JPH0249427A - 微細なゴミの除去装置 - Google Patents

微細なゴミの除去装置

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Publication number
JPH0249427A
JPH0249427A JP63198929A JP19892988A JPH0249427A JP H0249427 A JPH0249427 A JP H0249427A JP 63198929 A JP63198929 A JP 63198929A JP 19892988 A JP19892988 A JP 19892988A JP H0249427 A JPH0249427 A JP H0249427A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
dust
air nozzle
fine dust
air
Prior art date
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Pending
Application number
JP63198929A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Mori
秀樹 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0249427A publication Critical patent/JPH0249427A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は基板などの平板状の対象物、特に上はやガラス
基板等のゴミの付着による欠陥を生じやすい対象物の表
面に付着する微細なゴミの除去装置に関する。
(従来の技術) 従来、の基板などの対象物に付着したゴミの除去は対象
物表面に極微細なパターンなどを形成しているため、直
接表面に接触する除去方法を用いることができなかった
。そこで清浄な気体や液体によるゴミの除去を行ってい
た。例えば、ガラス基板上のゴミの除去を例に上げると
、第4図に示したようにエアーノズルにより清浄な気体
を基板表面に吹き付けることによりゴミの除去を行って
いた。また、液体による洗浄は清浄な液体に基板を浸し
、超音波などを用いて洗浄を行っていた。
(発明が解決しようとする課題) 上述のようなゴミの除去方法であると、非常に微細なゴ
ミに対しては余り効果がないものであった。例えばエア
ーブローによるゴミの除去では6μm以下のゴミはにく
く、2μm以上のゴミを700個付着きせた基板に、基
板より50 am離してエアーブローを30秒行った後
でゴミの数を計測した結果、半数以上の約400個のゴ
ミが依然基板上に付着していた。実際の生産ラインで行
われる場合のエアープロー時間は基板1枚に対して5〜
10秒程度であるので、実際は微細なゴミに関してはほ
とんどゴミは除去されてない状態である。これはエアー
ブローのみであると、−旦除去されたゴミが舞い上がり
、再び対象物に付着したりするためであると考えられる
。また、液体による洗浄も気体によるゴミの除去と同程
度の効果しかなく、液体で洗浄を行った場合には気体の
ゴミの除去と比べて、洗浄後に乾燥させなくてはいけな
いという別の工程が必要となっている。このため基板の
生産効率が劣り、歩留まりが低下する原因になると言う
不具合が生じていた。
本発明は上述のような従来技術の課題を解決し、特に2
μm以下の微細なゴミを対象物より精度よく除去可能な
ゴミの除去装置を提供する。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 基板などの平板状の対象物に付着した微細なゴミを除去
する装置において、対象物を保持する保持機構と、この
保持機構によって保持された対象物表面に対して所定の
間隔で対向配置される対向板と、この対向板方向から対
象物表面に対して所定の角度を有するエアーノズルと、
このエアーノズルに清浄な気体を所定圧力で供給するエ
アーポンプ機構と、対向板と対象物を相対的に駆動する
駆動機構とを具備する微細なゴミの除去装置を構成する
(作用) 上述のように微細なゴミの除去装置を構成すると、通常
のエアーブローに加え対象物に対向して所定の間隔で保
持された対向板に所定の角度をもって清浄な気体を流す
ことで、気体の流れを一定の方向に作り出し微細なゴミ
が再付着することを防ぐことができる。また、対向板を
設けたことで、エアーノズルより噴出した気体の対象物
上での噴出力の低下を防ぐこととなり、効率よく微細な
ゴミを除去できる。
(実施例) 以下に本発明の一実施例を図面を用いて説明する。
第1図は本実施例の構成を示した断面図である。
ゴミの除去を行う対象物である基板(10)を保持した
基板載置台(1)が設けられ、この基板載置台(1)に
対向して基板載置台(1)との間隔を自由に設定可能な
ように設けられた対向板(2)がある。
この対向板(2)には上下方向に駆動する昇降機構(3
)と、さらに基板載置台(1)の基板載rIt部(1a
)上を左右に移動可能な駆動機構(4)が設けられてい
る。また、対向板(2)はその基板対向面(2a)の中
央部に駆動機構(4)の移動方向と直行する方向に基板
(10)の幅と同じ大きさのスリット状のエアーノズル
(5)が基板対向面(2a)に対して456の角度で設
けられている。このエアーノズル(5)は図示しないエ
アーチューブを介してコンプレッサに接続されている。
さらに、対向板の隅には距離センサ(6)が配置され、
基板載置台(1)に載置された基板(■0)との距離を
検出するようになっており、この距離センサ(8)は制
御部(7)に接続されている。また、制御部(7)は昇
降機構(3)、駆動機構(4)及びコンプレッサを制御
可能なように接続されているものである。
以下の上述の実施例の装置の作用を第1図乃至第2図を
用いて説明する。
まず、基板載置台(1)に基板(10)が載置し、装置
を駆動させると、対向板(2)の昇降機構(3)が駆動
し、対向板(2)が基板(10)上に降下してくる。
降下してきた対向板(2)は、距離センサ(8)により
基板との距離が常に検出されており、基板(10)と対
向板(2)の間隔が50μmになると、制御部(7)が
昇降機構(3)を静止させる。こうして基板(10)と
対向板(2)が50μmの間隔で静止すると、続いて駆
動機構(4)がエアーノズル(5)を基板(10)の端
部まで移動させ、コンプレッサが作動させる。こうして
コンプレッサよりエアーチューブを介して送られてきた
清浄な気体はエアーノズル(5)により約4 kg /
 c−の噴出力になって基板(10)に噴出される(第
2図)。噴出された気体は基板(10)上のゴミを吹き
飛ばしながら、基板(10)と対向板(2)との間を抜
けていく。こうしてゴミを吹き飛ばしながら駆動機構(
4)は徐々に基板(10)のもう一方の端部に向かって
移動して行くことで、基板(10)全面のゴミを除去し
ていく。基板(10)のもう一方の端部に移動し終わる
と、ゴミの除去が終了するわけである。
このようにエアーノズルを順次基板上に送り、エアーブ
ローによりゴミを除去するだけでは瞬間的なゴミの除去
だったのに対して、対向板を所定の間隔で対向配置する
ことで気体が基板に当る部位だけでなく、基板と対向板
とに挾まれた面のゴミも除去でき、一箇所の部位に対す
るエアーブローの時間を長くとることができる。また、
対向板がエアーブローによって除去されたゴミが再付着
することを防止できるものである。
また、エアーノズルの形状、角度、対向板の間隔は本実
施例の数値に限定されるものではない。
例えば、第3図のようにエアーノズルの形状を複数のノ
ズルを断続的に設けたものにしてもよく、エアーノズル
の角度も装置の実施対応により自由に設定できるもので
ある。また、基板と対向板との間隔もゴミの性質、形状
、大きさにより自由に変更してもよい。但し、微細なゴ
ミの除去という点では10〜100μm程度の間隔が理
想的である。
[発明の効果] 上述のように本発明の装置を用いると、従来のゴミの除
去方法では困難であった微細なゴミの除去を除去時間を
伸ばすことなく可能とした。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の構成を示す断面図、第2図
は同じく本発明の詳細な説明するための説明図、第3図
は本発明のエアーノズルの形状の他の実施例を示す状態
図、第4図は従来のゴミの除去方法を説明するための説
明図である。 1・・・ 基板載置台、   2・・・ 対向板、3・
・・ 昇降機構、    4・・・ 駆動機構、5・・
・ エアーノズル、  6・・・ 距離センサ、7・・
・ 制御部、    10・・・ 基板!屡碩載!台 第1因 5エアーノスνし \ エアーメス1ル 第Z因 第+図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板などの平板状の対象物に付着した微細なゴミを除去
    する装置において、上記対象物を保持する保持機構と、
    この保持機構によって保持された対象物表面に対して所
    定の間隔で対向配置される対向板と、この対向板方向か
    ら対象物表面に対して所定の角度を有するエアーノズル
    と、このエアーノズルに清浄な気体を所定圧力で供給す
    るエアーポンプ機構と、上記対向板と対象物を相対的に
    駆動する駆動機構とを具備することを特徴とする微細な
    ゴミの除去装置。
JP63198929A 1988-08-11 1988-08-11 微細なゴミの除去装置 Pending JPH0249427A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06102190A (ja) * 1992-09-21 1994-04-15 Sony Corp 微細粒子検出方法及び微細粒子除去方法
JP2014022558A (ja) * 2012-07-18 2014-02-03 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置および基板処理方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0453508A (ja) * 1990-06-21 1992-02-21 Tiger Vacuum Bottle Co Ltd 加熱調理器
JPH0588420B2 (ja) * 1985-11-08 1993-12-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd

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