JPH0249719Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、主としてシリコンウエハその他のウ
エハにイオン注入するに際して使用されるイオン
注入用プラテン装置に関する。

（従来の技術） 従来、この種装置として、イオン注入室内のプ
ラテン上に、シリコンウエハその他のウエハを載
置して、これを機械的なクランプ部材により固定
自在とするようにしたものが知られている。ま
た、ウエハを固定する手段として静電チヤツクが
知られている。

（考案が解決しようとする課題） 前記機械的なクランプ部材はプラテン上に開閉
自在に設けられ、ウエハをプラテン上に固定する
場合、該クランプ部材を閉じて該ウエハの外周部
を該プラテンとの間に挟持するが、かかるもので
は、該ウエハの上面の処理面は、その外周面に該
クランプ部材との重合により多少ともデツドスペ
ースを生じてイオン注入を行えない部分が生じる
不都合があり、該外周部の上面の該クランプ部材
から生ずるダストパーテイクルがそのまま該処理
面上に付着し勝ちであり、更に、該ウエハの寸法
形状が異なる場合、該クランプ部材はこれに応じ
た寸法形状のものに変更するを要し、これを換言
すれば、該ウエハは所定の寸法形状のものに限定
される等の不都合を伴なう。

こうした不都合は、該プラテン上に静電チヤツ
クを設ければ解消できると考えられたが、ウエハ
が絶縁材製の静電チヤツクに吸着した状態では、
イオン注入中に行うべきイオン注入量の測定が出
来なくなる。

本考案は、かかる不都合を解消すると共にイオ
ン注入量の測定が可能なイオン注入用のプラテン
装置を提供することを目的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本考案では、イオン注入室内のプラテン上に、
シリコンウエハその他のウエハを載置して、これ
をイオン注入に備えてクランプ部材により固定自
在とするものに於いて、該クランプ部材を、該プ
ラテン上に固定されて該ウエハをその下面から支
承する絶縁材製の台座状のクランプ本体と、該本
体内に埋設される比較的高電位の少なくとも正負
１対の静電発生用電極とから成る静電型クランプ
で構成し、該プラテン及びクランプ本体を貫通し
且つアースに接続さ一端が該ウエハの裏面に接触
する少なくとも１本のエゼクタピンを設けること
により、上記目的を達成するようにした。

（作用） ウエハをクランプ本体に載せると、静電型クラ
ンプの静電気により該クランプ本体側に吸引され
てその位置に固定となり、そのままで該ウエハに
イオン注入を行え、この場合、該ウエハはその上
面にクランプ部材の異物が存在しないため、前記
したダストパーテイクルの付着がなく、該ウエハ
の全面にイオン注入を施せ、任意の寸法形状のウ
エハを固定できる。該ウエハへのイオン注入中は
イオン注入量を測定する必要があるが、その測定
は該ウエハの裏面に接触するエジエクタピンをア
ースに接続し、イオン電流を該エジエクタピンを
介して流すことにより可能になる。また、該エジ
エクタピンを作動させれば、イオン注入処理後
に、静電吸着されたウエハを該クランプ部材から
の取り外しを簡単に行える。

（実施例） 本考案の実施に１例を別紙図面に付説明する。

図面で符号１はイオン注入室、２は該室１の上
部の図示しないイオン源に連なるイオン注入口を
示し、該室１の下側に、該注入口２に対向させて
プラテン３を備えるが、該プラテン３は図示の場
合、該室１の外部から導入された一側縁の軸４を
軸として略垂直姿勢に起立自在とし、かくて該起
立位置では、イオン注入口２に対向されて後述す
るウエハにイオン注入処理を施し、また水平姿勢
ではウエハの着脱交換に備えられるようにした。
該室１の左右にはロツク室５ａ，５ｂを設け、こ
れを介してカセツトケース１１ａ，１１ｂの間で
ベルト装置等の搬送手段によりウエハが搬送され
るようにした。

図面で６は該プラテン３上に載置されるシリコ
ンウエハその他のウエハを示し、該ウエハ６、該
プラテン３上に別個に用意されるクランプ部材７
により該載置位置に固定自在とするもので、この
点は従来のものと特に異ならないが、本考案によ
れば、該クランプ部材７を、該プラテン３上に固
定されて該ウエハ６を下面から支承すべき電気絶
縁材料製の台座状のクランプ本体７ａで構成させ
ると共に、該本体７ａ内に比較的高電位の少なく
とも１対の正負の電極７ｂ，７ｂを備え、かくて
該本体７ａと該電極７ｂ，７ｂとにより、該部材
７を全体として静電式のクランプに構成させるよ
うにした。図面で８は該電極７ｂ，７ｂに連なる
外部の例えば数百Ｖ乃至数千Ｖの高圧直流電源を
示す。

更に、本考案においては、該本体７ａの中心部
の開口７ｃ内を上下方向にのびるエジエクタピン
９をばね１０に抗して上動自在に用意し、かくて
該ウエハ６に対してイオン注入中に、該エジエク
タピン９をアースに接続してこれに流れるイオン
電流の測定が可能になり、また、高圧直流電源８
を切つた後該ピン９をプツシヤ１２で押して上動
させて該ウエハ６が該クランプ部材７の残留静電
吸着力による固定、即ち該本体７ａとの付着が解
かれるようにした。

（考案の効果） このように本考案によるときは、クランプ部材
を、プラテン上に固定されてウエハをその下面か
ら支承する絶縁材製の台座状のクランプ本体と、
該本体内の静電発生用の電極とから成る静電式の
クランプで構成し、該プラテン及びクランプ本体
を貫通し且つアースに接続され一端が該ウエハの
裏面に接触する少なくとも１本のエゼクタピンを
設けたので、ウエハ全面にイオン注入を行なえる
と共にダストパーテイクルのウエハ面に対する付
着がなく、各種寸法形状のウエハをプラテン上に
保持できて従来のクランプ部材の不都合を解消し
得、該エジエクタピンをアースに接続してイオン
注入量を測定できるのでイオン注入用に好都合に
適用でき、残留静電吸着力に抗して該エジエクタ
ピンによりウエハを簡単に取り外せる等の効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案装置を備えたイオン注入室の一
例を示すもので、ａはその一部を截除した平面
図、ｂはその一部を截除した側面図、第２図はそ
の要部の拡大断面図、第３図はその上面図であ
る。 １……イオン注入室、３……プラテン、６……
ウエハ、７……クランプ部材、７ａ……クランプ
本体、７ｂ，７ｂ……電極、９……エジエクタピ
ン。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. イオン注入室内のプラテン上に、シリコンウエ
   ハその他のウエハを載置して、これをイオン注入
   に備えてクランプ部材により固定自在とするもの
   に於いて、該クランプ部材を、該プラテン上に固
   定されて該ウエハをその下面から支承する絶縁材
   製の台座状のクランプ本体と、該本体内に埋設さ
   れる比較的高電位の少なくとも正負１対の静電発
   生用電極とから成る静電型クランプで構成し、該
   プラテン及びクランプ本体を貫通し且つアースに
   接続され一端が該ウエハの裏面に接触する少なく
   とも１本のエゼクタピンを設けて成るイオン注入
   用プラテン装置。