JPH0249128U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0249128U JPH0249128U JP12774988U JP12774988U JPH0249128U JP H0249128 U JPH0249128 U JP H0249128U JP 12774988 U JP12774988 U JP 12774988U JP 12774988 U JP12774988 U JP 12774988U JP H0249128 U JPH0249128 U JP H0249128U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- piping
- cvd apparatus
- checked
- outer peripheral
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第１図は、この考案の一実施例を示すＣＶＤ装
置の要部概略図である。第２図は、従来のＣＶＤ
装置を説明するための概念図である。 １ａ……ボツクス、１ｂ……小ボツクス（ＣＶ
Ｄ成長域）、２……回転棒、３ａ，３ｂ，３ｃ…
…保持棒、４ａ，４ｃ……ウエーハ保持ピンセツ
ト、５ａ，５ｂ，５ｃ……ウエーハ、６ａ，６ｂ
……ウエーハ出入口、７ａ，７ｂ……ガス配管、
８……ガス排出口、９ａ，９ｂ……ウエーハ置き
台。
置の要部概略図である。第２図は、従来のＣＶＤ
装置を説明するための概念図である。 １ａ……ボツクス、１ｂ……小ボツクス（ＣＶ
Ｄ成長域）、２……回転棒、３ａ，３ｂ，３ｃ…
…保持棒、４ａ，４ｃ……ウエーハ保持ピンセツ
ト、５ａ，５ｂ，５ｃ……ウエーハ、６ａ，６ｂ
……ウエーハ出入口、７ａ，７ｂ……ガス配管、
８……ガス排出口、９ａ，９ｂ……ウエーハ置き
台。
Claims (1)
- 半導体ウエーハの外周端を、回転中心に設けた
回転棒に取付けられた保持棒にてチヤツクし、ウ
エーハ両面へ反応ガスを導く配管を設けたことを
特徴とするＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12774988U JPH0249128U (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12774988U JPH0249128U (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249128U true JPH0249128U (ja) | 1990-04-05 |
Family
ID=31380457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12774988U Pending JPH0249128U (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0249128U (ja) |
-
1988
- 1988-09-29 JP JP12774988U patent/JPH0249128U/ja active Pending