に晒す
ことなしに全工程を行なうことができる。
納装置においては、真空蒸着室に仕切弁を介して
連結して別個に蒸発源収納室が設けられ、蒸着処
理中蒸発源は蒸発源収納室から真空蒸着室内の被
処理物に対向する位置に搬入され、蒸着処理終了
後の被処理物の取出し時には再び蒸発源収納室内
に収納される。これにより、蒸発源を大気に晒す
ことなしに全工程を行なうことができる。
[実施例]
以下、添附図面を参照して本発明の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
第1図には本発明の一実施例によるバツチ式真
空蒸着装置用蒸発源収納装置の要部を概略的に示
し、1は蒸発源収納室で、その内側に断熱材1a
が施されており、従つて保温室を構成している。
この蒸発源収納室1は仕切バルブ2を介して真空
蒸着室3に連結されている。蒸発源収納室1内に
は蒸発源4を搬送するための搬送ローラ5が一平
面上に配列されており、各搬送ローラ5は、第2
図に示すように、外部の駆動系6(図面にはその
うちの一つだけを示す)を介して駆動制御され得
る。図面には示してないが、真空蒸着室3内にも
搬送ローラ5と同様な搬送ローラが上記搬送ロー
ラ5の平面と実質的に同一の平面上に同じ向きで
配列される。蒸発源収納室1内の上部には二つの
ヒータ7が長手方向に沿つて設けられ、電極端子
8を介して外部電源(図示してない)に接続さ
れ、また各ヒータ7と組み合わせて蒸発源収納室
1の上壁には温度制御用の熱電対9(一方のみを
第1図に示す)が設けられている。これらのヒー
タ7および熱電対9の作用により、蒸発源4の温
度は一定温度に維持され得る。一方、蒸発源収納
室1内の下部にはキヤリアガス導入管10が配設
されており、このキヤリアガス導入管10は外部
の図示してない適当なキヤリアガス供給源に連結
され、不活性ガスを蒸発源収納室1内に供給して
蒸発源4内の蒸発物質の蒸発を抑えると共に蒸発
源4を周囲からの汚染から保護する。また蒸発源
収納室1は、その上部に設けた排気口11を介し
て排気系に連結され、常に所定の真空レベルに維
持され得る。
空蒸着装置用蒸発源収納装置の要部を概略的に示
し、1は蒸発源収納室で、その内側に断熱材1a
が施されており、従つて保温室を構成している。
この蒸発源収納室1は仕切バルブ2を介して真空
蒸着室3に連結されている。蒸発源収納室1内に
は蒸発源4を搬送するための搬送ローラ5が一平
面上に配列されており、各搬送ローラ5は、第2
図に示すように、外部の駆動系6(図面にはその
うちの一つだけを示す)を介して駆動制御され得
る。図面には示してないが、真空蒸着室3内にも
搬送ローラ5と同様な搬送ローラが上記搬送ロー
ラ5の平面と実質的に同一の平面上に同じ向きで
配列される。蒸発源収納室1内の上部には二つの
ヒータ7が長手方向に沿つて設けられ、電極端子
8を介して外部電源(図示してない)に接続さ
れ、また各ヒータ7と組み合わせて蒸発源収納室
1の上壁には温度制御用の熱電対9(一方のみを
第1図に示す)が設けられている。これらのヒー
タ7および熱電対9の作用により、蒸発源4の温
度は一定温度に維持され得る。一方、蒸発源収納
室1内の下部にはキヤリアガス導入管10が配設
されており、このキヤリアガス導入管10は外部
の図示してない適当なキヤリアガス供給源に連結
され、不活性ガスを蒸発源収納室1内に供給して
蒸発源4内の蒸発物質の蒸発を抑えると共に蒸発
源4を周囲からの汚染から保護する。また蒸発源
収納室1は、その上部に設けた排気口11を介し
て排気系に連結され、常に所定の真空レベルに維
持され得る。
このように構成した図示装置の動作において
は、真空蒸着室3内において被処理物(図示して
ない)に対する所要の蒸着作業が終了すると、ま
ず、真空蒸着室3と蒸発源収納室1との間の仕切
バルブ2を開き、蒸発源収納室1および真空蒸着
室3内の搬送ローラ5を外部の駆動系6により駆
動して真空蒸着室3内に位置している蒸発源4を
高温真空状態に保たれた蒸発源収納室1へ搬出す
る。しかる後、仕切バルブ2を閉じ、真空蒸着室
3を大気に開放して真空蒸着室3内の蒸着処理の
終つた被処理物を取り出す。その後、処理すべき
別の被処理物を真空蒸着室3内に装着し、再び真
空蒸着室3内を排気する。排気終了後、仕切バル
ブ2を開き、搬送ローラ5を逆方向に駆動して高
温状態に保たれている蒸発源4を真空蒸着室3内
に搬入し、仕切バルブ2を閉じて蒸着作業を再開
する。このような動作を繰返すことによつて一連
の蒸着作業を行なうことができる。
は、真空蒸着室3内において被処理物(図示して
ない)に対する所要の蒸着作業が終了すると、ま
ず、真空蒸着室3と蒸発源収納室1との間の仕切
バルブ2を開き、蒸発源収納室1および真空蒸着
室3内の搬送ローラ5を外部の駆動系6により駆
動して真空蒸着室3内に位置している蒸発源4を
高温真空状態に保たれた蒸発源収納室1へ搬出す
る。しかる後、仕切バルブ2を閉じ、真空蒸着室
3を大気に開放して真空蒸着室3内の蒸着処理の
終つた被処理物を取り出す。その後、処理すべき
別の被処理物を真空蒸着室3内に装着し、再び真
空蒸着室3内を排気する。排気終了後、仕切バル
ブ2を開き、搬送ローラ5を逆方向に駆動して高
温状態に保たれている蒸発源4を真空蒸着室3内
に搬入し、仕切バルブ2を閉じて蒸着作業を再開
する。このような動作を繰返すことによつて一連
の蒸着作業を行なうことができる。
なお、図示実施例では、キヤリアガス導入管1
0は蒸発源収納室1の下部に配設されているが、
代りに蒸発源収納室1の上部または左右両側部に
設けてもよく、ヒータ7についてもその数および
位置を適宜変更することができる。また、搬送ロ
ーラの代りに他の適当な搬送機構、例えばベルト
式やチエーン式等の搬送手段を使用してもよい。
また図示実施例では、一つの蒸発源が使用されて
いるが、当然処理目的に応じて複数個の蒸発源を
用いてもよく、また蒸発源の型式についても種々
の型式のものに対して同様に適用できる。さらに
各部の動作は、自動的に制御しても手動で制御し
てもよい。
0は蒸発源収納室1の下部に配設されているが、
代りに蒸発源収納室1の上部または左右両側部に
設けてもよく、ヒータ7についてもその数および
位置を適宜変更することができる。また、搬送ロ
ーラの代りに他の適当な搬送機構、例えばベルト
式やチエーン式等の搬送手段を使用してもよい。
また図示実施例では、一つの蒸発源が使用されて
いるが、当然処理目的に応じて複数個の蒸発源を
用いてもよく、また蒸発源の型式についても種々
の型式のものに対して同様に適用できる。さらに
各部の動作は、自動的に制御しても手動で制御し
てもよい。
[発明の効果]
以上、説明してきたように、本発明によれば、
内部に基板と蒸発源を挿置し、上記蒸発源から蒸
発させた蒸着物質蒸気を上記基板上に凝縮させて
蒸着を行なうようにした真空蒸着室と、上記真空
蒸着室に仕切弁を介して連結し、真空を維持でき
るようにした蒸発源収納室とを有し、上記真空蒸
着室と上記蒸発源収納室との間で上記蒸発源を移
動できるように構成しているので、蒸着終了後従
来行なわれていた蒸発源の冷却を省くことがで
き、1バツチ当りの作業時間が短かくなり、その
分生産性を向上させることができる。また、蒸発
源が蒸着終了毎に大気に晒されないので、常に安
定した品質で蒸着を行なうことができる。
内部に基板と蒸発源を挿置し、上記蒸発源から蒸
発させた蒸着物質蒸気を上記基板上に凝縮させて
蒸着を行なうようにした真空蒸着室と、上記真空
蒸着室に仕切弁を介して連結し、真空を維持でき
るようにした蒸発源収納室とを有し、上記真空蒸
着室と上記蒸発源収納室との間で上記蒸発源を移
動できるように構成しているので、蒸着終了後従
来行なわれていた蒸発源の冷却を省くことがで
き、1バツチ当りの作業時間が短かくなり、その
分生産性を向上させることができる。また、蒸発
源が蒸着終了毎に大気に晒されないので、常に安
定した品質で蒸着を行なうことができる。
第1図は本発明の一実施例を示す概略断面図、
第2図は第1図の装置の横断面図である。 図中、1:蒸発源収納室、1a:断熱材、2:
仕切バルブ、3:真空蒸着室、4:蒸発源、5:
搬送ローラ。
第2図は第1図の装置の横断面図である。 図中、1:蒸発源収納室、1a:断熱材、2:
仕切バルブ、3:真空蒸着室、4:蒸発源、5:
搬送ローラ。
Claims (1)
- 1 内部に基板と蒸発源とを挿置し、上記蒸発源
から蒸発させた蒸着物質蒸気を上記基板上に凝縮
させて蒸着を行なうようにした真空蒸着室と、上
記真空蒸着室に仕切弁を介して連結し、真空を維
持できるようにした蒸発源収納室とを有し、上記
真空蒸着室と上記蒸発源収納室との間で上記蒸発
源を移動できるようにしたことを特徴とするバツ
チ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16750985A JPH0248620B2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Batsuchishikishinkujochakusochojohatsugenshunosochi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16750985A JPH0248620B2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Batsuchishikishinkujochakusochojohatsugenshunosochi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230873A JPS6230873A (ja) | 1987-02-09 |
| JPH0248620B2 true JPH0248620B2 (ja) | 1990-10-25 |
Family
ID=15850997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16750985A Expired - Lifetime JPH0248620B2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Batsuchishikishinkujochakusochojohatsugenshunosochi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248620B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0266161A (ja) * | 1987-12-04 | 1990-03-06 | Res Dev Corp Of Japan | 真空蒸着装置 |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP16750985A patent/JPH0248620B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6230873A (ja) | 1987-02-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |