JPH0249742A - 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 - Google Patents
光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物Info
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- JPH0249742A JPH0249742A JP20022988A JP20022988A JPH0249742A JP H0249742 A JPH0249742 A JP H0249742A JP 20022988 A JP20022988 A JP 20022988A JP 20022988 A JP20022988 A JP 20022988A JP H0249742 A JPH0249742 A JP H0249742A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、酵素阻害剤、生物活性物質、抗ガン剤及び強
誘電性液晶として用いられるエステル。
誘電性液晶として用いられるエステル。
エーテル及びカルボン酸の原料として有用な光学活性な
含フツ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物に関する
。
含フツ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物に関する
。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕液晶や
医薬品等に応用される光学活性含フツ素アルコール(含
フツ素ヒドロキシ化合物)として、従来、若干の化合物
が報告されている。
医薬品等に応用される光学活性含フツ素アルコール(含
フツ素ヒドロキシ化合物)として、従来、若干の化合物
が報告されている。
しかしながら、光学純度に関して満足な含フツ素ヒドロ
キシ化合物は、未だ報告されていない。
キシ化合物は、未だ報告されていない。
従って、本発明は、光学純度の高い新規光学活性含フツ
素ヒドロキシ化合物を提供することを目的とする。
素ヒドロキシ化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、特に、シクロプロパン環を存する光学活
性ヒドロキシ化合物を種々検討し、酵素を用いる不斉加
水分解により光学純度の高い光学活性含フツ素ヒドロキ
シ化合物が得られることを見出し、本発明を完成した。
性ヒドロキシ化合物を種々検討し、酵素を用いる不斉加
水分解により光学純度の高い光学活性含フツ素ヒドロキ
シ化合物が得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、一般式
OH
(式中、RI、R2はそれぞれ炭素原子数1〜2のフッ
素置換アルキル基、炭素原子数1〜10のアルキル基、
炭素原子数7〜10のアラルキル基あいは炭素原子数6
〜10のアリール基を示す。ただし、R’及びR2の少
なくとも一方は炭素原子数1〜2のフッ素置換アルキル
基を示す。) で表わされることを特徴とする光学活性な含フツ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物を提供するものである
。
素置換アルキル基、炭素原子数1〜10のアルキル基、
炭素原子数7〜10のアラルキル基あいは炭素原子数6
〜10のアリール基を示す。ただし、R’及びR2の少
なくとも一方は炭素原子数1〜2のフッ素置換アルキル
基を示す。) で表わされることを特徴とする光学活性な含フツ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物を提供するものである
。
本発明に係る一般式(I)の光学活性な含フツ素α−ヒ
ドロキシシクロプロパン化合物は、置換基R’、R”の
種類により各種のものがあるが、いずれもヒドロキシル
l (OH)に結合する炭素原子が不斉中心となった光
学活性な化合物であり、さらに置換基R2の配置により
トランス型、シス型のそれぞれの構造をとり得る。RI
、Rzは、上述の如く炭素原子数1〜2のフッ素置換ア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基などの水素の一
部または全部がフッ素に置換したもの)、炭素原子数1
〜10のアルキル基(メチル基、エチル基。
ドロキシシクロプロパン化合物は、置換基R’、R”の
種類により各種のものがあるが、いずれもヒドロキシル
l (OH)に結合する炭素原子が不斉中心となった光
学活性な化合物であり、さらに置換基R2の配置により
トランス型、シス型のそれぞれの構造をとり得る。RI
、Rzは、上述の如く炭素原子数1〜2のフッ素置換ア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基などの水素の一
部または全部がフッ素に置換したもの)、炭素原子数1
〜10のアルキル基(メチル基、エチル基。
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基など)、炭素原子数7〜10のアラ
ルキル基(ベンジル基、フェネチル基など)あるいは炭
素原子数6〜10のアリール基(フェニル基、トルイル
基、p−クロロフェニル基1m−クロロフェニル基など
)を示す。ただし、R1及びRzの少なくとも一方は前
記炭素原子数1〜2のフッ素置換アルキル基であること
が必要である。
クチル基、ノニル基など)、炭素原子数7〜10のアラ
ルキル基(ベンジル基、フェネチル基など)あるいは炭
素原子数6〜10のアリール基(フェニル基、トルイル
基、p−クロロフェニル基1m−クロロフェニル基など
)を示す。ただし、R1及びRzの少なくとも一方は前
記炭素原子数1〜2のフッ素置換アルキル基であること
が必要である。
このような本発明の光学活性な含フツ素α−ヒドロキシ
シクロプロパン化合物の具体例としては、各種のものが
あるが、後述の実施例で記載したちの以外に、各種構造
のものを製造することが可能である。
シクロプロパン化合物の具体例としては、各種のものが
あるが、後述の実施例で記載したちの以外に、各種構造
のものを製造することが可能である。
ところで、この含フツ素α−ヒドロキシシクロプロパン
化合物は、様々な方法により製造可能であるが、−船釣
には下記の反応式により製造することができる。
化合物は、様々な方法により製造可能であるが、−船釣
には下記の反応式により製造することができる。
OH
*
(V)
*
(I)
上記式中、COR’はアシル基を表わす。
次に各製造工程について詳述する。
還元工程
一般式(II)の三重結合を有する含フツ素ヒドロキシ
化合物(含フツ素アルコール誘導体)を還元して一般式
(II[)の二重結合を有する含フツ素ヒドロキシ化合
物を製造する。この工程に使用しうる還元剤は、三重結
合を二重結合に還元するために常用される任意の還元剤
であればよいが、還元剤の種類により還元後に得られる
二重結合の両側の結合構造に差異を生じる。
化合物(含フツ素アルコール誘導体)を還元して一般式
(II[)の二重結合を有する含フツ素ヒドロキシ化合
物を製造する。この工程に使用しうる還元剤は、三重結
合を二重結合に還元するために常用される任意の還元剤
であればよいが、還元剤の種類により還元後に得られる
二重結合の両側の結合構造に差異を生じる。
例えばこの結合構造をトランス型とする場合には、水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウ
ム;Na (A I!、 Hz(OCH2CR20CH
z)z水素化ジイソブチルメチルアルミニウムリチウム
;LiA E H((CHs)zc HCHz〕2G
Hz、水素化トリブチルスズ; (CaHJtSnHな
どが挙げられるが、特に、水素化ビス(2−メトキシエ
トキシ)アルミニウムナトリウムが最適である。
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウ
ム;Na (A I!、 Hz(OCH2CR20CH
z)z水素化ジイソブチルメチルアルミニウムリチウム
;LiA E H((CHs)zc HCHz〕2G
Hz、水素化トリブチルスズ; (CaHJtSnHな
どが挙げられるが、特に、水素化ビス(2−メトキシエ
トキシ)アルミニウムナトリウムが最適である。
この還元反応を行うにあたっては、エーテル等の有機溶
媒中で行うのが好ましく、反応温度は低温から高温まで
可能であるが、−30〜−50°Cの範囲が特に好まし
い。
媒中で行うのが好ましく、反応温度は低温から高温まで
可能であるが、−30〜−50°Cの範囲が特に好まし
い。
また結合構造をシス型とする場合には、水素と共にリン
ドラ−触媒; Pd/CaCO3Pd(OAc)tある
いはPd/Ba5On−キノリン触媒を用いる方法、水
素化ジイソブチルアルミニウム;AfH〔(CH3)z
cHcH2hなどを還元剤として使用する方法などがあ
るが、特に水素と共にリンドラ−触媒を用いる組合せが
好ましい。この反応はヘキサン等の有機溶媒中で行うこ
とが好ましい。
ドラ−触媒; Pd/CaCO3Pd(OAc)tある
いはPd/Ba5On−キノリン触媒を用いる方法、水
素化ジイソブチルアルミニウム;AfH〔(CH3)z
cHcH2hなどを還元剤として使用する方法などがあ
るが、特に水素と共にリンドラ−触媒を用いる組合せが
好ましい。この反応はヘキサン等の有機溶媒中で行うこ
とが好ましい。
アシル化工程
アシル化は、常法で実施することができる。アシル化剤
としては、例えば塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩
化ブチリル、塩化ベンゾイル、塩化オクチル等が挙げら
れる。
としては、例えば塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩
化ブチリル、塩化ベンゾイル、塩化オクチル等が挙げら
れる。
酵素加水分解工程
アシル化工程で得られた化合物を、酵素で不斉加水分解
することにより、光学純度の高い一般式(V)の化合物
が得られる。
することにより、光学純度の高い一般式(V)の化合物
が得られる。
酵素としては、所謂加水分解酵素であれば様々なものを
用いることができ、例えばリパーゼP。
用いることができ、例えばリパーゼP。
リパーゼMY、 リパーゼM10.リパーゼOF。
リパーゼP679.セルラーゼ、PLE等を使用するこ
とができる。この場合に、選択する酵素により光学活性
は変動し、例えば、リパーゼMYを使用したとき、生成
するヒドロキシ化合物(アルコール誘導体)が右旋性で
あれば、アシル化体(V a )をセルラーゼ等の酵素
あるいは水酸化ナトリウム等の塩基性触媒などで処理す
ると、左施性のヒドロキシ化合物となる場合がある。ま
た、リパーゼPを使用するときは、リパーゼMYのとき
の逆の飾光性を有するヒドロキシ化合物が得られる場合
もある。
とができる。この場合に、選択する酵素により光学活性
は変動し、例えば、リパーゼMYを使用したとき、生成
するヒドロキシ化合物(アルコール誘導体)が右旋性で
あれば、アシル化体(V a )をセルラーゼ等の酵素
あるいは水酸化ナトリウム等の塩基性触媒などで処理す
ると、左施性のヒドロキシ化合物となる場合がある。ま
た、リパーゼPを使用するときは、リパーゼMYのとき
の逆の飾光性を有するヒドロキシ化合物が得られる場合
もある。
シクロプロパン化工程
酵素加水分解により得られた光学活性化合物をシクロプ
ロパン化することにより、本発明の一般式(1)の化合
物が得られる。
ロパン化することにより、本発明の一般式(1)の化合
物が得られる。
シクロプロパン化は、ヨウ化メチレン(CH,I2)と
Sm、 Zn−CuあるいはZn(CzHs)zまた
はジアゾメタン(CHzNz)とZn1z触媒の組合せ
等により行うことができる。特にヨウ化メチレンとSm
の組合せが立体選択的反応として望ましい。
Sm、 Zn−CuあるいはZn(CzHs)zまた
はジアゾメタン(CHzNz)とZn1z触媒の組合せ
等により行うことができる。特にヨウ化メチレンとSm
の組合せが立体選択的反応として望ましい。
この反応は、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中で行い
、反応温度は低温から高温まで可能であるが、O′C前
後が最適である。
、反応温度は低温から高温まで可能であるが、O′C前
後が最適である。
なお、各工程の反応は、それぞれ最適な条件下で行われ
るもので、溶媒の種類や各種助剤の添加量等の条件によ
り適宜反応時間や温度等を適宜選択して行う。
るもので、溶媒の種類や各種助剤の添加量等の条件によ
り適宜反応時間や温度等を適宜選択して行う。
次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例IA
(IR)−(+)
ニルシクロプロピル)
ロエタノールの合成
CH
(a)還元工程
CH
1−(トランス−2−フエ
2.2.2−トリフルオ
+Na (Af H2(OCH2CH2OCHs)z)
CH 窒素雰囲気下、 三つロフラスコにエーテル40 dを加え、ドライアイス−アセトン浴で反応容器を一3
0°Cに保った。そこに、水素化ビス(2メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウムを4.5d(15,3ミ
リモル)加え、ドライアイス−アセトン浴を一50°C
とした後、4,4.4−1−リフルオロ−3−ヒドロキ
シ−1−フェニル−1−ブチン2.81 g(14,0
ミリモル)のエーテル溶液(10d)を10分間で滴下
して1時間反応させ、続いて室温でさらに1時間反応さ
せた。
CH 窒素雰囲気下、 三つロフラスコにエーテル40 dを加え、ドライアイス−アセトン浴で反応容器を一3
0°Cに保った。そこに、水素化ビス(2メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウムを4.5d(15,3ミ
リモル)加え、ドライアイス−アセトン浴を一50°C
とした後、4,4.4−1−リフルオロ−3−ヒドロキ
シ−1−フェニル−1−ブチン2.81 g(14,0
ミリモル)のエーテル溶液(10d)を10分間で滴下
して1時間反応させ、続いて室温でさらに1時間反応さ
せた。
これに1規定の塩酸を加えて反応を停止させ、エーテル
により抽出した。次に、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製した。
により抽出した。次に、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製した。
(b)アシル化工程
H
Ac
還元工程で得た(E)−4,4,4−トリフルオロ−3
−ヒドロキシ−1−フェニル−1−ブテン3.75 g
(17,7ミリモル)とピリジン1.6R1(19,
4ミリモル)のジクロロメタン溶液(20d)を水浴で
攪拌し、塩化アセチル1.6滅(23,0ミリモル)を
5分間で滴下し、室温で13時間反応させた。これに1
規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジクロロメタンに
より抽出した。
−ヒドロキシ−1−フェニル−1−ブテン3.75 g
(17,7ミリモル)とピリジン1.6R1(19,
4ミリモル)のジクロロメタン溶液(20d)を水浴で
攪拌し、塩化アセチル1.6滅(23,0ミリモル)を
5分間で滴下し、室温で13時間反応させた。これに1
規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジクロロメタンに
より抽出した。
次に、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ジクロロメタンを減圧留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離精製した。
ロマトグラフィーで分離精製した。
(c)加水分解工程
Ac
ルー1−ブテンと(3S)−(E)−3−アセトキシ−
4,4,4−)リフルオロ−1−フェニル−1−ブテン
とを得た。
4,4,4−)リフルオロ−1−フェニル−1−ブテン
とを得た。
(d)シクロプロパン化工程
H
アシル化工程で得た(E)−3−アセトキシ4.4.4
−1−リフルオロ−1−フェニル−1−ブテン4.23
g(17,5ミリモル)を蒸留水70成に懸濁させ、恒
温槽で40〜41°Cに保った。そこにリパーゼMY(
名糖産業社製)2.0gを加え、6時間30分反応させ
た。これに1規定の塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルを加え、セライト吸引濾過した後、酢酸エチルに
より抽出した。次に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムを乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、(3
R)−(−)−(E)−4,4゜4− ト+7 フルオ
ロ−3−ヒドロキシ−1−フエニH \、h アルゴン雰囲気下、三つロフラスコにサマリウム1.6
0 g (10,6ミリモル)、テトラヒドロフラン(
THF)3dを加え、水浴で0゛Cに反応容器を保った
。そこに塩化第二水銀0.14g(0,5ミリモル)の
THF溶液3dを10分間で滴下し、さらに加水分解工
程で得た(3R)(−) −(E)−4,4,4−トリ
フルオロ−3−ヒドロキシ−1−フェニル−1−ブテン
0.20g(1,0ミリモル)のTHF溶液3戚を10
分間で滴下し、30分間攪拌した。次にヨウ化メチレン
0.81成(10,0ミリモル)のTHF溶液3戚を1
時間で滴下し、0°Cで1時間、室温で2時間反応させ
た。これに飽和炭酸カリウム水溶液を加えて反応を停止
させ、エーテルにより抽出した。次に飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧
留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分
離精製した。
−1−リフルオロ−1−フェニル−1−ブテン4.23
g(17,5ミリモル)を蒸留水70成に懸濁させ、恒
温槽で40〜41°Cに保った。そこにリパーゼMY(
名糖産業社製)2.0gを加え、6時間30分反応させ
た。これに1規定の塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルを加え、セライト吸引濾過した後、酢酸エチルに
より抽出した。次に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムを乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、(3
R)−(−)−(E)−4,4゜4− ト+7 フルオ
ロ−3−ヒドロキシ−1−フエニH \、h アルゴン雰囲気下、三つロフラスコにサマリウム1.6
0 g (10,6ミリモル)、テトラヒドロフラン(
THF)3dを加え、水浴で0゛Cに反応容器を保った
。そこに塩化第二水銀0.14g(0,5ミリモル)の
THF溶液3dを10分間で滴下し、さらに加水分解工
程で得た(3R)(−) −(E)−4,4,4−トリ
フルオロ−3−ヒドロキシ−1−フェニル−1−ブテン
0.20g(1,0ミリモル)のTHF溶液3戚を10
分間で滴下し、30分間攪拌した。次にヨウ化メチレン
0.81成(10,0ミリモル)のTHF溶液3戚を1
時間で滴下し、0°Cで1時間、室温で2時間反応させ
た。これに飽和炭酸カリウム水溶液を加えて反応を停止
させ、エーテルにより抽出した。次に飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧
留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分
離精製した。
得られた(IR)−(+)−1−()ランス−2−フェ
ニルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエタ
ノールの物理的性質を以下に示す。
ニルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエタ
ノールの物理的性質を以下に示す。
なお、プロトン核磁気共鳴(’H−NMR)スペクトル
は四塩化炭素溶媒を用い、またフッ素核磁気共鳴(I9
F−NMR)スペクトルはジエチルエーテル溶媒を用い
て測定した。
は四塩化炭素溶媒を用い、またフッ素核磁気共鳴(I9
F−NMR)スペクトルはジエチルエーテル溶媒を用い
て測定した。
分子量 216.20
’H−NMRδ(ppm) 0.93〜1.50(t
s、 3H)。
s、 3H)。
1.88〜2.31(ra、 2H)。
3.67(dq、 J=6.3. 12.6Hz。
7.24(rm、 5H)
”F−NMR+0.82(d、 J−6,8Hz)I
R(am−’) 3400.2940.1610
.1505.1445実施例IB (Is)−(−)−1−(トランス−2−フェニルシク
ロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタノールの
合成 H マ (c)加水分解工程 Ac マ H マ LH) 。
R(am−’) 3400.2940.1610
.1505.1445実施例IB (Is)−(−)−1−(トランス−2−フェニルシク
ロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタノールの
合成 H マ (c)加水分解工程 Ac マ H マ LH) 。
上記実施例IA(c)加水分解工程で得た(3 S)−
(E)−3−アセトキシ−4,4゜4−トリフルオロ−
1−フェニル−1−ブテン2.57 g (10,6ミ
リモル)を蒸留水50dに懸濁させ、恒温槽で40〜4
1゛Cに保った。そこにセルラーゼ1.2g(天野製薬
製)を加え、300時間反応せた。これに1規定の塩酸
を加えて反応を停止させ、酢酸エチルを加え、セライト
吸引濾過した後、酢酸エチルにより抽出した。次に、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
(E)−3−アセトキシ−4,4゜4−トリフルオロ−
1−フェニル−1−ブテン2.57 g (10,6ミ
リモル)を蒸留水50dに懸濁させ、恒温槽で40〜4
1゛Cに保った。そこにセルラーゼ1.2g(天野製薬
製)を加え、300時間反応せた。これに1規定の塩酸
を加えて反応を停止させ、酢酸エチルを加え、セライト
吸引濾過した後、酢酸エチルにより抽出した。次に、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
酢酸エチルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製し、(3S)−(+)−(E)
−4゜4.4−)リフルオロ−3−ヒドロキシ−1−フ
ェニル−1−ブテンを得た。
トグラフィーで分離精製し、(3S)−(+)−(E)
−4゜4.4−)リフルオロ−3−ヒドロキシ−1−フ
ェニル−1−ブテンを得た。
(d)シクロプロパン化工程
H
マ
H
マ
実施例IA(d)のシクロプロパン化工程と同様の操作
を行い、(IS)−(=)−1−()ランス−2−フェ
ニルシクロプロピル)−2,2゜2−トリフルオロエタ
ノールを得た。
を行い、(IS)−(=)−1−()ランス−2−フェ
ニルシクロプロピル)−2,2゜2−トリフルオロエタ
ノールを得た。
実施例2A
(IR) =(+) −1−(シス−2−フェニルシク
ロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタノールの
合成 ○H (a)還元工程 H H OAc 水素雰囲気下、三つロフラスコにリンドラ−触媒0.4
0g、ヘキサン35−を加え、ドライアイス−アセトン
浴で反応容器を一78°Cに保った。
ロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタノールの
合成 ○H (a)還元工程 H H OAc 水素雰囲気下、三つロフラスコにリンドラ−触媒0.4
0g、ヘキサン35−を加え、ドライアイス−アセトン
浴で反応容器を一78°Cに保った。
そこに、4,4.4−トリフルオロ−3−ヒドロキシ−
1−フェニル−1−ブチンを4.02g(20,1ミリ
モル)を5分間で滴下し、室温で14時間反応させた。
1−フェニル−1−ブチンを4.02g(20,1ミリ
モル)を5分間で滴下し、室温で14時間反応させた。
反応溶液を濾過し、ヘキサンを減圧留去した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、(Z)−4,
4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキシ−1−フェニル
−1−ブテンを得た。
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、(Z)−4,
4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキシ−1−フェニル
−1−ブテンを得た。
(b)アシル化工程
実施例IA (b)と同様の操作を行い、(Z)=3−
アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−1−フェニル
−1−ブテンを得た。
アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−1−フェニル
−1−ブテンを得た。
(C)加水分解工程
実施例IA(c)と同様の操作を行い、(3R)−(+
)−(Z)−4,4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シ−1−フェニル−1−ブテンと(33)−(Z)−3
−アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−1−フェニ
ル−1−ブテントラ得た。
)−(Z)−4,4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シ−1−フェニル−1−ブテンと(33)−(Z)−3
−アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−1−フェニ
ル−1−ブテントラ得た。
(d)シクロプロパン化工程
H
H
この工程も実施例IA (d)と同様の操作を行った。
得られた(IR)−(+)−1−(シス−2−フェニル
シクロプロピル)−2,2,2−1−リフルオロエタノ
ールの物理的性質を以下に示す。
シクロプロピル)−2,2,2−1−リフルオロエタノ
ールの物理的性質を以下に示す。
分子量 216.20
’H−NMRδ(ppm) 0.94〜1.29(cm
、 2H)。
、 2H)。
1.46(dat、 J=6.5.8.9゜8.9Hz
、 IH)。
、 IH)。
2.12(d、 J=6.5Hz、 10 )。
2.37(dt、 J=6.5.8.7Hz。
3.19(dq、 J−8,9,6,3Hz。
7.29(m、 5H)
”F−NM R+1.08(d、J=6.8H2)IR
(ロー’) 3400. 2945. 1605.
1500. 1450実施例2B (IS)−(−)−1−(シス−2−フェニルシクロプ
ロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 H マ (c)加水分解工程 Ac マ H マ 上記実施例2A (c)の加水分解工程で得た(3S)
−(Z)−3−アセトキシ−4,4,41H)。
(ロー’) 3400. 2945. 1605.
1500. 1450実施例2B (IS)−(−)−1−(シス−2−フェニルシクロプ
ロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 H マ (c)加水分解工程 Ac マ H マ 上記実施例2A (c)の加水分解工程で得た(3S)
−(Z)−3−アセトキシ−4,4,41H)。
−トリフルオロ−1−フェニル−1−ブテン1.41
g (5,8ミリモル)とメタノール15d。
g (5,8ミリモル)とメタノール15d。
水1−に炭酸カリウム2.61 g (17,4ミリモ
ル)を加え、室温で3時間反応させた。溶媒を減圧留去
した後、1規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジクロ
ロメタンにより抽出した。次に水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し
、 (3S) −(−)−(Z)−4,4,4−)リフルオ
ロ−3−ヒドロキシ−1−フェニル−1−ブテンを得た
。
ル)を加え、室温で3時間反応させた。溶媒を減圧留去
した後、1規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジクロ
ロメタンにより抽出した。次に水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し
、 (3S) −(−)−(Z)−4,4,4−)リフルオ
ロ−3−ヒドロキシ−1−フェニル−1−ブテンを得た
。
(d)シクロプロパン化工程
H
マ・
プロパン化し、(IS)−(−)−1−(シス−2−フ
ェニルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエ
タノールを得た。
ェニルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエ
タノールを得た。
実施例3A
(IR)−(+)−1−(1−ランス−2−へキシルシ
クロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノール
の合成 H (a)還元工程 H 実施例IA (d)と同様の操作を行い、シクロH \。6H13 実施例IA(a)と同様の行い、1,1.1−トリフル
オロ−2−ヒドロキシ−3−デシンから(E)−1,1
,1−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−3−デセンを得
た。
クロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノール
の合成 H (a)還元工程 H 実施例IA (d)と同様の操作を行い、シクロH \。6H13 実施例IA(a)と同様の行い、1,1.1−トリフル
オロ−2−ヒドロキシ−3−デシンから(E)−1,1
,1−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−3−デセンを得
た。
(b)アシル化工程
Ac
実施例LA(b)と同様の操作を行い、(E)2−アセ
トキシ−1,1,1−)リフルオロ−3−デセンを得た
。
トキシ−1,1,1−)リフルオロ−3−デセンを得た
。
(C)加水分解工程
実施例IA(c)と同様の操作を行い、(2R)−(+
)−(E)−1,1,1−1−リフルオロ−2−ヒドロ
キシ−3−デシンと(2S)−(E)−2−アセトキシ
−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンとを得た。
)−(E)−1,1,1−1−リフルオロ−2−ヒドロ
キシ−3−デシンと(2S)−(E)−2−アセトキシ
−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンとを得た。
(d)シクロプロパン化工程
H
\。6H13
H
0H
マ
(2R)−(+)−(E)−1,1,1−)リフルオロ
−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA (d)と
同様の操作を行った。
−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA (d)と
同様の操作を行った。
得られた(IR)−(+)−1−()ランス−2−へキ
シルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエタ
ノールの物理的性質を以下に示す。
シルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオロエタ
ノールの物理的性質を以下に示す。
分子量 224.27
’H−NMRδ(ppm) 0.72〜1.57(m
、 17H)。
、 17H)。
2.48(bs、 18 )。
3.32(dq、 J=11.9.6.5Hz。
+1.05(d、 J=6.2Hz )3360、
2900 一9F−NMR IR(cm−’) 実施例3B (I S) −(−) −1−(1−ランス−2−へキ
シルシクロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタ
ノールの合成 (c)加水分解工程 Ac マ H マ 実施例3A(C)で得た(2S)−(E)−2−アセト
キシ−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンに実施例
2B (c)の加水分解工程と同様の操作を行った。
2900 一9F−NMR IR(cm−’) 実施例3B (I S) −(−) −1−(1−ランス−2−へキ
シルシクロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタ
ノールの合成 (c)加水分解工程 Ac マ H マ 実施例3A(C)で得た(2S)−(E)−2−アセト
キシ−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンに実施例
2B (c)の加水分解工程と同様の操作を行った。
(d)シクロプロパン化工程
H
マ
(a)還元工程
H
H
マ
H
得られた(23)−(−)−(E)−1,1゜1−トリ
フルオロ−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA
(d)と同様の操作を行い、(1s)−(−)−1−(
)ランス−2−へキシルシクロプロピル)−2,2,2
−1−リフルオロエタノールを得た。
フルオロ−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA
(d)と同様の操作を行い、(1s)−(−)−1−(
)ランス−2−へキシルシクロプロピル)−2,2,2
−1−リフルオロエタノールを得た。
実施例4A
(IR)−(+)−1−(シス−2−へキシルシクロプ
ロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 H 実施例2A(a)と同様の行い、1,1.1−トリフル
オロ−2−ヒドロキシ−3−デシンから(Z)−1,1
,1−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−3−デセンを得
た。
ロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 H 実施例2A(a)と同様の行い、1,1.1−トリフル
オロ−2−ヒドロキシ−3−デシンから(Z)−1,1
,1−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−3−デセンを得
た。
Ac
r3シ
しl’l=1..11
r、 u シif−UN
実施例LA(b)と同様の操作を行い、(Z)−2−ア
セトキシ−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンを得
た。
セトキシ−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンを得
た。
(C)加水分解工程
H
実施例LA(c)と同様の操作を行い、(2R)−(+
)−(Z)−1,1,1−トリフルオロ−2−ヒドロキ
シ−3−デセンと(2S)−(Z)−2−アセトキシ−
1,1,1−)リフルオロ3−デセンとを得た。
)−(Z)−1,1,1−トリフルオロ−2−ヒドロキ
シ−3−デセンと(2S)−(Z)−2−アセトキシ−
1,1,1−)リフルオロ3−デセンとを得た。
(d)シクロプロパン化工程
(2R)−(+)−(z)−1,1,1−)リフルオロ
−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA (cl)
と同様の操作を行った。
−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA (cl)
と同様の操作を行った。
得られた(IR)−(+)−1−(シス−2−へキシル
シクロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタノー
ルの物理的性質を以下に示す。
シクロプロピル)−2,2,2−)リフルオロエタノー
ルの物理的性質を以下に示す。
分子量 224.27
’H−NMRδ(ppm) 0.70〜1.89(m
、 17H)。
、 17H)。
2.28 (、bd、 LH)。
3.52(dq、 J=13.1.6.31(z。
”F−NMR+1.07(d、 J −6,2Hz
)IR(cm−’) 3370. 29
00実施例4B (LS)−(−)−1−、cシス−2−ヘキシルシクロ
プロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノールの合
成 H マ (C)加水分解工程 H マ 実施例4A(c)で得た(2S)−(Z)−2−アセト
キシ−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンに上記実
施例2B (c)と同様の操作を行った。
)IR(cm−’) 3370. 29
00実施例4B (LS)−(−)−1−、cシス−2−ヘキシルシクロ
プロピル)−2,2,2−トリフルオロエタノールの合
成 H マ (C)加水分解工程 H マ 実施例4A(c)で得た(2S)−(Z)−2−アセト
キシ−1,1,1−トリフルオロ−3−デセンに上記実
施例2B (c)と同様の操作を行った。
(d)シクロプロパン化工程
H
マ
(2S) −(−)−(Z)−1,1,1−4リフルオ
ロ−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA(d)と
同様の操作を行い、(IS)−(−)−1−(シス−2
−へキシルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオ
ロエタノールを得た。
ロ−2−ヒドロキシ−3−デセンに実施例IA(d)と
同様の操作を行い、(IS)−(−)−1−(シス−2
−へキシルシクロプロピル)−2,2,2−トリフルオ
ロエタノールを得た。
実施例5
(+) −(1−ランス−2−トリフルオロメチルシク
ロプロピル)フェニルメタノールの合成H (b)アシル化工程 0COCH(CHsh (E)−1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−
4−フェニル−2−ブテン3.OOg(14,8ミリモ
ル)とピリジン1.8m(22,2ミリモル)のジクロ
ロメタン溶液(10d)を水浴で攪拌し、イソブチリル
クロライド2.3d(22,2ミリモル)を5分間で滴
下し、室温で2時間反応させた。これに1規定の塩酸を
加えて反応を停止させ、ジクロロメタンにより抽出した
。
ロプロピル)フェニルメタノールの合成H (b)アシル化工程 0COCH(CHsh (E)−1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−
4−フェニル−2−ブテン3.OOg(14,8ミリモ
ル)とピリジン1.8m(22,2ミリモル)のジクロ
ロメタン溶液(10d)を水浴で攪拌し、イソブチリル
クロライド2.3d(22,2ミリモル)を5分間で滴
下し、室温で2時間反応させた。これに1規定の塩酸を
加えて反応を停止させ、ジクロロメタンにより抽出した
。
次に、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ジクロロメタンを減圧留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離精製した。
ロマトグラフィーで分離精製した。
(C)加水分解工程
OCOCR(CH3)2
実施例IA(c)と同様の操作を行い、(+)−(E)
−1,1,1−1−リフルオロ−4−ヒドロキシ−4−
フェニル−2−ブテンと(E)−4−イソブチリルオキ
シ−1,1,1−1−リフルオロ−4−フェニル−2−
ブテンとヲ得り。
−1,1,1−1−リフルオロ−4−ヒドロキシ−4−
フェニル−2−ブテンと(E)−4−イソブチリルオキ
シ−1,1,1−1−リフルオロ−4−フェニル−2−
ブテンとヲ得り。
(d)シクロプロパン化工程
H
H
(+)−(E)−1,1,1−トリフルオロ−4−ヒド
ロキシ−4−フェニル−2−ブテンに実施例1 (d
)と同様の操作を行った。
ロキシ−4−フェニル−2−ブテンに実施例1 (d
)と同様の操作を行った。
得られた(+) −()ランス−2−トリフルオロメチ
ルシクロプロピル)フェニルメタノールのの物理的性質
を以下に示す。
ルシクロプロピル)フェニルメタノールのの物理的性質
を以下に示す。
分子量 216.20
’H−NMR6(ppm) 0.78〜1.09(m
、 28 )。
、 28 )。
1.36〜1.77(m、 28 )。
1.92 (bs、 IH)。
4.59 (d、 J=4.2Hz、IH)。
7.24〜7.49(m、 5H)
” F−NMR−10,67(d、 J=6.811
z )I R(C1l−’) 3330次
表に各実施例で得たものの光学純度(%e、e)比旋光
度〔α〕0.収率(%)をまとめて示す。
z )I R(C1l−’) 3330次
表に各実施例で得たものの光学純度(%e、e)比旋光
度〔α〕0.収率(%)をまとめて示す。
以上述べたように、本発明る係る光学活性な含フツ素α
−ヒドロキシシクロプロパン化合物は、著しく高い光学
純度を有し、液晶を始め各種の医薬品等、あるいはその
中間体などとして幅広くかつ有効な利用が期待される。
−ヒドロキシシクロプロパン化合物は、著しく高い光学
純度を有し、液晶を始め各種の医薬品等、あるいはその
中間体などとして幅広くかつ有効な利用が期待される。
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2はそれぞれ炭素原子数1〜2の
フッ素置換アルキル基、炭素原子数1〜10のアルキル
基、炭素原子数7〜10のアラルキル基あいは炭素原子
数6〜10のアリール基を示す。ただし、R^1及びR
^2の少なくとも一方は炭素原子数1〜2のフッ素置換
アルキル基を示す。) で表わされることを特徴とする光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20022988A JP2642959B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20022988A JP2642959B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249742A true JPH0249742A (ja) | 1990-02-20 |
| JP2642959B2 JP2642959B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=16420960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20022988A Expired - Fee Related JP2642959B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2642959B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6096908A (en) * | 1992-01-31 | 2000-08-01 | Kashima Oil Company | Optically active fluorinated compounds |
| KR100335134B1 (ko) * | 1995-01-21 | 2002-10-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 시클로프로판화합물및그제조방법과이를이용한액정화합물 |
| DE102017213259A1 (de) | 2016-08-04 | 2018-02-08 | Fanuc Corporation | Gebersignalverarbeitungseinrichtung, Geber und Signalverarbeitungsverfahren und Programm |
-
1988
- 1988-08-12 JP JP20022988A patent/JP2642959B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6096908A (en) * | 1992-01-31 | 2000-08-01 | Kashima Oil Company | Optically active fluorinated compounds |
| KR100335134B1 (ko) * | 1995-01-21 | 2002-10-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 시클로프로판화합물및그제조방법과이를이용한액정화합물 |
| DE102017213259A1 (de) | 2016-08-04 | 2018-02-08 | Fanuc Corporation | Gebersignalverarbeitungseinrichtung, Geber und Signalverarbeitungsverfahren und Programm |
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|---|---|
| JP2642959B2 (ja) | 1997-08-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |