JPH0250104A - 金属反射鏡の製造方法 - Google Patents
金属反射鏡の製造方法Info
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- JPH0250104A JPH0250104A JP16937788A JP16937788A JPH0250104A JP H0250104 A JPH0250104 A JP H0250104A JP 16937788 A JP16937788 A JP 16937788A JP 16937788 A JP16937788 A JP 16937788A JP H0250104 A JPH0250104 A JP H0250104A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は金属反射鏡、さらに詳しくは耐腐食性に優れた
金属反射鏡に関する。
金属反射鏡に関する。
従来技術およびその課題
金属反射鏡は、ガラス基板あるいは樹脂基板表面上にア
ルミニウム金属等を蒸着してなり、さらるために該アル
ミニウム金属蒸着層上に一酸化ケイ素や二酸化ケイ素よ
りなる厚さ約０．５λｏ（λｏは設計主波長を表す）の
保護膜が形成される。
ルミニウム金属等を蒸着してなり、さらるために該アル
ミニウム金属蒸着層上に一酸化ケイ素や二酸化ケイ素よ
りなる厚さ約０．５λｏ（λｏは設計主波長を表す）の
保護膜が形成される。
しかし、基板として平面状あるいはそれに近い形状のも
のを使用し、その表面上に従来法に従いアルミニラ蒸着
層および厚さ約０．５λｏの保護膜を形成した金属反射
鏡は、目的とする耐傷性および耐腐食性が得られるが、
第１図に示したようなダハ型状の基板上に、従来法に従
い通常の蒸着装置を使用し、上記したように、アルミニ
ウム蒸着層を設け、さらに厚さ０．５λｏの保護層を設
けＩ；金属反射鏡はアルミニウムの耐腐食性に問題があ
り、その腐食は高温高湿下で特に著しい。
のを使用し、その表面上に従来法に従いアルミニラ蒸着
層および厚さ約０．５λｏの保護膜を形成した金属反射
鏡は、目的とする耐傷性および耐腐食性が得られるが、
第１図に示したようなダハ型状の基板上に、従来法に従
い通常の蒸着装置を使用し、上記したように、アルミニ
ウム蒸着層を設け、さらに厚さ０．５λｏの保護層を設
けＩ；金属反射鏡はアルミニウムの耐腐食性に問題があ
り、その腐食は高温高湿下で特に著しい。
腐食の防止に関しては、例えば特開昭５４−２４０４６
号公報が知られている。上記技術は空気と金属層との間
に高充填率の物質を蒸着することにより腐食の問題を解
決するものであり、本願がアルミニウムの酸化被膜によ
り腐食を防止するのとは異なる。
号公報が知られている。上記技術は空気と金属層との間
に高充填率の物質を蒸着することにより腐食の問題を解
決するものであり、本願がアルミニウムの酸化被膜によ
り腐食を防止するのとは異なる。
にこの金属反射鏡に耐傷性や耐腐食性等を持たせ発明が
解決しようとする課題 本発明は上記したような問題点を解決し、従来の蒸着装
置等を使用してダハ形状の基板を使用して金属反射鏡を
構成した場合でも耐傷性および耐腐食性に優れている金
属反射鏡を提供することを目的とする。
解決しようとする課題 本発明は上記したような問題点を解決し、従来の蒸着装
置等を使用してダハ形状の基板を使用して金属反射鏡を
構成した場合でも耐傷性および耐腐食性に優れている金
属反射鏡を提供することを目的とする。
上記目的は、アルミニウム蒸着層上に設ける保護層の厚
さを従来の約０．５λｏに比べてごく薄くすることによ
り達成される。
さを従来の約０．５λｏに比べてごく薄くすることによ
り達成される。
課題を解決するための手段
すなわち、本発明は、基板上に形成した蒸着膜において
、空気側からみて、光学的膜厚が０．０３〜０．１５λ
ｏ（λｏは設計主波長を表す）であるケイ素の酸化物あ
るいは７ツ化マグネシウムからなる第１層、および機械
的膜厚が５００〜２０００人のアルミニウムからなる第
２層を有する金属反射鏡に関する。
、空気側からみて、光学的膜厚が０．０３〜０．１５λ
ｏ（λｏは設計主波長を表す）であるケイ素の酸化物あ
るいは７ツ化マグネシウムからなる第１層、および機械
的膜厚が５００〜２０００人のアルミニウムからなる第
２層を有する金属反射鏡に関する。
本発明の金属反射鏡は、基板上に少なくともアルミニウ
ム蒸着層およびケイ素の酸化物あるいはフッ化マグネシ
ウムの蒸着層の２層をその順に設けてなる。本発明にお
いては、空気側に存在するケイ素の酸化物あるいはフッ
化マグネシウムの蒸着層を第１層、アルミニウム蒸着層
を第２層とする。
ム蒸着層およびケイ素の酸化物あるいはフッ化マグネシ
ウムの蒸着層の２層をその順に設けてなる。本発明にお
いては、空気側に存在するケイ素の酸化物あるいはフッ
化マグネシウムの蒸着層を第１層、アルミニウム蒸着層
を第２層とする。
基板の材質としては、特に限定されるものではなく、例
えば各種のガラスあるいは一脂基板等を使用することが
でき、係る基板上に第２層および１１層を設ける。
えば各種のガラスあるいは一脂基板等を使用することが
でき、係る基板上に第２層および１１層を設ける。
第２層はアルミニウム金属を蒸着することにより、機械
的膜厚が５００Ａ〜２０００Ａとなるように設ける。そ
の膜厚が５００人より薄いと光が透過して反射率が低下
し、２０００人より厚いとクラックが生じやすい。
的膜厚が５００Ａ〜２０００Ａとなるように設ける。そ
の膜厚が５００人より薄いと光が透過して反射率が低下
し、２０００人より厚いとクラックが生じやすい。
第１層は一酸化ケイ素あるいは二酸化ケイ素等のケイ素
の酸化物あるいはフッ化マグネシウムを蒸着する。それ
らの物質を第１層に使用するのは特に第２層との関係で
反射率の低下が小さいからである。
の酸化物あるいはフッ化マグネシウムを蒸着する。それ
らの物質を第１層に使用するのは特に第２層との関係で
反射率の低下が小さいからである。
ｗＩ１層は光学的膜厚として０．０３〜０，１５λｏ（
λｏは設計主波長を表す）になるように設ける。
λｏは設計主波長を表す）になるように設ける。
１１１層の膜厚が０．０３λ・より薄いと表面硬度が不
足し、金属反射鏡の表面に傷が付きやすくなる。
足し、金属反射鏡の表面に傷が付きやすくなる。
一方、膜厚が０．１５λｏより厚いと第２層のアルミニ
φム金属蒸着層表面でのアルミニウムの酸化被膜の形成
が阻害され、得られる金属反射鏡は耐腐食性に劣るもの
となる。
φム金属蒸着層表面でのアルミニウムの酸化被膜の形成
が阻害され、得られる金属反射鏡は耐腐食性に劣るもの
となる。
第１層および第２層の蒸着層は、公知の蒸着法および蒸
着装置を使用することができるが、その際、例えば抵抗
加熱法により蒸気化された蒸着状物質の基板への入射角
度に注意することが重要である。例えば、平板状の基板
に蒸着する場合を第２図を参号にしてそのことを説明す
る。第２図中、（１）は蒸着層を形成しようとする、基
板で、矢印（２）は抵抗加熱等の手段で蒸気化された物
質の基板（１）上への入射方向を示し、その矢印と基板
における法線（３）とのなす角度を蒸着物質の入射角度
θとする。
着装置を使用することができるが、その際、例えば抵抗
加熱法により蒸気化された蒸着状物質の基板への入射角
度に注意することが重要である。例えば、平板状の基板
に蒸着する場合を第２図を参号にしてそのことを説明す
る。第２図中、（１）は蒸着層を形成しようとする、基
板で、矢印（２）は抵抗加熱等の手段で蒸気化された物
質の基板（１）上への入射方向を示し、その矢印と基板
における法線（３）とのなす角度を蒸着物質の入射角度
θとする。
蒸着物質の入射角度θが０度に近いほど、基板上には充
填密度の高い膜が形成され、入射角度θが９０度に近く
成る程充填密度の低い瞑が形成される。従って、入射角
度θが０度に近い条件で第１層が形成される場合は、得
られる蒸着膜は充填密度の高い膜であるので、第１層が
第２．層のアルミニウム蒸着層への水蒸気の侵入を妨げ
ることがセサ、第２層のアルミニウム蒸着層の腐食を防
止する。さらにアルミニウム蒸着層の劣化による反射率
低下が防止されるｉ しかし、入射角度θが次第に大きくなり、９０・度に近
くなれば成る程、特に入射角度が２０度以上になると、
蒸着層の充填率が低くなり、高充填率で形成された蒸着
層と同じよう優れた特性、特に耐腐食性を期待すること
ができない。従来の方法に従って、厚さが０．５０λｏ
程度であり、低い充填率で形成された第１層は酸素が透
過するよりも、水分が通りやすいためと考えられ、特に
高温高湿下においては１１１層を通過した水蒸気が、ア
ルミニウムの第２層に侵入し、アルミニウムを腐食させ
ることが顕著である。そこで、このような腐食を防止す
るために種々検討した結果、上記したようにｗ１１層の
厚さを従来より大幅に薄くすることにより、対腐食性、
耐傷性に優れた金属反射鏡とすることができる。これは
第２層のアルミニウム層表面上に酸素の第１層を通過し
ての侵入が水蒸気のその侵入よりも容易に−なり、その
酸素がアルミニウムと化合し、水蒸気に対して対腐食性
のあるアルミニウム酸化物が第２層表面上に被服形成さ
れるからであると考えられる。
填密度の高い膜が形成され、入射角度θが９０度に近く
成る程充填密度の低い瞑が形成される。従って、入射角
度θが０度に近い条件で第１層が形成される場合は、得
られる蒸着膜は充填密度の高い膜であるので、第１層が
第２．層のアルミニウム蒸着層への水蒸気の侵入を妨げ
ることがセサ、第２層のアルミニウム蒸着層の腐食を防
止する。さらにアルミニウム蒸着層の劣化による反射率
低下が防止されるｉ しかし、入射角度θが次第に大きくなり、９０・度に近
くなれば成る程、特に入射角度が２０度以上になると、
蒸着層の充填率が低くなり、高充填率で形成された蒸着
層と同じよう優れた特性、特に耐腐食性を期待すること
ができない。従来の方法に従って、厚さが０．５０λｏ
程度であり、低い充填率で形成された第１層は酸素が透
過するよりも、水分が通りやすいためと考えられ、特に
高温高湿下においては１１１層を通過した水蒸気が、ア
ルミニウムの第２層に侵入し、アルミニウムを腐食させ
ることが顕著である。そこで、このような腐食を防止す
るために種々検討した結果、上記したようにｗ１１層の
厚さを従来より大幅に薄くすることにより、対腐食性、
耐傷性に優れた金属反射鏡とすることができる。これは
第２層のアルミニウム層表面上に酸素の第１層を通過し
ての侵入が水蒸気のその侵入よりも容易に−なり、その
酸素がアルミニウムと化合し、水蒸気に対して対腐食性
のあるアルミニウム酸化物が第２層表面上に被服形成さ
れるからであると考えられる。
本発明に従うと、第１図に示したダハ形状等のの複雑な
基板を使用して耐腐食性および耐優性に優れた金属反射
鏡を得ることができる。従来、ダハ形状の等の複雑な形
状の金属反射鏡を作製する場合は、平板状等の簡単な形
状の金属反射鏡を作製し、それを組み立てることにより
作製していたが、本発明によりそのような複雑な形状の
金属反射鏡でもその形状のまま蒸着を行ない、耐傷性お
よび耐腐食性に優れた金属反射鏡を作製することができ
、また従来のような組み立て工程を必要としない。
基板を使用して耐腐食性および耐優性に優れた金属反射
鏡を得ることができる。従来、ダハ形状の等の複雑な形
状の金属反射鏡を作製する場合は、平板状等の簡単な形
状の金属反射鏡を作製し、それを組み立てることにより
作製していたが、本発明によりそのような複雑な形状の
金属反射鏡でもその形状のまま蒸着を行ない、耐傷性お
よび耐腐食性に優れた金属反射鏡を作製することができ
、また従来のような組み立て工程を必要としない。
本発明の金属反射鏡においては第２層の下にさらに一酸
化ケイ素からなる第３層を設け、基板と蒸着膜との付着
力の向上等を図ってもよい。
化ケイ素からなる第３層を設け、基板と蒸着膜との付着
力の向上等を図ってもよい。
以下に比較例および実施例を挙げて本発明を説明する。
坦箆！
インジェクション成形された第１図に示した形状のポリ
カーボネート樹脂基板（第１図において角度θ″９０度
）の上に、第３図に示した蒸着装置を使用して、第３層
、第２層および第１層を形成しＩこ。
カーボネート樹脂基板（第１図において角度θ″９０度
）の上に、第３図に示した蒸着装置を使用して、第３層
、第２層および第１層を形成しＩこ。
第３図中、（７）は排気管（６）を有する真空チャンバ
ーであり、真空チャンバー内は排気管を通じて脱気され
る。（４）および（５）は抵抗加熱電極であり、該電極
間には蒸着物質の容器を兼ねる抵抗加熱容器（ｌＯ）お
よび（１１）が取り付けられている。該抵抗加熱容器（
ｌＯ）、（ｌ ｌ）は該電極（４）、（５）から電力を
供給され、抵抗加熱容器（Ｉ Ｏ）、（１１）中の蒸着
物質を加熱気化させる。抵抗加熱容器（ｌＯ）、（１１
）をおおって、回転可能な回転ドーム（８）が設けられ
、該回転ドーム（８）の上に被蒸着体である基板（９）
が載置される。回転ドームは蒸着操作中回転し、基板表
面上に均一な蒸着膜が形成される。
ーであり、真空チャンバー内は排気管を通じて脱気され
る。（４）および（５）は抵抗加熱電極であり、該電極
間には蒸着物質の容器を兼ねる抵抗加熱容器（ｌＯ）お
よび（１１）が取り付けられている。該抵抗加熱容器（
ｌＯ）、（ｌ ｌ）は該電極（４）、（５）から電力を
供給され、抵抗加熱容器（Ｉ Ｏ）、（１１）中の蒸着
物質を加熱気化させる。抵抗加熱容器（ｌＯ）、（１１
）をおおって、回転可能な回転ドーム（８）が設けられ
、該回転ドーム（８）の上に被蒸着体である基板（９）
が載置される。回転ドームは蒸着操作中回転し、基板表
面上に均一な蒸着膜が形成される。
以上の構成を有する蒸着装置を使用し、上記基板上に以
下に示す第１層〜第３層の蒸着層を形成し金属反射鏡を
得た。
下に示す第１層〜第３層の蒸着層を形成し金属反射鏡を
得た。
第３層として真空度Ｉ Ｘ ｌ Ｏ−’Ｔｏｒｒで光学
的膜厚０．２５λｏ（λｏ（設計主波長）は６５０ｎｍ
である。以下において同じ）の−酸化ケイ素の層を上記
基板表面上に蒸着形成した。第２層として真空度２ Ｘ
Ｉ Ｏ−’Ｔｏｒｒで機械的膜厚１０００Ａのアルミ
ニウムの層を第３層上に蒸着形成した。第１層として真
空度２．５Ｘ Ｉ Ｏ−’Ｔｏｒｒで光学的膜厚０．５
０λｏの−酸化ケイ素の層を第２層の上に蒸着形成した
。
的膜厚０．２５λｏ（λｏ（設計主波長）は６５０ｎｍ
である。以下において同じ）の−酸化ケイ素の層を上記
基板表面上に蒸着形成した。第２層として真空度２ Ｘ
Ｉ Ｏ−’Ｔｏｒｒで機械的膜厚１０００Ａのアルミ
ニウムの層を第３層上に蒸着形成した。第１層として真
空度２．５Ｘ Ｉ Ｏ−’Ｔｏｒｒで光学的膜厚０．５
０λｏの−酸化ケイ素の層を第２層の上に蒸着形成した
。
衷凰匹
上記比較例で使用した装置および基板と同様のものを使
用し、以下に示した第１層〜第３層を有する金属反射鏡
を得た。
用し、以下に示した第１層〜第３層を有する金属反射鏡
を得た。
第３層として真空度Ｉ Ｘ ｌ Ｏ−’Ｔｏｒｒで光学
的膜厚０．２５λｏの−酸化ケイ素の層を上記基板表面
上に蒸着形成した。第２層として真空度２Ｘ１０−’Ｔ
ｏｒｒで機械的膜厚１０００人のアルミニウムの層を第
３層上に蒸着形成した。第１層として真空度２．５Ｘ
Ｉ ０−４Ｔｏｒｒで光学的膜厚０．０９λｏの−酸化
ケイ素の層を第２層の上に蒸着形成した。
的膜厚０．２５λｏの−酸化ケイ素の層を上記基板表面
上に蒸着形成した。第２層として真空度２Ｘ１０−’Ｔ
ｏｒｒで機械的膜厚１０００人のアルミニウムの層を第
３層上に蒸着形成した。第１層として真空度２．５Ｘ
Ｉ ０−４Ｔｏｒｒで光学的膜厚０．０９λｏの−酸化
ケイ素の層を第２層の上に蒸着形成した。
匠囁
上記比較例および実施例で得られた金属反射鏡について
以下の試験を行った。
以下の試験を行った。
ａ）耐溶剤性試験・・・７０ンソルプとアルコールの混
合溶液を浸したレンズ拭き紙（シルボン紙）を使用し、
０ 、５〜ｌ ｋｇ／ ｃｍ”の圧で１０往復こすり、
金属反射鏡表面に傷等の異常がないかどうかを調べた。
合溶液を浸したレンズ拭き紙（シルボン紙）を使用し、
０ 、５〜ｌ ｋｇ／ ｃｍ”の圧で１０往復こすり、
金属反射鏡表面に傷等の異常がないかどうかを調べた。
結果を表１中に示した。
表中○は試験後変化が認められなかったことを示す。
ｂ）耐温湿試験・・・温度７０℃、湿度８０％に調整し
た恒温槽中に１００時間放置し、金属反射鏡の反射率を
調べた。結果を表１中に示めした。
た恒温槽中に１００時間放置し、金属反射鏡の反射率を
調べた。結果を表１中に示めした。
表中○は試験後変化が認められなかったことを示す。
Ｃ）温度−３０℃雰囲気から温度７０℃の雰囲気下に置
く工程を１０回連続してサイクル試験を行った。結果を
表１に示した。
く工程を１０回連続してサイクル試験を行った。結果を
表１に示した。
表中○は試験径変化が認められなかったことを示す。
以上の試験結果を表１に示した。
表！
第１図は実施例および比較例で用いた基板の形状を示す
図である。 第２図は蒸着物質の入射角度を説明するための図である
。 第３図は蒸着装置の１例を示す該略構成を示す図である
。
図である。 第２図は蒸着物質の入射角度を説明するための図である
。 第３図は蒸着装置の１例を示す該略構成を示す図である
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上に形成した蒸着膜において、空気側からみて
、光学的膜厚が０．０３〜０．１５λ＿ｏ（λ＿ｏは設
計主波長を表す）であるケイ素の酸化物あるいはフッ化
マグネシウムからなる第１層、および機械的膜厚が５０
０〜２０００Åのアルミニウムからなる第２層を有する
金属反射鏡。 ２、基板が合成樹脂である請求項１記載の金属反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63169377A JP2780174B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-07-07 | 金属反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11866188 | 1988-05-16 | ||
| JP63-118661 | 1988-05-16 | ||
| JP63169377A JP2780174B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-07-07 | 金属反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0250104A true JPH0250104A (ja) | 1990-02-20 |
| JP2780174B2 JP2780174B2 (ja) | 1998-07-30 |
Family
ID=26456561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63169377A Expired - Lifetime JP2780174B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-07-07 | 金属反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2780174B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7465960B2 (en) | 2003-11-14 | 2008-12-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Submount for light emitting/receiving device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53133747U (ja) * | 1977-03-30 | 1978-10-23 | ||
| JPS5872106A (ja) * | 1981-10-24 | 1983-04-30 | Matsushita Electric Works Ltd | 光反射体 |
| JPS61196221A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Canon Inc | 回転多面鏡及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-07-07 JP JP63169377A patent/JP2780174B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53133747U (ja) * | 1977-03-30 | 1978-10-23 | ||
| JPS5872106A (ja) * | 1981-10-24 | 1983-04-30 | Matsushita Electric Works Ltd | 光反射体 |
| JPS61196221A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Canon Inc | 回転多面鏡及びその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7465960B2 (en) | 2003-11-14 | 2008-12-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Submount for light emitting/receiving device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2780174B2 (ja) | 1998-07-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090515 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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