JPH0249717Y2 - - Google Patents
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- JPH0249717Y2 JPH0249717Y2 JP2700488U JP2700488U JPH0249717Y2 JP H0249717 Y2 JPH0249717 Y2 JP H0249717Y2 JP 2700488 U JP2700488 U JP 2700488U JP 2700488 U JP2700488 U JP 2700488U JP H0249717 Y2 JPH0249717 Y2 JP H0249717Y2
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- wafers
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Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は半導体ウエーハ立替装置に関し、詳し
くは半導体装置の製造に使用され、複数の半導体
ウエーハをキヤリアとボート間で一括して移し替
える装置に関するものである。[Detailed description of the invention] Industrial field of application The present invention relates to a semiconductor wafer transfer device, and more specifically, to a device that is used in the manufacture of semiconductor devices and transfers multiple semiconductor wafers at once between a carrier and a boat. be.
従来の技術
半導体装置の製造は、多数の半導体素子を形成
した半導体ウエーハ〔以下単にウエーハと称す〕
を種々の処理工程にて加工処理することにより行
われる。この各種処理工程のうち、例えばCVD
法による酸化膜処理工程では、上記ウエーハの片
面のみを処理するため、第20図に示すように複
数のウエーハ1,1……を二枚ずつその裏面同士
を密着させて植立させた状態でウエーハ専用保持
治具〔後述のボート〕上に定ピツチで若干傾倒さ
せて整列保持するBack to Back方式が採用され
ている。このBack to Back方式による酸化膜処
理工程及びその前後工程では、二つのウエーハ専
用保持治具を用いている。即ち、複数のウエーハ
1,1……を一枚ずつその表面を同一方向に向け
て定ピツチでウエーハ収納溝2,2……に整列収
納する第21図に示すような枠状のテフロン製キ
ヤリア3と、複数のウエーハ1,1……を二枚ず
つその裏面同士を密着させて植立させた状態でウ
エーハ保持溝4,4……に若干傾倒させて定ピツ
チで整列保持する第22図に示すような台状の石
英ガラス製ボート5との間で、上記ウエーハ1,
1……を一括して移し替える必要がある。2. Description of the Related Art Semiconductor devices are manufactured using semiconductor wafers (hereinafter simply referred to as wafers) on which a large number of semiconductor elements are formed.
This is done by processing in various processing steps. Among these various processing steps, for example, CVD
In the oxide film treatment process using the method, only one side of the wafer is treated, so as shown in Fig. 20, a plurality of wafers 1, 1, . A back-to-back method is adopted in which the wafers are aligned and held at a fixed pitch slightly tilted on a wafer-specific holding jig (a boat described later). Two wafer-dedicated holding jigs are used in this back-to-back oxide film treatment step and its preceding and following steps. That is, a frame-shaped Teflon carrier as shown in FIG. 21 is used to store a plurality of wafers 1, 1, . . . one by one in the wafer storage grooves 2, 2, . 3, and a plurality of wafers 1, 1..., two by two, are planted with their back surfaces in close contact with each other, and are slightly tilted into the wafer holding grooves 4, 4... to hold them aligned at a constant pitch. The wafer 1,
It is necessary to transfer 1... all at once.
上記キヤリア3とボート5とのBack to Back
方式によるウエーハ移し替えは、第23図に示す
ようにキヤリア3或いはボート5を位置決め載置
したキヤリアベース6或いはボートベース7間
に、ホルダー8を配置し、このガイド溝8にて上
記キヤリア3或いはボート5から移送されたウエ
ーハ1,1……をその整列状態を変更させて密着
或いは分離し、その後、空のボート5或いはキヤ
リア3へローデイング或いはアンローデイングす
る。このウエーハ1,1……のローデイング或い
はアンローデイング時には、キヤリアベース6及
びボートベース7の下方に昇降動自在に配設さ
れ、その上面にウエーハ受け溝9……10……を
刻設したプツシヤ11,12によりキヤリア3或
いはボート5とホルダー8間でウエーハ1,1…
…を移送する。特に、第24図に示すようにボー
ト5上のウエーハ1,1……は上記ボート5に対
して若干傾倒させた状態で保持されているので、
ウエーハ1,1……の起立方向とプツシヤ12の
昇降方向とを揃えるため、ボートベース7をウエ
ーハ傾倒方向とは逆方向へ傾斜させて配置し、プ
ツシヤ12に対してボート5上のウエーハ1,1
……を垂直状態に保持する。これによりウエーハ
ローデイング或いはアンローデイング時、プツシ
ヤ12の昇降動によるボート5でのウエーハ1,
1……の受け渡しを容易にしている。 Back to Back between the above carrier 3 and boat 5
To transfer wafers using this method, as shown in FIG. The wafers 1, 1, . . . transferred from the boat 5 are brought into close contact or separated by changing their alignment, and then loaded or unloaded onto an empty boat 5 or carrier 3. When loading or unloading the wafers 1, 1..., a pusher 11 is disposed under the carrier base 6 and the boat base 7 so as to be movable up and down, and has wafer receiving grooves 9...10... cut into its upper surface. , 12 between the carrier 3 or boat 5 and the holder 8.
... to be transferred. In particular, as shown in FIG. 24, the wafers 1, 1, . . . on the boat 5 are held in a slightly tilted state with respect to the boat 5.
In order to align the rising direction of the wafers 1, 1... with the lifting direction of the pusher 12, the boat base 7 is arranged to be inclined in the opposite direction to the wafer tilting direction, and the wafers 1, 1 on the boat 5 are arranged with respect to the pusher 12. 1
... to be held vertically. As a result, during wafer loading or unloading, the wafers 1 and 1 on the boat 5 are moved up and down by the pusher 12.
1. It facilitates the delivery of...
考案が解決しようとする問題点
ところで、上述した処理工程で使用されるボー
ト5は、石英ガラス製であるため、ウエーハ1,
1……の処理後に行われる薬液処理中に上記ボー
ト5が薬液によりエツチングされ、その結果ウエ
ーハ保持溝4,4……の溝幅が大きくなつてしま
う。Problems to be solved by the invention By the way, since the boat 5 used in the above-mentioned processing process is made of quartz glass, the wafers 1,
The boat 5 is etched by the chemical liquid during the chemical liquid treatment performed after the process 1..., and as a result, the width of the wafer holding grooves 4, 4... increases.
このようにボート5のウエーハ保持溝4,4…
…の溝幅が大きくなつてくると、まず、ウエーハ
ローデイング時、二枚ずつその裏面同士を密着さ
せたウエーハ1,1……をホルダー8から空のボ
ート5上に移し替える際に、プツシヤ12のウエ
ーハ受け溝10,10……で垂直保持されたウエ
ーハ1,1……が、上記プツシヤ12の下降動に
よりボート5のウエーハ保持溝4,4……に嵌ま
り込んだと同時に大きく傾倒してしまい、ウエー
ハ1,1……の下端縁がウエーハ保持溝4,4…
…内で擦れて上記ウエーハ1,1……が欠けて異
物が発生するという問題があつた。 In this way, the wafer holding grooves 4, 4... of the boat 5...
As the width of the groove becomes larger, first, during wafer loading, when transferring two wafers 1, 1... with their back sides in close contact with each other from the holder 8 onto the empty boat 5, the pusher The wafers 1, 1... held vertically by the 12 wafer receiving grooves 10, 10... are fitted into the wafer holding grooves 4, 4... of the boat 5 due to the downward movement of the pusher 12, and at the same time are tilted significantly. As a result, the lower edge of the wafers 1, 1... is stuck in the wafer holding grooves 4, 4...
There was a problem in that the wafers 1, 1, etc. were scratched due to friction within the wafers, and foreign matter was generated.
また、ウエーハアンローデイング時、ウエーハ
1,1……をボート5からホルダー8に移し替え
る際に、ボート5のウエーハ保持溝4,4……に
植立保持させたウエーハ1,1……をプツシヤ1
2の上昇動によりそのウエーハ受け溝10,10
……にて垂直保持しようとしても、上記ウエーハ
保持溝4,4……でウエーハ1,1……が大きく
傾倒してしまつているのでボート5からプツシヤ
12へのウエーハ移し替えが困難であつた。 Also, during wafer unloading, when transferring the wafers 1, 1... from the boat 5 to the holder 8, the wafers 1, 1... held planted in the wafer holding grooves 4, 4... of the boat 5 are pushed. 1
2, the wafer receiving grooves 10, 10
Even if an attempt was made to hold the wafers vertically in the wafer holding grooves 4, 4..., the wafers 1, 1... were tilted significantly in the wafer holding grooves 4, 4..., so it was difficult to transfer the wafers from the boat 5 to the pusher 12. .
そこで本考案の目的は、ボートでのウエーハ保
持状態が経時的に変化しても、上記ボート上のウ
エーハを姿勢修正した上でウエーハの出し入れを
可能にした半導体ウエーハ立替装置を提供するこ
とにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor wafer stand-up device that allows loading and unloading of wafers after correcting the posture of the wafers on the boat even if the state of holding the wafers on the boat changes over time. .
問題点を解決するための手段
本考案は前記問題点に鑑みて提案されたもの
で、複数のウエーハを一枚ずつ定ピツチで整列収
納し、キヤリアベース上に位置決め載置したキヤ
リアと、ウエーハを二枚ずつその裏面同士を密着
させて定ピツチで整列保持し、ボートベース上に
位置決め載置したボートとの間で、ウエーハをそ
の整列状態を変更させて移し替える装置であつ
て、上記ボートベースは、ボート側方でウエーハ
整列方向に沿つて平行移動可能に、且つ、ウエー
ハ整列方向と直交する方向に沿つて各ウエーハ間
で突出退入可能に定ピツチで配設され、各ウエー
ハ下部を支持して傾倒或いは起立させる複数のピ
ンと、任意の二つのピン間にこのピンに追従して
平行移動可能に配設され、その平行移動でウエー
ハの有無を検出する第1センサと、ボート側方で
ボート上でのウエーハ起立位置に固定配置され、
ピンによるウエーハ起立動作でウエーハの有無を
検出する第2センサと、ボート側方でウエーハ整
列方向に沿う所定位置に固定配置され、ピンの原
点位置及び突出退入位置を検出する第3及び第4
センサとを具備したことにより前記目的を達成し
た半導体ウエーハ立替装置である。Means for Solving the Problems The present invention was proposed in view of the above problems, and consists of a carrier that stores a plurality of wafers one by one at a fixed pitch, positions and places them on a carrier base, and the wafers. A device that holds two wafers aligned at a fixed pitch with their back sides in close contact with each other, and changes the alignment state of the wafers and transfers the wafers between the boat and the boat, which are positioned and placed on a boat base. are arranged at a fixed pitch on the side of the boat so that they can move in parallel along the wafer alignment direction, and can protrude and retract between each wafer in a direction perpendicular to the wafer alignment direction, and support the lower part of each wafer. a plurality of pins that are tilted or erected; a first sensor that is disposed between any two pins so as to be able to move in parallel following the pins, and that detects the presence or absence of a wafer by the parallel movement; The wafer is fixedly placed in a standing position on the boat.
A second sensor detects the presence or absence of a wafer by the wafer raising operation by the pin, and third and fourth sensors are fixedly arranged at predetermined positions along the wafer alignment direction on the side of the boat and detect the origin position and protrusion/retraction position of the pin.
This is a semiconductor wafer reloading device that achieves the above object by being equipped with a sensor.
作 用
本考案によれば、ボートへのウエーハローデイ
ング時、第3、第4センサによる検出信号に基づ
いてピンをその突出退入位置まで平行移動させて
突出させ、ボートへローデイングされてきたウエ
ーハを上記ボートで保持すると共にピンにもたせ
掛けて支持する。この状態で上記ピンを平行移動
させて第1センサの検出信号に基づいて停止さ
せ、その後ピンを退入させて原点位置に復帰する
ようにすれば、ローデイングされたウエーハは、
ピンの平行移動で誘導されながらボート上に保持
される。またボートからのウエーハアンローデイ
ング時、第1センサの検出信号に基づいてピンを
突出退入位置まで平行移動させて突出させ、第2
センサの検出信号に基づいてボート上のウエーハ
が起立状態となるまでピンでウエーハを支持しな
がら上記ピンを平行移動させ、その後ボート上の
起立状態にあるウエーハをアンローデイングす
る。このようにウエーハローデイング及びアンロ
ーデイング時にウエーハを姿勢修正した上でウエ
ーハの出し入れを行うことができ、ボートの経時
的変化に左右されることはない。Effect: According to the present invention, when loading wafers onto a boat, the pins are moved in parallel to their protrusion/retraction positions and protruded based on the detection signals from the third and fourth sensors, and the wafers loaded onto the boat are is held by the boat and supported by leaning on the pin. In this state, if the pin is moved in parallel and stopped based on the detection signal of the first sensor, and then moved back and forth to return to the original position, the loaded wafer will be
It is held on the boat while being guided by the parallel movement of the pin. Also, when unloading a wafer from a boat, the pin is moved in parallel to the protrusion/retraction position based on the detection signal of the first sensor, and the pin is protruded from the second sensor.
Based on the detection signal of the sensor, the pins are moved in parallel while supporting the wafers on the boat until the wafers on the boat are in an upright state, and then the wafers in an upright state on the boat are unloaded. In this manner, wafers can be loaded and unloaded after correcting their posture during wafer loading and unloading, and are not affected by changes in the boat over time.
実施例
本考案に係る半導体ウエーハ立替装置の一実施
例を第1図乃至第19図を参照しながら説明す
る。尚、第1図乃至第3図は上記半導体ウエーハ
立替装置のボート部構成を、第4図乃至第7図は
半導体ウエーハ立替装置の全体構成を、第8図乃
至第19図はボートでのウエーハローデイング及
びアンローデイング時の動作状態を示す。Embodiment An embodiment of the semiconductor wafer reloading apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 19. In addition, FIGS. 1 to 3 show the structure of the boat part of the semiconductor wafer transfer apparatus, FIGS. 4 to 7 show the overall structure of the semiconductor wafer transfer apparatus, and FIGS. 8 to 19 show the structure of the boat part of the semiconductor wafer transfer apparatus. The operating status during harrowing and unloading is shown.
第4図乃至第7図に示す半導体ウエーハ立替装
置15は、複数のウエーハ1,1……を一枚ずつ
定ピツチでその表面を同一方向に向けてウエーハ
収納溝2,2……に整列収納する枠状のテフロン
製キヤリア3〔第21図参照〕が位置決め載置さ
れた水平動自在なキヤリアベース16を有するキ
ヤリア部17と、複数のウエーハ1,1……を二
枚ずつその裏面同士を密着させて植立させた状態
でウエーハ保持溝4,4……に若干傾倒させて定
ピツチで整列保持する台状の石英ガラス製ボート
5〔第22図参照〕が位置決め載置された水平動
自在なボートベース18を有し、上記キヤリア部
17に並設されたボート部19と、上記キヤリア
部17とボート部19の中間ポジシヨンP0上方
に配置され、キヤリア3或いはボート5から移し
替えられたウエーハ1,1……を一時的に収納保
持し、二対の上下回転ローラ20〜24を使用し
て上記ウエーハ1,1……を密着或いは分離させ
てその整列状態を変更する上下動自在なホルダー
24を有するホルダー部25とでその主要部を構
成する。尚、上述したキヤリア部17、ボート部
19及びホルダー部25の各部は制御部〔図示せ
ず〕によつて後述の如く駆動制御される。 The semiconductor wafer reloading device 15 shown in FIGS. 4 to 7 stores a plurality of wafers 1, 1, . A carrier part 17 having a horizontally movable carrier base 16 on which a frame-shaped Teflon carrier 3 (see FIG. 21) is positioned and placed, and a plurality of wafers 1, 1, two by two, with their back surfaces facing each other. A horizontal movable boat on which a table-shaped quartz glass boat 5 (see Fig. 22) is positioned and placed, which is slightly tilted in the wafer holding grooves 4, 4, and held in alignment at a fixed pitch while the wafers are closely planted. It has a freely movable boat base 18, has a boat part 19 arranged in parallel with the carrier part 17, and is arranged above an intermediate position P0 between the carrier part 17 and the boat part 19, and can be transferred from the carrier 3 or the boat 5. The wafers 1, 1... are temporarily stored and held, and the wafers 1, 1... are brought into close contact with each other or separated using two pairs of vertically rotating rollers 20 to 24 to change their alignment state. The main part thereof is composed of a holder part 25 having a holder 24 and a holder part 25. Incidentally, each of the above-mentioned carrier section 17, boat section 19, and holder section 25 is driven and controlled by a control section (not shown) as described later.
上記キヤリア部17及びボート部19には、キ
ヤリアベース16及びボートベース18を、待機
ポジシヨンP1,P2とその中間ポジシヨンP0間で
夫々移送するベース移送機構26,27がその直
下方に配設される。また、キヤリアベース16及
びボートベース18の下部には、キヤリア3及び
ボート5とホルダー24との間でウエーハ1,1
……を移し替える上下動自在なプツシヤ28,2
9を有するプツシヤ機構30,31を一体的に装
設する。上記プツシヤ28,29の上端面にはウ
エーハ1,1……を起立状態で整列保持するウエ
ーハ受け溝が前後方向に沿つて定ピツチで設けら
れている。上記ボートベース18は、第7図に示
すようにボート5上にウエーハ1,1……を微小
角度傾倒させて整列保持しているため、上記ウエ
ーハ1,1の傾倒方向とは逆方向に微小角度傾斜
させて配置され、これによりウエーハ1,1……
の起立方向とプツシヤ29の昇降方向とを揃えて
いる。またホルダー部25には、ホルダー24を
上下動させるためのホルダー昇降機構32が設け
られる。 Directly below the carrier section 17 and boat section 19 are base transfer mechanisms 26 and 27 that transfer the carrier base 16 and boat base 18 between standby positions P 1 and P 2 and intermediate position P 0 , respectively. will be established. Further, at the lower part of the carrier base 16 and the boat base 18, the wafers 1 and 1 are placed between the carrier 3 and the boat 5 and the holder 24.
A vertically movable pusher 28, 2 for transferring ...
Pusher mechanisms 30 and 31 having 9 are integrally installed. Wafer receiving grooves for holding the wafers 1, 1, . As shown in FIG. 7, the boat base 18 holds the wafers 1, 1... on the boat 5 in alignment by tilting them at a minute angle. The wafers 1, 1...
The rising direction of the pusher 29 and the rising and falling direction of the pusher 29 are aligned. Further, the holder portion 25 is provided with a holder elevating mechanism 32 for moving the holder 24 up and down.
本考案の特徴は上記ボート部19のボートベー
ス18にある。以下、上記ボートベース18の具
体的構造について説明する。 The feature of the present invention lies in the boat base 18 of the boat section 19. The specific structure of the boat base 18 will be described below.
第1図乃至第3図に示すボートベース18にお
いて、33は前述したボート5が位置決め載置さ
れた略矩形状のベース板で、その略中央部分に
は、図示しないがその下方の上下動自在なプツシ
ヤ29〔第6図参照〕が挿通する開口窓孔34が
設けられる。35,35……は上記ボート5の側
方でウエーハ整列方向に沿つて平行移動可能に、
且つ、ウエーハ整列方向と直交する方向に沿つて
各ウエーハ1,1……間で突出退入可能に定ピツ
チで配設され、各ウエーハ1,1……の下部を支
持して傾倒或いは起立させる複数のピンである。
このウエーハ1,1……に当接する先端部は、テ
フロン製である。36は上記ピン35,35……
をウエーハ整列方向に沿つてボート5に向けて植
設したピンベース、37は二本のガイドロツド3
8,38を摺動自在に貫挿したメインベースで、
上記ガイドロツド38,38の内方軸端部にピン
ベース36を橋架させて固設し、またこの外方軸
端部に連結バー39を橋架させて固着する。40
は上記ピン35,35……をウエーハ整列方向と
直交する方向に沿つて突出退入させる駆動源であ
るシリンダで、メインベース37に固着されてそ
のシリンダベースを連結バー39の略中央部に連
結固定する。41,42はベース板33の前後端
部に立設した前後支持フレームで、上記メインベ
ース37の前後端面に突設したガイドロツド4
3,43,44,44が摺動自在に貫挿される。
45はメインベース37をウエーハ整列方向に沿
つて平行移動させる駆動源であるモータで、ベー
ス板33の下方に固着される。46は上記モータ
45の出力軸に同軸的に固着した円筒カム、47
はメインベース37の外側面にブロツク48を固
着し、このブロツク48の下端部に回転自在に軸
支したカムフオロワで、メインベース37と前支
持フレーム41間に張設された引張りバネ49の
弾性力により上記カムフオロワ47を円筒カム4
6に常時当接させる。50は上記メインベース3
7に固着され、ピンベース36の二つのピン3
5,35間でボート5側に向けて配置されたフア
イバ光電スイツチからなる第1センサ、51は前
支持フレーム41から延びるセンサ取付アーム5
2の先端に固着され、ボート5側方でそのボート
5に向けて固定配置されたフアイバ光電スイツチ
からなる第2センサで、ボート5のウエーハ保持
溝4,4……と対応する位置、即ち、ウエーハ起
立位置の延長線上に配置される。53,54はベ
ース板33の後方端部、後支持フレーム42の近
傍位置に固定配置されたフオトセンサからなる第
3及び第4センサで、メインベース37の後方端
部に外方へ向かつて突設した遮光板54による遮
光の有無でピン35,35……の原点位置及び突
出退入位置を検出する。尚、55,56はメイン
ベース37の前方端部に固着された第5、第6セ
ンサで、ピンベース36の前方端部の遮光板57
の有無を検知することによりピン35,35……
の突出或いは退入状態を確認するためのものであ
る。 In the boat base 18 shown in FIGS. 1 to 3, reference numeral 33 denotes a substantially rectangular base plate on which the boat 5 described above is positioned and mounted, and at the substantially central portion thereof, there is a vertically movable portion (not shown) below. An open window hole 34 is provided through which a pusher 29 (see FIG. 6) is inserted. 35, 35... are movable in parallel along the wafer alignment direction on the side of the boat 5,
In addition, the wafers 1, 1... are arranged at fixed pitches so as to be protrusive and retractable between each wafer 1, 1... along a direction perpendicular to the wafer alignment direction, and are tilted or erected by supporting the lower part of each wafer 1, 1... Multiple pins.
The tip portion that comes into contact with the wafers 1, 1, . . . is made of Teflon. 36 is the above pin 35, 35...
The pin base is planted facing the boat 5 along the wafer alignment direction, and 37 is the two guide rods 3.
The main base has 8 and 38 slidably inserted through it,
A pin base 36 is bridged and fixed to the inner shaft ends of the guide rods 38, 38, and a connecting bar 39 is bridged and fixed to the outer shaft ends. 40
A cylinder is a driving source for protruding and retracting the pins 35, 35, . Fix it. Reference numerals 41 and 42 denote front and rear support frames erected at the front and rear ends of the base plate 33, and guide rods 4 protruding from the front and rear end surfaces of the main base 37.
3, 43, 44, and 44 are slidably inserted therethrough.
A motor 45 is a driving source for moving the main base 37 in parallel along the wafer alignment direction, and is fixed below the base plate 33. 46 is a cylindrical cam fixed coaxially to the output shaft of the motor 45; 47
A block 48 is fixed to the outer surface of the main base 37, and a cam follower is rotatably supported at the lower end of the block 48. The cam follower 47 is connected to the cylindrical cam 4 by
6 in constant contact. 50 is the main base 3 above
7 and the two pins 3 of the pin base 36
A first sensor consisting of a fiber photoelectric switch disposed toward the boat 5 side between 5 and 35; 51 is a sensor mounting arm 5 extending from the front support frame 41;
A second sensor consisting of a fiber photoelectric switch is fixed to the tip of the boat 5 and is fixedly arranged on the side of the boat 5 toward the boat 5, and is located at a position corresponding to the wafer holding grooves 4, 4, . . . of the boat 5, that is, It is placed on an extension of the wafer standing position. Reference numerals 53 and 54 denote third and fourth sensors, which are photo sensors fixedly arranged at the rear end of the base plate 33 and near the rear support frame 42, and project outward from the rear end of the main base 37. The origin position and protruding/retracting position of the pins 35, 35, . Note that 55 and 56 are fifth and sixth sensors fixed to the front end of the main base 37, and the light shielding plate 57 at the front end of the pin base 36
By detecting the presence or absence of pins 35, 35...
This is to confirm the protrusion or retraction state of the
上記構成からなる半導体ウエーハ立替装置15
におけるウエーハローデイング及びアンローデイ
ング時での移し替え動作を以下説明する。 Semiconductor wafer advance equipment 15 having the above configuration
The transfer operation during wafer loading and unloading will be described below.
まず、ウエーハローデイング時、複数のウエー
ハ1,1……を一枚ずつ整列収納したキヤリア3
をキヤリア部17のキヤリアベース16上に位置
決め載置する。そして上記キヤリアベース16を
中間ポジシヨンP0までベース移送機構26によ
り移送し、このポジシヨンP0でプツシヤ機構3
0によりホルダー部25のホルダー24に移送す
る。次に待機ポジシヨンP1に初期復帰させたキ
ヤリアベース16上に、前記キヤリア3のウエー
ハ1,1……とは逆方向に向けた複数のウエーハ
1,1……を一枚ずつ整列収納した次のキヤリア
3を半ピツチずらして位置決め載置し、前述と同
一動作を繰返して上記ウエーハ1,1……をホル
ダー24に移送する。このホルダー24では上下
回転ローラ20〜24を使用して上記ウエーハ
1,1……を二枚ずつ裏面同士を密着させてその
整列状態を変更する。そしてホルダー24内の密
着状態にあるウエーハ1,1……を、中間ポジシ
ヨンP0にベース移送機構27により移送された
ボートベース18上の空のボート5に移し替え
る。 First, during wafer loading, the carrier 3 stores multiple wafers 1, 1... one by one.
is positioned and placed on the carrier base 16 of the carrier section 17. Then, the carrier base 16 is transferred to an intermediate position P 0 by the base transfer mechanism 26, and at this position P 0 the pusher mechanism 3
0, it is transferred to the holder 24 of the holder section 25. Next, a plurality of wafers 1, 1, . . . facing in the opposite direction to the wafers 1, 1, . The carrier 3 is shifted by half a pitch, and the wafers 1, 1, . This holder 24 uses vertically rotating rollers 20 to 24 to change the alignment of the wafers 1, 1, . . . by bringing their back surfaces into close contact with each other. Then, the wafers 1, 1 , .
この時、ボートベース18でのウエーハローデ
イング動作は次の通りである。 At this time, the wafer loading operation at the boat base 18 is as follows.
まず、モータ45の駆動により円筒カム46を
回転させ、この円筒カム46にカムフオロワ47
を追従させてメインベース37を空のボート5の
ウエーハ整列方向に沿つてその側方で平行移動さ
せる。これにより原点位置にあるピン35,35
……をウエーハ整列方向に沿つて平行移動させ、
第4センサ54の検出信号に基づいてその突出退
入位置で停止させる。〔第8図及び第9図参照〕
この位置は、ボート5のウエーハ保持溝4,4…
…の上方近傍位置である。この第4センサ54の
検出信号に基づいてピン35,35……を停止さ
せると共に、シリンダ40の退入作動により上記
ピン35,35……をボート5上方まで突出させ
てウエーハ1,1……間に挿入配置する。その後
ボートベース18下方のプツシヤ機構31のプツ
シヤ29をホルダー24から下降させて上記プツ
シヤ29上のウエーハ受け溝に植立保持された密
着状態にあるウエーハ1,1……をボート5のウ
エーハ保持溝4,4……に移し替える。この時、
上記ウエーハ保持溝4,4……に嵌まり込んだウ
エーハ1,1……は、ピン35,35……に支持
される〔第10図及び第11図参照〕。この状態
から上記ピン35,35……をウエーハ支持側と
は反対方向に向かつてゆつくりと平行移動させ、
ウエーハ1,1……をピン35,35……で支持
しながら傾倒させ、第1センサ50にてウエーハ
1,1……の有無を検出し、その検出信号に基づ
いて停止させる。上記第1センサ50は任意の二
つのピン35,35間に配置されているため、こ
の時には、上記ウエーハ1,1……はボート5の
ウエーハ保持溝4,4……によつて支持される
〔第12図及び第13図参照〕。上記ウエーハ保持
溝4,4……が傾斜溝であり、而も装置全体を第
6図に示すように前後方向で微小角度傾斜させて
いるので上記ボート上でのウエーハ1,1……
は、ウエーハ保持溝4,4……の傾斜方向の溝壁
面に揃う。そして上記第1センサ50の検出信号
に基づいてピン35,35……を停止させると共
に、シリンダ40の突出作動によりピン35,3
5……を退入させ、更に、メインベース37を介
して平行移動させ、第4センサ53の検出信号に
基づいて原点位置に復帰させて停止させる。 First, the cylindrical cam 46 is rotated by driving the motor 45, and the cam follower 47 is attached to the cylindrical cam 46.
The main base 37 is moved parallel to the side of the empty boat 5 along the wafer alignment direction. As a result, pins 35, 35 at the origin position
...is translated in parallel along the wafer alignment direction,
Based on the detection signal of the fourth sensor 54, it is stopped at the protruding and retracting position. [See Figures 8 and 9]
This position is the wafer holding groove 4, 4... of the boat 5.
... is a position near the top. Based on the detection signal of the fourth sensor 54, the pins 35, 35, . Place it in between. Thereafter, the pusher 29 of the pusher mechanism 31 below the boat base 18 is lowered from the holder 24, and the wafers 1, 1, etc., which are in close contact and are planted in the wafer receiving groove on the pusher 29, are transferred to the wafer holding groove of the boat 5. Transfer to 4, 4... At this time,
The wafers 1, 1, . . . fitted into the wafer holding grooves 4, 4, . . . are supported by pins 35, 35, . From this state, slowly move the pins 35, 35... in parallel in the direction opposite to the wafer support side,
The wafers 1, 1, . . . are supported by pins 35, 35, . . . and tilted, the presence or absence of the wafers 1, 1, . Since the first sensor 50 is disposed between any two pins 35, 35, at this time, the wafers 1, 1... are supported by the wafer holding grooves 4, 4... of the boat 5. [See Figures 12 and 13]. The wafer holding grooves 4, 4, .
are aligned with the groove wall surfaces of the wafer holding grooves 4, 4, . . . in the inclined direction. Then, the pins 35, 35... are stopped based on the detection signal of the first sensor 50, and the pins 35, 35 are stopped by the protruding operation of the cylinder 40.
5... are moved back and forth, and further moved in parallel via the main base 37, and then returned to the original position based on the detection signal of the fourth sensor 53 and stopped.
このようにすれば、ウエーハローデイング時、
ボート5の経時的変化によるそのウエーハ保持溝
4,4……の溝幅が大きくなつても、一旦ピン3
5,35……にウエーハ1,1……をもたせ掛け
た上で上記ピン35,35……の平行移動により
傾倒させてウエーハ保持溝4,4……に植立保持
させるため、ウエーハ1,1……の急激な倒れ込
みがないので上記ウエーハ1,1……に欠けが発
生する恐れがない。 In this way, when loading the wafer,
Even if the width of the wafer holding grooves 4, 4... increases due to changes in the boat 5 over time, the pins 3
The wafers 1, 1, . Since there is no sudden collapse of the wafers 1, 1, . . ., there is no fear that the wafers 1, 1, .
次にウエーハアンローデイング時、複数のウエ
ーハ1,1……を二枚ずつその裏面同士を密着さ
せて整列保持したボート5を、ボート部19のボ
ートベース18上に位置決め載置する。そして上
記ボートベース18をベース移送機構27により
中間ポジシヨンP0まで移送し、このポジシヨン
P0でプツシヤ機構31によりホルダー部25の
ホルダー24に移送する。 Next, at the time of wafer unloading, a boat 5 holding a plurality of wafers 1, 1 . Then, the boat base 18 is transferred to the intermediate position P 0 by the base transfer mechanism 27, and this position is
At P0 , the pusher mechanism 31 transfers it to the holder 24 of the holder section 25.
この時、ボートベース18でのウエーハアンロ
ーデイング動作は次の通りである。 At this time, the wafer unloading operation at the boat base 18 is as follows.
まず、モータ45の駆動により円筒カム46及
びカムフオロワ47を介してメインベース37を
ボート5のウエーハ整列方向に沿つてその側方で
平行移動させる。これにより原点位置にあるピン
35,35……をウエーハ整列方向に沿つて平行
移動させ、第1センサ50によつてボート5上の
ウエーハ1,1……の有無を検出してその検出信
号に基づいて停止させる〔第14図及び第15図
参照〕。この時、上記第1センサ50が二つのピ
ン35,35の略中間に位置されているため、各
ピン35,35……はボート5上の各ウエーハ
1,1……間側方に配置される。この第1センサ
50の検出信号に基づいてピン35,35……を
停止させると共に、シリンダ40の退入作動によ
り上記ピン35,35……をボート5上方まで突
出させてウエーハ1,1……間に挿入配置する
〔第16図及び第17図参照〕。その後、上記ピン
35,35……をウエーハ整列方向に沿つて平行
移動させ、ウエーハ1,1……を支持しながら起
立させ、第2センサ51にてウエーハ1,1……
の有無を検出し、その検出信号に基づいて停止さ
せる〔第18図及び第19図参照〕。この第2セ
ンサ51はボート5のウエーハ保持溝4,4……
の直上方位置、即ち、ウエーハ起立位置にあるた
め、この時には、上記ウエーハ1,1……はボー
ト5のウエーハ保持溝4,4……内で起立保持さ
れ、この起立方向とプツシヤ29の上昇方向とが
揃う。この状態からボートベース18下方のプツ
シヤ機構31のプツシヤ29を上昇させて、ボー
ト5上でピン35,35……で起立保持されたウ
エーハ1,1……をプツシヤ29のウエーハ受け
溝に移し替えた上でホルダー24へ移送する。そ
の後はシリンダ40の突出作動によりピン35,
35……を退入させ、更に、メインベース37を
介して平行移動させ、第4センサ53の検出信号
に基づいて原点位置に復帰させて停止させる。上
記ホルダー24では前述したウエーハローデイン
グ時とは逆動作によりウエーハ1,1……を分離
した上で空のキヤリア3に移し替える。 First, by driving the motor 45, the main base 37 is moved in parallel along the wafer alignment direction of the boat 5 on its side via the cylindrical cam 46 and the cam follower 47. As a result, the pins 35, 35... located at the origin position are moved in parallel along the wafer alignment direction, the first sensor 50 detects the presence or absence of the wafers 1, 1... on the boat 5, and the detection signal is [See Figures 14 and 15]. At this time, since the first sensor 50 is located approximately in the middle of the two pins 35, 35, each pin 35, 35... is placed laterally between each wafer 1, 1... on the boat 5. Ru. Based on the detection signal of the first sensor 50, the pins 35, 35, . (See Figures 16 and 17). Thereafter, the pins 35, 35... are moved in parallel along the wafer alignment direction to stand up while supporting the wafers 1, 1..., and the second sensor 51 detects the wafers 1, 1...
The presence or absence of the motor is detected and the system is stopped based on the detection signal (see FIGS. 18 and 19). This second sensor 51 is connected to the wafer holding grooves 4, 4... of the boat 5.
At this time, the wafers 1, 1, . . . are held upright within the wafer holding grooves 4, 4, . The direction is aligned. From this state, the pusher 29 of the pusher mechanism 31 below the boat base 18 is raised, and the wafers 1, 1, . . . , which are held upright by the pins 35, 35, . Then, it is transferred to the holder 24. After that, the pin 35,
35... are moved back and forth, and further moved in parallel via the main base 37, and then returned to the original position based on the detection signal of the fourth sensor 53 and stopped. In the holder 24, the wafers 1, 1, .
このようにすれば、ウエーハアンローデイング
時、ボート5の経時的変化により、そのウエーハ
保持溝4,4……の溝幅が大きくなつてウエーハ
1,1……が大きく傾倒していても、ピン35,
35……により上記ウエーハ1,1……を起立保
持し、その起立方向をプツシヤ29の昇降方向に
揃えてそのウエーハ受け溝に移し替えられるの
で、ボート5からプツシヤ29への移し替えがス
ムーズに行える。 In this way, even if the width of the wafer holding grooves 4, 4... increases due to changes in the boat 5 over time during wafer unloading, and the wafers 1, 1,... 35,
The wafers 1, 1, . I can do it.
考案の効果
本考案によれば、ボートの経時的変化に左右さ
れることなく、上記ボートでのウエーハローデイ
ング及びアンローデイングが、ウエーハを破損す
ることなく、確実且つ迅速に行えて実用的価値大
なる半導体ウエーハ立替装置を提供できると共に
作業性及び製品歩留まりも大幅に向上する。Effects of the invention According to the invention, wafer loading and unloading can be carried out reliably and quickly on the boat without damaging the wafers, without being affected by changes in the boat over time, and has great practical value. It is possible to provide a semiconductor wafer stand-alone equipment with improved workability and product yield.
第1図乃至第19図は本考案に係る半導体ウエ
ーハ立替装置の一実施例を説明するためのもの
で、第1図はボートベースを示す平面図、第2図
はその正面図、第3図はその左側面図、第4図は
半導体ウエーハ立替装置の全体構成を示す平面
図、第5図はその全体の正面図、第6図はその全
体の右側面図、第7図は第4図装置のボート部を
示す側面図、第8図及び第9図、第10図及び第
11図、第12図及び第13図はボートベースで
のウエーハローデイング状態を示す各部分側面図
及び各部分平面図、第14図及び第15図、第1
6図及び第17図、第18図及び第19図はボー
トベースでのウエーハアンローデイング状態を示
す各部分側面図及び部分平面図である。第20図
はボート上でのBack to Back方式によるウエー
ハを示す側面図、第21図はウエーハを整列収納
したキヤリアを示す斜視図、第22図はウエーハ
を整列保持したボートを示す斜視図、第23図は
従来の半導体ウエーハ立替装置の概略構成図、第
24図はボートベース及びプツシヤを示す側面図
である。
1……半導体ウエーハ、3……キヤリア、5…
…ボート、16……キヤリアベース、18……ボ
ートベース、35……ピン、50……第1セン
サ、51……第2センサ、53,54……第3、
第4センサ。
1 to 19 are for explaining an embodiment of the semiconductor wafer reloading apparatus according to the present invention, in which FIG. 1 is a plan view showing a boat base, FIG. 2 is a front view thereof, and FIG. 3 is a plan view showing a boat base. 4 is a plan view showing the overall configuration of the semiconductor wafer reloading device, FIG. 5 is a front view of the entire device, FIG. 6 is a right side view of the entire device, and FIG. 8 and 9, 10 and 11, 12 and 13 are side views showing the boat part of the device, and FIGS. 12 and 13 are side views and partial side views showing the wafer loading state on the boat base. Plan view, Figures 14 and 15, 1st
6, FIG. 17, FIG. 18, and FIG. 19 are a partial side view and a partial plan view showing the wafer unloading state on the boat base. Fig. 20 is a side view showing wafers on a boat using the back-to-back method; Fig. 21 is a perspective view showing a carrier with wafers arranged and stored; Fig. 22 is a perspective view showing a boat holding wafers in alignment; FIG. 23 is a schematic configuration diagram of a conventional semiconductor wafer reloading apparatus, and FIG. 24 is a side view showing a boat base and pusher. 1... Semiconductor wafer, 3... Carrier, 5...
... Boat, 16 ... Carrier base, 18 ... Boat base, 35 ... Pin, 50 ... First sensor, 51 ... Second sensor, 53, 54 ... Third,
Fourth sensor.
Claims (1)
列収納し、キヤリアベース上に位置決め載置した
キヤリアと、半導体ウエーハを二枚ずつその裏面
同士を密着させて定ピツチで整列保持し、ボート
ベース上に位置決め載置したボートとの間で、半
導体ウエーハをその整列状態を変更させて移し替
える装置であつて、 上記ボートベースは、ボート側方でウエーハ整
列方向に沿つて平行移動可能に、且つ、ウエーハ
整列方向と直交する方向に沿つて各半導体ウエー
ハ間で突出退入可能に定ピツチで配設され、各半
導体ウエーハ下部を支持して傾倒或いは起立させ
る複数のピンと、任意の二つのピン間にこのピン
に追従して平行移動可能に配設され、その平行移
動で半導体ウエーハの有無を検出する第1センサ
と、ボート側方でボート上でのウエーハ起立位置
に固定配置され、ピンによるウエーハ起立動作で
半導体ウエーハの有無を検出する第2センサと、
ボート側方でウエーハ整列方向に沿う所定位置に
固定配置され、ピンの原点位置及び突出退入位置
を検出する第3及び第4センサとを具備したこと
を特徴とする半導体ウエーハ立替装置。[Scope of Claim for Utility Model Registration] A carrier in which a plurality of semiconductor wafers are arranged and stored one by one at a fixed pitch, and positioned and placed on a carrier base, and two semiconductor wafers are placed in close contact with each other with their back surfaces at a fixed pitch. A device for transferring semiconductor wafers to and from a boat that is aligned and placed on a boat base while changing the alignment state of the semiconductor wafers. a plurality of pins that are movable in parallel and are disposed at fixed pitches between each semiconductor wafer so as to be able to protrude and retract along a direction perpendicular to the wafer alignment direction, and that support the lower part of each semiconductor wafer and tilt or erect it; A first sensor is disposed between any two pins so that it can move in parallel following this pin, and detects the presence or absence of a semiconductor wafer by the parallel movement, and a first sensor is fixed to the wafer's upright position on the boat at the side of the boat. a second sensor that is arranged and detects the presence or absence of a semiconductor wafer by a wafer raising operation using a pin;
A semiconductor wafer stand-up device comprising third and fourth sensors that are fixedly arranged at predetermined positions along the wafer alignment direction on the side of the boat and detect the origin position and protrusion/retraction position of the pins.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2700488U JPH0249717Y2 (en) | 1988-02-29 | 1988-02-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2700488U JPH0249717Y2 (en) | 1988-02-29 | 1988-02-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01130538U JPH01130538U (en) | 1989-09-05 |
| JPH0249717Y2 true JPH0249717Y2 (en) | 1990-12-27 |
Family
ID=31249133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2700488U Expired JPH0249717Y2 (en) | 1988-02-29 | 1988-02-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0249717Y2 (en) |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP2700488U patent/JPH0249717Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01130538U (en) | 1989-09-05 |
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