JPH02501774A - Single Schottky diode liquid crystal light valve and method - Google Patents

Single Schottky diode liquid crystal light valve and method

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JPH02501774A
JPH02501774A JP63508483A JP50848388A JPH02501774A JP H02501774 A JPH02501774 A JP H02501774A JP 63508483 A JP63508483 A JP 63508483A JP 50848388 A JP50848388 A JP 50848388A JP H02501774 A JPH02501774 A JP H02501774A
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liquid crystal
light valve
layer
schottky
light
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JP63508483A
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Japanese (ja)
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エフロン,ウズイ
ブラツシ,パウル・オー
グリンベルグ,ジヤン
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ヒユーズ・エアクラフト・カンパニー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 単一ショットキーダイオード液晶光バルブおよび方法発明の背景 1.発明の分野 この発明は、液晶光バルブ、特に光導電体層内の多数キャリアの減少に基づく光 バルブと、その動作方法に関する。[Detailed description of the invention] Single Schottky Diode Liquid Crystal Light Valve and Method Background of the Invention 1. field of invention This invention relates to a liquid crystal light valve, in particular a light valve based on the reduction of majority carriers within a photoconductor layer. Concerning valves and how they operate.

2、関連技術の説明 一般に電子・光媒体として液晶を使用している光バルブは、光バルブに適用され る入力信号パターンに従って読出しビームを空間的に変調するために使用される 。それらは大きい強度の読出しビームを制御することによって、入射パターンを 非常に大きく増幅するのに、また空間的に変調されたインコヒーレントな入射放 射を同様の空間的変調によってコヒーレントな読出しレーザービームに変換する のに、光学的データプロセス、ウナ今波長変換のためにまたは分離した読出しビ ーム上の対応する空間的変調のための入力信号パターンの変換を含む他の目的の ために使用され得る。2. Explanation of related technology Generally, light valves that use liquid crystal as an electronic/optical medium are applied to light valves. used to spatially modulate the readout beam according to the input signal pattern . They control the incidence pattern by controlling a readout beam of high intensity. very large amplification and spatially modulated incoherent incident radiation. into a coherent readout laser beam through similar spatial modulation. However, for optical data processing, there is no need for wavelength conversion or separate readout signals. for other purposes, including transforming the input signal pattern for corresponding spatial modulation on the can be used for

典型的な光バルブシステムの簡易化したブロック図は第1図に示されている。入 射ビーム2は、陰極線管4の画面のような供給源から発生され、光バルブ8の入 射側上へレンズ6を通して映像される。光バルブの他方の側で読出しビーム10 はレーザ12によって発生され、光バルブの読出し鋼上へ偏光ビームスプリッタ 14によって向けられる。入射ビーム2は、光バルブ8内で液晶層の空間的偏光 を確立し、そしてこの層は光バルブからの読出しビームの反射を制御する。A simplified block diagram of a typical light valve system is shown in FIG. Enter The radiation beam 2 is generated from a source such as the screen of a cathode ray tube 4 and is input to a light valve 8. The image is projected through the lens 6 onto the emission side. Readout beam 10 on the other side of the light valve is generated by a laser 12 and a polarizing beam splitter onto the readout steel of the light valve. Directed by 14. The incident beam 2 is spatially polarized in the liquid crystal layer within the light valve 8. , and this layer controls the reflection of the read beam from the light valve.

読出しビームの一部分は、液晶分子が入力放射によって発生した電圧に応じて回 転されている液晶層内の場所へ入射する。A portion of the readout beam is rotated by the liquid crystal molecules in response to the voltage generated by the input radiation. The light is incident on a location within the liquid crystal layer that is being rotated.

そして、これらの部分は、ビームスプリッタ14を通り抜ける出力ビーム16と して表わしている後方反射光である。この例では、光バルブ内の液晶は、読出し ビームの空間的強度を対応し増幅された入射ビームの強度パターンに変調する。These portions are then combined with the output beam 16 passing through the beam splitter 14. This is the back reflected light expressed as . In this example, the liquid crystal inside the light valve reads The spatial intensity of the beam is modulated into a corresponding amplified intensity pattern of the incident beam.

光バルブの主な特徴は、入力感度、出力、そして分解能変調(コントラスト比) 、さらに出力の均一性とフレーム率である。一方、高コントラスト、適当な輝度 、カラー能力は、指令および制御表示のために必要とされる。極度の高輝度と分 解能とさらに高速レスポンスは、フライトシミュレーション応用のために必要と される。光学的データプロセス応用は、波面の歪みがほとんど無い(出力均一性 )ことと高回折効率を必要とする。さらに、リアルタイムポータプル情景相関装 置のために高フレーム率、広いスペクトル範囲、小さな寸法、低電力消費も必要 とされる。これら必要なものの大部分は、ヒユーズ・エアクラフト・カンパニー によって開発された硫化カドミウム液晶光バルブによって満たされる。この装置 は、J、Grinberg、 A、Jacobson、 W、P、BIeha  、 L、Miller、 L、Fraas 。The main characteristics of a light valve are input sensitivity, output, and resolution modulation (contrast ratio). , as well as output uniformity and frame rate. Meanwhile, high contrast, moderate brightness , color capability is required for command and control displays. super bright and minute Higher resolution and even faster response are required for flight simulation applications. be done. Optical data processing applications have almost no wavefront distortion (output uniformity). ) and require high diffraction efficiency. In addition, real-time portal scene correlation equipment High frame rates, wide spectral coverage, small dimensions, and low power consumption are also required for It is said that Most of these necessities were provided by Hughes Aircraft Company. filled by a cadmium sulfide liquid crystal light valve developed by. this device J, Grinberg, A, Jacobson, W, P, BIeha. , L. Miller, L. Fraas.

D、Bosvell 、 G、Myerによる文献“A New Real−T iIIle Non−Coherent to Coherent Light  Io+age Converter −Th’eHybrid Field  Ef’f’ect Liquid Crystal Light Valve  ”0ptical Engineering 14 217頁(1975)およ びJ、Grinberg。Reference “A New Real-T” by D. Bosvell and G. Myer IIIle Non-Coherent to Coherent Light Io+age Converter-Th’eHybrid Field Ef’f’ect Liquid Crystal Light Valve "0ptical Engineering 14 p. 217 (1975) and and J. Grinberg.

讐、P、BIeha 、A、Jacobson、A、M、Lackner 、G 、Myer、L、Miller。A, P, Bieha, A, Jacobson, A, M, Lackner, G , Myer, L., Miller.

J、Margerum、 L、Fraas 、 D、Boswellによる文献 ″Photoactivated Birefringent Light−C rystal LightValve for Co1or Syibolog y Display ’ IEEE TransactionsElectro nic Devices ED−22775頁(1975)に記載されている。References by J. Margerum, L. Fraas, D. Boswell ″Photoactivated Birefringent Light-C rystal LightValve for Co1or Syibolog y Display ’ IEEE TransactionsElectro nic Devices ED-22775 page (1975).

CdSベース光バルブの主な欠点はレスポンスタイムが遅いことである。第2世 代であるシリコンベース液晶光バルブは、CdSベース光バルブの利点を保持し かなり速いレスポンスタイムを有するよう開発された。シリコンベース装置は金 属酸化物半導体(MOS)構造を使用し、文献(U、Ef’ron 、 J、G rinberg、 P、0.Braatz、 M、J、Little、 P、G 。The main drawback of CdS-based light valves is slow response time. 2nd generation Silicon-based liquid crystal light valves retain the advantages of CdS-based light valves. Developed to have fairly fast response times. Silicon-based devices are gold A genus oxide semiconductor (MOS) structure is used, and the literature (U, Efron, J, G rinberg, P, 0. Braatz, M.J., Little, P.G. .

Re1f、 R,N、5chvartzによる“The’ 5il11con− Liquid CrystalLight Valve″Journal of ’ Applied Physics 57 (4)135B−68頁、198 5年)に記載されている。この文献も前記光バルブの研究の成果のいくつかを要 約している。“The’ 5il11con-” by Re1f, R,N, 5chvartz Liquid Crystal Light Valve”Journal of ' Applied Physics 57 (4) 135B-68 pages, 198 5 years). This document also summarizes some of the results of the research on light valves. I have a contract.

MOS光バルブの内部構造は第2図に示されている。装置の右手側の入射映像ビ ームは参照番号18に示される。一方読出しビーム20は、装置の左手側に向け られそして装置の左手側で反射される。高比抵抗シリコン光導電体22の層は薄 いP+バック接点層24をその読出し側に形成されている。The internal structure of the MOS light valve is shown in FIG. Incoming image view on the right hand side of the device. The system is shown at reference numeral 18. On the other hand, the readout beam 20 is directed towards the left hand side of the device. and reflected on the left-hand side of the device. The layer of high resistivity silicon photoconductor 22 is thin. A p+ back contact layer 24 is formed on its read side.

このバック接点は、キャリアが発生される装置の横断面のどんな点においても大 変小さい負荷を与えるために高いシート導電率を与える。5i02酸化層26は 、光学的セメント30によって酸化層に付着した光フアイバプレート28と共に バック接点24の入射側上に設けられる。DCバイアスn型ダイオード保護リン グ32は、装置の有効範囲内に周辺の少数キャリアの注入されるのを防ぐために シリコン光導電体ウェハ22のバック接点24と反対側の縁部に注入されている 。5i02ゲ一ト絶縁層34は、シリコン光導電体ウェハ22の読出し側上に形 成されている。絶縁した電位ウェルは、n型マイクロダイオードアレイ36によ ってSt/5i02境界面に形成される。これは境界面に存在する信号電子の横 への拡がりを妨げる。This back contact is large at any point in the cross-section of the equipment where carriers are generated. Gives high sheet conductivity to give small loads. 5i02 oxide layer 26 is , with an optical fiber plate 28 attached to the oxide layer by an optical cement 30. It is provided on the input side of the back contact 24. DC bias n-type diode protection ring 32 to prevent peripheral minority carriers from being injected into the effective range of the device. The silicon photoconductor wafer 22 is implanted at the edge opposite the back contact 24. . A 5i02 gate insulating layer 34 is formed on the readout side of the silicon photoconductor wafer 22. has been completed. The isolated potential well is connected by an n-type microdiode array 36. is formed at the St/5i02 interface. This is the side of the signal electrons present at the interface. prevent the spread of

一様な薄膜誘電体ミラー38は、広帯域の反射率を与え、また光導電体から高い 強度の読出しビームを阻止するための光学的絶縁を与えるための酸化層34の読 出し側上に存在する。速いレスポンスの液晶40の薄膜は、ミラー38の読出し 側上の光を変調する電気・光学層として使用される。前面のガラス板42は、液 晶に隣接した酸化錫インジウム(ITO)対向電極44に覆われる。ガラス板4 0の前面は反射防止被覆46によって覆われ、全構造は気密の陽極酸化アルミニ ウムホルダ内部で組立てられる。A uniform thin film dielectric mirror 38 provides broadband reflectance and also provides high Readout oxide layer 34 to provide optical isolation to block the intense readout beam. Exists on the output side. The thin film of the liquid crystal 40 with fast response is used for reading out the mirror 38. Used as an electro-optical layer to modulate the light on the side. The front glass plate 42 is It is covered with an indium tin oxide (ITO) counter electrode 44 adjacent to the crystal. glass plate 4 The front face of the 0 is covered by an anti-reflective coating 46 and the entire structure is made of airtight anodized aluminum. It is assembled inside the um holder.

シリコン先導電体22は、MOS構造を形成するための酸化層34と薄い金属電 極被覆44に結合している。絶縁体液晶と酸化物とミラーの結合体はMOS構造 の絶縁体ゲートとして作用する。The silicon lead conductor 22 includes an oxide layer 34 and a thin metal conductor to form a MOS structure. It is coupled to the polar sheath 44 . The combination of insulating liquid crystal, oxide, and mirror has a MOS structure. acts as an insulator gate.

動作において、交流電圧源48は一方をアルミニウムバック接点パッド50によ ってバック接点24に接続され、反対の側を対向電極44に接続される。2つの 電極にまたがる電圧はMOS構造に空乏(活性)と蓄積(不活性)相としてかわ るがわる動作させる。空乏層において、高比抵抗シリコン光導電層22は空乏状 態にさせられ、そして入射光ビームユ8によって発生した電子ホール対は光導電 体中の電界により駆動されて除去され、そのため液晶を活性化する信号電流を生 成する。空乏領域の電界は、入射側から読出し側へ信号電荷を進ませる、ゆえに 入射映像の空間の分解能を維持する。In operation, AC voltage source 48 is connected on one side by aluminum back contact pad 50. The other side is connected to the back contact 24, and the opposite side is connected to the counter electrode 44. two The voltage across the electrodes is divided into depletion (active) and accumulation (inactive) phases in the MOS structure. make it work in turn. In the depletion layer, the high resistivity silicon photoconductive layer 22 is in a depletion state. The electron-hole pairs generated by the incident light beam 8 are photoconductive. Driven by an electric field throughout the body, it is removed, thus producing a signal current that activates the liquid crystal. to be accomplished. The electric field in the depletion region causes the signal charge to advance from the input side to the readout side, so Maintain the spatial resolution of the incident image.

偏光読出しビーム20はガラス層42を通って光バルブに入り、液晶層を通過し 誘電体ミラー38によって後方反射され、液晶を通って逆行させる。光導電層2 2の各画素の導電率はその画素の入射ビーム18の強度によって変化するから、 液晶の対応する画素にまたがる電圧を変える分圧器効果は入射光の空間の強度に 従って生じる。よく知られているように、どんな場所でも液晶は加える電圧に従 ってそれら自身で一定方向に配向される。どんな特有な場所でも読出し光偏光に 関して一定方向に配向された液晶は、その場所の光バルブを反射して戻す読出し 光の量を決定する。従って、入射光の空間の強度パターンは、液晶層内の読出し ビームのための光バルブの空間反射率を制御する空間の液晶の配向バターしに移 される。The polarized readout beam 20 enters the light valve through the glass layer 42 and passes through the liquid crystal layer. It is reflected back by dielectric mirror 38 and travels back through the liquid crystal. Photoconductive layer 2 Since the conductivity of each pixel in 2 varies depending on the intensity of the beam 18 incident on that pixel, The voltage divider effect, which changes the voltage across corresponding pixels of the liquid crystal, affects the spatial intensity of the incident light. Therefore arises. As is well known, liquid crystals are subject to the voltage applied to them no matter where they are placed. They themselves are oriented in a certain direction. Readout light polarization in any unique location A liquid crystal oriented in a certain direction with respect to the readout reflects the light bulb back at that location. Determine the amount of light. Therefore, the spatial intensity pattern of the incident light is determined by the readout within the liquid crystal layer. Transfer the spatial liquid crystal orientation butter to control the spatial reflectance of the light valve for the beam. be done.

活性光バルブ動作は空乏層の間のみ起こる。供給された電圧の極性を反対にして 、それにより液晶を通る多少のDC電流を妨げるために空乏周期の間で短い堆積 周期に変化を与えることが必要である。なぜなら液晶はDC電流の下で分解する 傾向があるからである。Active light valve operation occurs only during the depletion layer. Reverse the polarity of the supplied voltage , thereby short deposition between depletion periods to prevent some DC current through the liquid crystal. It is necessary to vary the period. Because liquid crystal decomposes under DC current This is because there is a tendency.

光導電体層22は光感度が高いので、誘電体ミラー/光陰止層38は、他の場合 には信号電荷を取除く光導電体中の発生する空間的分解のされていないキャリア から高い強度の読出し光を、妨げることが必要とされる。典型的な誘電体ミラー /光陰止層38は、誘電体ミラー/光陰止層を通る光の漏れが信号電荷に近付か ず、または越えることがないようにするために多数のキャリアが活性相の間に堆 積するために約106またはそれ以上の率によって読出しビームを減衰しなけれ ばならない。このような能力を有する誘電体ミラーを製作するのは全く困難であ る。たとえ10フの減衰が達成されても、いくつかの応用は大きな減衰を必要と する。そのため十分な誘電体ミラーは現在入手できない。Since the photoconductor layer 22 is highly photosensitized, the dielectric mirror/light blocking layer 38 is is the spatially unresolved carrier generated in the photoconductor that removes the signal charge. It is necessary to prevent high intensity readout light from being transmitted. Typical dielectric mirror /The light-blocking layer 38 is designed so that the leakage of light passing through the dielectric mirror/light-blocking layer approaches the signal charge. A large number of carriers are deposited between the active phases to prevent The read beam must be attenuated by a factor of about 106 or more to Must be. It is quite difficult to fabricate a dielectric mirror with this ability. Ru. Even if 10 degrees of attenuation is achieved, some applications require large attenuation. do. Therefore, sufficient dielectric mirrors are not currently available.

誘電体ミラーのための可能な代替物基体として、近年開発された金属マトリック スミラーは赤外線領域のバルブ動作のための優れた電気及び光学的特性を与える ことが示されている。このミラーの型式は、当出願人の米国特許出願節759, 004号(”Reflective Matrix Mirror Visib le t。Recently developed metallic matrices as possible alternative substrates for dielectric mirrors Smirror provides excellent electrical and optical properties for valve operation in the infrared region It has been shown that This mirror type is described in my U.S. Patent Application Section 759, No. 004 (“Reflective Matrix Mirror Visib Let.

Infrared Convertor Light Valve’発明者P、 O,Braatz)に記載されている。Infrared Convertor Light Valve' inventor P, O, Braatz).

金属マトリックスミラーは第3図に示されている。反射する島52のマトリック スは5i02のような絶縁層54上に形成される。島52は、ミラーの表面にま たがる短絡を避けるために絶縁チャネルによってそれぞれ互いに分割されている 。個々の島52のディメンジョンは十分な反射光のために5乃至20ミクロンの オーダーの最小の寸法から決定され、分解能すなわち光バルブを形成するための 画素素子の寸法によって決定される。島の厚さは使用された特別の反射材料に依 存する。反射材料の自由電子密度が読出し放射によって相互に作用しあうのに十 分であることと、それを材料から散乱して逃すのに十分であることが基本的に必 要である。アルミニウムまたは銀のような金属または珪化プラチナのような金属 /半導体化合物が使用可能である。A metal matrix mirror is shown in FIG. Matric of reflective island 52 The substrate is formed on an insulating layer 54 such as 5i02. The island 52 is located on the surface of the mirror. Each is separated from each other by an insulating channel to avoid short circuits . The dimensions of the individual islands 52 range from 5 to 20 microns for sufficient reflected light. Determined from the smallest dimension of the order, the resolution i.e. for forming the light valve. Determined by the dimensions of the pixel element. The thickness of the islands depends on the particular reflective material used. Exists. The free electron density in the reflective material is sufficient to interact with the readout radiation. It is basically necessary that the It is essential. Metals like aluminum or silver or platinum silicide /semiconductor compounds can be used.

前記MO8光バルブはいくつかの限界がある。光導電体は初め極度に空乏化され ているが、空乏層は、熱の発生が多数キャリアの減少を引き起こすため次第に崩 壊する(10ミリ秒のオーダ以上で)。ついには電圧降下は光導電体から酸化物 に移る。また5i02層を供給するための方法は1000℃のオーダの高い温度 を必要とする。これらの温度で完全に平らに光バルブ基体を維持するのは困難で ある。基体のどんな湾曲や波立ちもバルブからの読出しを歪ませる。もう一つの 欠点は、シートの導電率の一定の値が5i02/5i02境界面に示されている ことである。この結果は装置の分解能とダイナミック範囲の両方を低下させる。The MO8 light valve has several limitations. The photoconductor is initially extremely depleted. However, the depletion layer gradually collapses as heat generation causes a decrease in majority carriers. break (on the order of 10 milliseconds or more). Finally, the voltage drop decreases from the photoconductor to the oxide. Move to. Also, the method for supplying the 5i02 layer requires high temperatures on the order of 1000°C. Requires. It is difficult to maintain a perfectly flat light valve substrate at these temperatures. be. Any curvature or ripples in the substrate will distort the readout from the valve. one more The disadvantage is that a certain value of the conductivity of the sheet is shown at the 5i02/5i02 interface That's true. This result reduces both the resolution and dynamic range of the device.

さらに、金属マトリックスミラーは、誘電体ミラーよりインピーダンスが低いの で誘電体ミラーより好ましいが、その使用はおもに赤外線領域に限られる。可視 領域において読出し光はチャネルを通って金属島の間に漏れ、下にある光導電体 を活性化する原因となる。Additionally, metal matrix mirrors have lower impedance than dielectric mirrors. is preferred over dielectric mirrors, but its use is primarily limited to the infrared region. visible In the region the readout light leaks through the channel between the metal islands and the underlying photoconductor. causes activation.

少なくともMO5光バルブよりも特性の優れている光バルブのもう一つの型は、 ダブルショットキーダイオード光バルブである。それはPaul O,Braa tzとUzi Ef’ronの2人の発明者によって当圧願人の特許“Doub le−8chottky Diode LiquidCrystal Llgh t Valve”に記載されている。出願は米国特許出願番号758,917の ちとに1985年7月25日に提出され、本発明の出願人であるヒユーズ・エア クラフト・カンパニーに譲渡された。この装置は第4図に示される。それは一方 の鋼上に形成されたショットキーダイオードを具備する光導電体基体58から成 る。読出し側で金属マトリックスミラーの金属バッド60は光導電体とショット キー接点のパターンを形成する。一方入射側で金属電極62は他のショットキー ダイオードを形成するための光導電体の相に接触する。フェイスプレート64は 、光学的セメント66によって電極62の入射側に付着される。Another type of light valve that has at least better characteristics than the MO5 light valve is: It is a double Schottky diode light bulb. That's Paul O, Braa The applicant's patent “Doub” was created by two inventors, tz and Uzi Ef’ron. le-8chottky Diode Liquid Crystal Llgh The application is filed under U.S. Patent Application No. 758,917. Filed on July 25, 1985, by Hughes Air, the applicant of the present invention. Transferred to Craft Company. This device is shown in FIG. That's on the other hand A photoconductor substrate 58 comprising a Schottky diode formed on steel. Ru. On the readout side, the metal pad 60 of the metal matrix mirror is connected to the photoconductor and shot. Form a pattern of key contacts. On the other hand, the metal electrode 62 on the incident side is connected to another Schottky. Contact the photoconductor phase to form a diode. The face plate 64 , is attached to the entrance side of the electrode 62 by optical cement 66.

液晶層68および対向電極70そしてガラス対向電極基体72は、前記MOS装 置と同様である。整列した層74と76は、スペーサ78によって閉じこめられ た液晶のそれぞれの側面に設けられる。The liquid crystal layer 68, the counter electrode 70, and the glass counter electrode base 72 are connected to the MOS device. It is the same as the position. The aligned layers 74 and 76 are confined by spacers 78. provided on each side of the liquid crystal.

比較的長い空乏周期と比較的短い堆積周期であるMOS装置の動作に対して、ダ ブルショットキーダイオード光バルブはバック電極62と対向電極70の間に供 給する平衡AC電圧駆動80によって作動される。動作において、ショットキー ダイオードの一方または他方は実質的にいつでも逆バイアスされ、任意所定の時 に電圧源80の位相に依存する。この結果光導電体58は実質的に連続して空乏 状態を維持する。For the operation of MOS devices with relatively long depletion periods and relatively short deposition periods, A bull Schottky diode light valve is provided between the back electrode 62 and the counter electrode 70. It is operated by a balanced AC voltage drive 80 that supplies. In operation, Schottky One or the other of the diodes can be reverse biased at virtually any time, and at any given time depends on the phase of voltage source 80. As a result, photoconductor 58 is substantially continuously depleted. maintain the condition.

従って装置はMOS光バルブによって必要とされた不活性な堆積周期を避けるこ とができ、液晶を通る実質電流をゼロに固有に平衡する。それはM OS 9置 よりも低い温度で製造され、MO8動作を劣化させる光導電体の表面のシート導 電率を示さない。しかしながら金属バック接点62は製造することが非常に困難 であり、ダブルショットキー装置の電位の十分な実現を妨げている。The device thus avoids the inert deposition cycle required by MOS light valves. , which inherently balances the real current through the liquid crystal to zero. It is M OS 9th place The sheet conductor on the surface of the photoconductor is manufactured at a lower temperature than the Does not show electric rate. However, metal back contacts 62 are very difficult to manufacture. , which prevents the full realization of the potential of the double Schottky device.

[発明の概要] 前記問題を考慮して、本発明の目的は、ダブルショットキーダイオード光バルブ の利点を保ち空乏層崩壊とMOS光バルブの高い温度での製造とシートの導電率 の問題を避け、さらにダブルショットキーダイオード装置よりも製造するのに実 用的である液晶光バルブを与えることである。[Summary of the invention] In view of the above problems, the object of the present invention is to provide a double Schottky diode light valve. Maintaining the advantages of depletion layer decay and high temperature fabrication of MOS light valves and sheet conductivity avoids problems and is more practical to manufacture than double Schottky diode devices. The purpose of the present invention is to provide a liquid crystal light valve that is useful for various purposes.

これらの目的は、ショットキー接点が金属マトリックスミラーによって光導電体 の読出し側に形成され、バック接点がドープ処理された半導体電極によって構成 されている単一ショットキーダイオード光バルブによって達成される。この装置 は、比較的長い空乏周期とより短い不活性周期とを有しACモードで動作可能で あり、液晶は連続的な空乏によるDC動作のためのイオンを運ぶ電流によってド ープ処理され得る。可視領域の動作のために、誘電体ミラーは金属マトリックス ミラーの後方に設けられ、または金属マトリックスミラーの絶縁されたチャネル は不透明な材料によって被覆され得る。この装置は、MOS光バルブを特徴づけ る空乏層崩壊から逃れ、MOS装置やダブルショットキー装置よりも製造が容易 である。The purpose of these is that the Schottky contact is connected to the photoconductor by a metal matrix mirror. The back contact consists of a doped semiconductor electrode. This is achieved by a single Schottky diode light valve. this device has a relatively long depletion period and a shorter inactivity period and can operate in AC mode. The liquid crystal is powered by a current carrying ions for DC operation due to continuous depletion. can be processed. For operation in the visible region, dielectric mirrors are fitted with metal matrix An insulated channel behind the mirror or in a metal matrix mirror can be coated with an opaque material. This device characterizes MOS light valves Easier to manufacture than MOS devices and double Schottky devices. It is.

本発明のこれらおよびその他の特徴と利点は、以下の好ましい実施例の詳細な説 明および添付図面から当業者に明らかになるであろう。These and other features and advantages of the invention are described in the detailed description of the preferred embodiment below. It will be clear to those skilled in the art from the description and accompanying drawings.

[図面の簡単な説明] 第1図は、上記の従来の光バルブ装置のブロック図である。[Brief explanation of the drawing] FIG. 1 is a block diagram of the above-mentioned conventional light valve device.

第2図は、上記従来技術のMO5液晶液晶光ブの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of the MO5 liquid crystal light bulb of the prior art.

第3図は、上記金属マトリックスミラー構造の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the metal matrix mirror structure.

第4図は、上記ダブルショットキー液晶光バルブの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of the double Schottky liquid crystal light valve.

第5図は、本発明の一実施例の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of one embodiment of the present invention.

第6図は、第5図に誘電体ミラーを付加した光バルブの断面図である。FIG. 6 is a sectional view of the light valve shown in FIG. 5 with a dielectric mirror added thereto.

第7A図および第7B図はAC動作中に供給された電圧と液晶電流の各々のグラ フである。Figures 7A and 7B show the respective graphs of the supplied voltage and liquid crystal current during AC operation. It is f.

[好ましい実施例の詳細な説明] 本発明の光バルブの一実施例は第5図に示されている。それはある点において第 4図のダブルショットキー光バルブと同様であり、共通の要素は同じ参照符号で 表わされる。それは、整列した層74および76とスペーサ78によって閉じこ められた液晶68と、ガラス基体72上の対向電極70と、シリコンが好ましい がヒ化ガリウムまたはヒ化インジウムまたは燐化インジウムでも良い半導体の光 導電体層58と、液晶層と光導電体の間の金属マトリックスミラー60と、入射 フェイスプレート64を含む。[Detailed description of preferred embodiments] One embodiment of the light valve of the present invention is shown in FIG. It is in some respects It is similar to the double Schottky light valve in Figure 4, and common elements have the same reference numbers. expressed. It is enclosed by aligned layers 74 and 76 and spacers 78. The liquid crystal 68 and the counter electrode 70 on the glass substrate 72 are preferably made of silicon. Semiconductor light may be gallium arsenide or indium arsenide or indium phosphide a conductor layer 58 and a metal matrix mirror 60 between the liquid crystal layer and the photoconductor; Includes a faceplate 64.

ダブルショットキー装置と同様に、金属マトリックスミラーバッド60は、光導 電体層58の一方の鋼上の一連のショットキー接点を形成する。しかしながら光 導電体の他方の鋼上には、高濃度n−ドープされたシリコンから形成されたバッ ク接点電極82が設けられる。電源84からの交流電圧は、装置を作動するため 電極70および82を通して供給される。Similar to the double Schottky device, the metal matrix mirror bud 60 A series of Schottky contacts are formed on the steel of one of the electrical layers 58. However, the light On the other steel conductor is a battery made of heavily n-doped silicon. A contact electrode 82 is provided. AC voltage from power supply 84 is used to operate the device. It is supplied through electrodes 70 and 82.

そのかわりに装置は、電流キャリアイオンで液晶をドープすることによってDC 電圧源86によりDCモード内で作動され得る。例を挙げると、1978年にH ,S、Liiに付与された米国特許第4.08B、589号″Dopants  For Dynamic ScatteringLiquid Crystal s”がある。可視光領域内の動作のために、チャネル50を通る光の漏れは、そ れぞれのチャネル端の読出し端内の市販の不透明なG a A sまたはCdT eのような高比抵抗阻止材料88の挿入によって阻止される。Instead, the device uses DC It can be operated in DC mode by voltage source 86. For example, in 1978, H. , S., Lii, U.S. Patent No. 4.08B, 589″Dopants For Dynamic Scattering Liquid Crystal For operation in the visible light range, the leakage of light through channel 50 is Commercially available opaque G or CdT in the readout end of each channel end This is blocked by the insertion of a high resistivity blocking material 88 such as e.

記述された単一ショットキー光バルブは、MOS装置に対していくつかの明らか な利点を存する。光導電体の少数キャリアは、金属マトリックスミラーとの接合 部に引かれ、接合部を通ってミラーに流れることができ、それによって空乏領域 の崩壊を防ぐ。絶縁酸化層の5i02のために約1000℃の処理は、最高温度 約300℃乃至400℃によるより低い温度での製造によって回避される。これ はより平坦な装置を生じ、従って改良された読出しを生じる。MoS装置によっ てS i O/ S i 02境界面に示されたシートの導電率は除かれ、その ため分解能およびダイナミック範囲は改善される。また、イオン注入および熱酸 化物成長のような格子損傷を生じるような製造処理の使用を避けることができる 。The described single Schottky light valve has several obvious limitations for MOS devices. It has many advantages. The minority carriers of the photoconductor are bonded to the metal matrix mirror. can flow through the junction to the mirror, thereby reducing the depletion region prevent the collapse of The treatment at about 1000 °C for 5i02 of the insulating oxide layer is the highest temperature This is avoided by manufacturing at lower temperatures of about 300°C to 400°C. this yields a flatter device and thus improved readout. By MoS device The conductivity of the sheet shown at the S i O / S i 02 interface is removed, and its As a result, resolution and dynamic range are improved. Also, ion implantation and thermal acid Avoids the use of manufacturing processes that cause lattice damage, such as oxide growth .

本発明のもう一つの実施例は第6図に示されている。この実施例は、光導電体5 8内への可視読出し光の漏れを妨げるための金属マトリックスミラー60の読出 し鋼上に設けられた誘電体ミラー90を除いては基本的に第5図のものと等しい 。これは第5図のチャネル阻止材料88の使用を不用にする。赤外線のような非 可視領域での動作のために、両方の阻止機構は光導電体内への読出し放射の漏れ が装置の動作を妨害しないから省略され得る。 。Another embodiment of the invention is shown in FIG. In this embodiment, the photoconductor 5 Readout of metal matrix mirror 60 to prevent leakage of visible readout light into 8 It is basically the same as the one in Fig. 5 except for the dielectric mirror 90 provided on the steel. . This obviates the use of channel blocking material 88 of FIG. Non-infrared For operation in the visible range, both blocking mechanisms prevent readout radiation from leaking into the photoconductor. can be omitted since it does not interfere with the operation of the device. .

装置の不対称のAC動作は、第7A図および第7B図に示されている。電源84 によって電極間に供給された第7A図に示されている電圧は、典型的に約1ミリ 秒で20ボルトの比較的長い逆バイアスパルスから成り、光導電体と金属マトリ ックスミラーにより形成されたショットキー接点を通る0、1ミリ秒のオーダの ずっと短い順方向バイアスパルス94と交互に起こる。ショットキー障壁の順方 向バイアスインピーダンスが逆バイアスに比較して無視できるから、前記バイア ス状態は、有効なショットキーインピーダンス(空乏状態において)の液晶/ミ ラーインピーダンスに対する比を10:1比と仮定する電荷移動補整を生じる。Asymmetric AC operation of the device is shown in FIGS. 7A and 7B. power supply 84 The voltage shown in Figure 7A applied between the electrodes by It consists of a relatively long reverse bias pulse of 20 volts in seconds, and the photoconductor and metal matrix of the order of 0.1 millisecond through the Schottky contact formed by the mirror It alternates with much shorter forward bias pulses 94. Schottky barrier order Since the forward bias impedance is negligible compared to the reverse bias, the bias The liquid crystal/mirror state has an effective Schottky impedance (in depletion state). This produces a charge transfer compensation assuming a 10:1 ratio to the mirror impedance.

装置を通して生じる電流パターンは、第7B図に示されている。逆バイアス中で 、比較的長い時間続き、順方向バイアス中の反対方向において短いか高い大きさ の対応する電流パルス98が介在して終る比較的低いレベルの電流パルス96が ある。順方向バイアス電流パルスは、液晶を通る実質的な電流をゼロに平衡させ するのに必要とされる。これは、液晶がDC電流の下では分解するために必要で ある。液晶が前記のような電流キャリアイオンによってドープ処理されるならば 、イオンは液晶を通るDC電流を運び、そして光バルブは前記のようなりC駆動 電圧により動作され得る。The current pattern produced through the device is shown in Figure 7B. in reverse bias , lasting a relatively long time and having a short or high magnitude in the opposite direction during forward bias A relatively low level current pulse 96 terminating in a corresponding current pulse 98 of be. The forward bias current pulse balances the net current through the liquid crystal to zero. required to do. This is necessary because liquid crystals decompose under DC current. be. If the liquid crystal is doped with current carrier ions as mentioned above , the ions carry a DC current through the liquid crystal, and the light valve is driven by C as described above. It can be operated by voltage.

光バルブの例示的な装置の製造において、高比抵抗のn型シリコンウェハは初め に両側を包まれ、化学機械的に約250ミクロンの厚さに薄くさ、れる。典型的 な比抵抗は、0.5乃至3キロオーム−センチメートルの範囲である。n型のド ープされた層は次に、燐またはヒ素のような適当なドナー不純物を注入または拡 散のいずれかによって10オーム/平方より少ないシート抵抗をもたらすために ウニへの背面に形成される。ウェハは次に、光学的セメントまたは電気結合によ り単一ガラスまたは石英板でもよいガラス基体に接着される。その代わりに、光 フアイバフェイスプレートが表示および適応性のある光学的応用として使用可能 である。In the fabrication of an exemplary light valve device, a high resistivity n-type silicon wafer is initially wrapped on both sides and chemically mechanically thinned to a thickness of about 250 microns. typical The specific resistivity ranges from 0.5 to 3 kilohm-cm. n type do The doped layer is then implanted or expanded with a suitable donor impurity such as phosphorous or arsenic. to yield a sheet resistance of less than 10 ohms/square by either Formed on the back of the sea urchin. The wafer is then bonded by optical cement or electrical bonding. The substrate is bonded to a glass substrate, which may be a single glass or quartz plate. Instead, light Fiber faceplates can be used for display and adaptive optical applications It is.

取付けられたウェハは、次に化学機械的ラップを使用して30乃至60ミクロン の厚さに薄くされ、そして高質の光学的光沢剤によってその表面は磨かれる。C VD酸化物、プラズマ酸化物、光酸化物または低温度の窒化シリコンのような低 温度の絶縁体は続いてウェハ表面上に付着される。その代わり、絶縁材料は、C dTeのように高い光吸収係数を有するように選ばれることが可能である。The mounted wafer is then 30 to 60 microns thick using a chemical mechanical wrap. The surface is polished with a high quality optical brightener. C low temperature silicon nitride such as VD oxide, plasma oxide, photo oxide or low temperature A temperature insulator is then deposited on the wafer surface. Instead, the insulating material is C It can be chosen to have a high optical absorption coefficient, such as dTe.

次の段階は金属マトリックスミラーの形成である。グリッドパターンはフォトリ ソグラフ法によって基体上に形成され、グリッドラインは典型的に幅2乃至5ミ クロンで10乃至20ミクロンの周期性を有する。グリッドの内側領域はそれか らエツチングで除去され、それらの範囲でnシリコン基体を露出させる。絶縁材 料はチャネル(グリッド)ラインの場所に残される。ショットキー金属は、それ からエツチングで除去されているグリッドの領域に蒸着される。n型材料用の高 い仕事関数を具備するPtのような任意の金属が使用可能である。グリッドライ ンのフォトレジストは、それからグリッドラインから金属を除去するためにリフ トオフで取り除かれ、金属マトリックスアレイを完成する。The next step is the formation of the metal matrix mirror. The grid pattern is photore The grid lines are typically 2 to 5 mm wide and are formed on a substrate by a thograph process. It has a periodicity of 10 to 20 microns. Is that the area inside the grid? The n-silicon substrate is etched away in those areas to expose the n-silicon substrate. Insulating material The charges are left in place at the channel (grid) lines. schottky metal it is deposited on the areas of the grid that are etched away from the surface. High for n-type material Any metal with a high work function can be used, such as Pt. grid lie The photoresist is then refreshed to remove metal from the grid lines. The metal matrix array is completed by removing the metal matrix.

酸化物チャネルのような非吸収性グリッドチャネルの場合では、要求される読出 しビームのスペクトル幅に同調された誘電体ミラーが、グリッドラインを貫通す る読出しビームを妨げるためにショットキー金属マトリックスアレイ上に付着さ れる。In the case of non-absorbing grid channels such as oxide channels, the required readout A dielectric mirror tuned to the spectral width of the beam penetrates the grid lines. is deposited on the Schottky metal matrix array to block the readout beam. It will be done.

光バルブを通り流れるDC電流を最少限にするために、2つの代わりの方法が使 用され得る。まず初めに、絶縁体の低温度酸化物が対向電極70上に形成され得 る。次に外部キャパシタが使用され得る。整列層は続いて中間および浅い角度の 堆積方法によって基体と対向電極の両方の上に形成される。Two alternative methods can be used to minimize the DC current flowing through the light valve. can be used. First, an insulating low temperature oxide may be formed on the counter electrode 70. Ru. An external capacitor can then be used. The alignment layer is then followed by intermediate and shallow angle It is formed on both the substrate and the counter electrode by a deposition method.

最後には、光バルブは標準の集合ホルダ中に組立てられ、そして液晶が導入され る。Finally, the light bulb is assembled into a standard collection holder and the liquid crystal is introduced. Ru.

前記光バルブは、MO8光バルブにまさる顕著な動作利点を有し、ダブルショッ トキー装置よりも簡単に製造される。The light valve has significant operational advantages over the MO8 light valve and has double shot easier to manufacture than tokey devices.

特定の実施例が記述され図に示されているが、多数の変形とそれに代わる実施例 が当業者に見い出されるであろう。従って、本発明は添付請求の範囲によっての み限定されるものである。Although specific embodiments have been described and illustrated, many variations and alternative embodiments may occur. will be discovered by those skilled in the art. Accordingly, the invention is defined by the scope of the appended claims. It is limited only.

h62.−従泉穀七 FIG、4゜ 〉 国際調査報告 国際調査報告 PCT/US8B/C3100h62. -Jousen Kokuchi FIG, 4° 〉 international search report international search report PCT/US8B/C3100

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.入射側および読出し側を有し、 液晶層と、 入力放射を受取りそれに応答して多数キャリアを生成するための液晶層の入射側 上のドープ処理された半導体の光導電体層と、 液晶と光導電体層の間に位置し光導電体層とショットキー接点のマトリックスを 形成する金属マトリックスと、光導電体層の入射側と電気接点を形成するドープ された半導体の電極と、 液晶層の読出し側上の対向電極とを具備する単一ショットキー光バルブ。1. has an input side and a readout side, a liquid crystal layer; The entrance side of a liquid crystal layer for receiving input radiation and generating majority carriers in response to it. a doped semiconductor photoconductor layer above; The photoconductor layer and the matrix of Schottky contacts are located between the liquid crystal and the photoconductor layer. A metal matrix to form and a dope to form an electrical contact with the incident side of the photoconductor layer. a semiconductor electrode made of a single Schottky light valve with a counter electrode on the readout side of the liquid crystal layer; 2.前記金属マトリックスが金属マトリックスミラーを含む請求項1記載の単一 ショットキー光バルブ。2. The unit of claim 1, wherein the metal matrix comprises a metal matrix mirror. Schottky light bulb. 3.液晶層から金属マトリックスミラーへの可視光の伝送を阻止する誘電体ミラ ーを具備している請求項2記載の単一ショットキー光バルブ。3. Dielectric mirror that blocks the transmission of visible light from the liquid crystal layer to the metal matrix mirror 3. The single Schottky light valve of claim 2, further comprising: a. 4.前記金属マトリックスミラーが、少なくとも部分的に可視光に透明である電 気的絶縁材料のチャネルによって互いに電気的に分離されている金属島のマトリ ックスを含み、さらにそれを通る可視光の伝送を阻止するために前記チャネル上 に付着された不透明材料を含む請求項2記載の単一ショットキー光バルブ。4. The metal matrix mirror is an electrically conductive material that is at least partially transparent to visible light. A matrix of metal islands electrically separated from each other by channels of gas-insulating material on said channel to further prevent the transmission of visible light through it. 3. The single Schottky light valve of claim 2 including an opaque material deposited on the opaque material. 5.前記光導電体層がシリコン、ヒ化ガリウム、ヒ化インジウムおよび燐化イン ジウムからなるグループの中から選ばれた材料から成る単一ショットキー光バル ブ。5. The photoconductor layer is made of silicon, gallium arsenide, indium arsenide and indium phosphide. A single Schottky light bulb made of a material selected from the group consisting of Bu. 6.前記液晶が液晶層を通るDC電流を維持するために電流キャリアイオンによ ってドープされる請求項1記載の単一ショットキー光バルブ。6. The liquid crystal is activated by current carrier ions to maintain a DC current through the liquid crystal layer. 2. The single Schottky light valve of claim 1, wherein the single Schottky light valve is doped with: 7.入射放射のビームを吸収するためのドープされた半導体基体を含み、前記吸 収は光により発生された多数キャリアを生成し、 逆バイアスで多数キャリアの実質的に空乏状態に基体を維持するために基体の一 方の側に配置されたショットキーダイオード装置と、 基体の他方の側上のドープされた半導体電極を含む光バルブ光学基体。7. a doped semiconductor body for absorbing a beam of incident radiation; The absorption produces majority carriers generated by light, One side of the substrate to maintain the substrate in a substantially depleted state of majority carriers with reverse bias. a Schottky diode device placed on one side; A light valve optical substrate including a doped semiconductor electrode on the other side of the substrate. 8.前記ショットキーダイオード装置が金属マトリックスミラーを含む請求項7 記載の光バルブ光学基体。8. 7. The Schottky diode device includes a metal matrix mirror. The described light valve optical substrate. 9.前記半導体電極が同じ極性にドープされた前記基体と同じ材料から形成され ている請求項7記載の光バルブ光学基体。9. the semiconductor electrode is formed from the same material as the substrate doped with the same polarity; 8. The light valve optical substrate according to claim 7. 10.前記半導体基体がシリコン、ヒ化ガリウム、ヒ化インジウムおよび燐化イ ンジウムからなるグループの中から選ばれた材料を含む請求項7記載の光バルブ 光学基体。10. The semiconductor substrate may include silicon, gallium arsenide, indium arsenide, and phosphide. 8. The light valve of claim 7, comprising a material selected from the group consisting of: optical substrate. 11.液晶層と、ドープされた半導体光導電体層と、液晶と光導電体層の間の光 導電体層と接触するショットキーダイオード装置と、光導電体層のショットキー ダイオード装置と反対側に電気的に接触しているドープされた半導体層と、およ び液晶層の光導電体層と反対側に設けられた対向電極とを有する液晶光バルブを 提供し、 ショットキーダイオード装置の間欠的な逆バイアスの周期内に光バルブを作動し て光導電層の多数キャリアを十分に空乏化するために電極と対向電極との間に交 流電圧を印加し、液晶層を流れる電流を実質的に平衡させるのに十分なようにシ ョットキーダイオード装置の順方向バイアスの実質的に短い周期を前記長い周期 の間に挿むように与えることを含む液晶光バルブ動作方法。11. The liquid crystal layer, the doped semiconductor photoconductor layer, and the light between the liquid crystal and photoconductor layer Schottky diode device in contact with the conductor layer and Schottky of the photoconductor layer a doped semiconductor layer in electrical contact with the diode device on the opposite side; and a liquid crystal light valve having a photoconductor layer and a counter electrode provided on the opposite side of the liquid crystal layer. Offer to, Activate the light valve within the period of intermittent reverse bias of the Schottky diode device. In order to sufficiently deplete the majority carriers in the photoconductive layer, there is an intersection between the electrode and the counter electrode. Apply a current voltage and set the system sufficiently to substantially balance the current flowing through the liquid crystal layer. The substantially short period of the forward bias of the Schottky diode device is replaced by the long period. A method of operating a liquid crystal light valve, including interposing it between the two. 12.逆バイアスおよび順方向バイアス周期の期間の比がショットキー逆バイア スインピーダンスとショットキーダイオード装置と対向電極間の光バルブインピ ーダンス間の比とほぼ等しい請求項11記載の方法。12. The ratio of the duration of the reverse bias and forward bias periods is Schottky reverse bias. Spin impedance and light valve impedance between Schottky diode device and counter electrode 12. The method of claim 11, wherein the ratio between the -dance and the dance is approximately equal. 13.電流キャリアイオンによりドープされた液晶層と、ドープされた半導体光 導電体層と、液晶層と光導電体層の間で光導電体層と接触するショットキーダイ オード装置と、光導電体層のショットキーダイオード装置と反対側に電気的に接 触するドープされた半導体層と、および液晶層の光導電層と反対側に設けられた 対向電極とを有する液晶光バルブを提供し、 光バルブ動作のための電極と対向電極の間に実質的なDC電圧を供給し、ショッ トキーダイオード装置を実質的に連続的に逆バイアスする液晶光バルブ動作方法 。13. Liquid crystal layer doped with current carrier ions and doped semiconductor light a conductor layer and a Schottky die in contact with the photoconductor layer between the liquid crystal layer and the photoconductor layer; electrically connect the diode device to the opposite side of the photoconductor layer from the Schottky diode device. a doped semiconductor layer in contact with the liquid crystal layer, and a liquid crystal layer provided on the opposite side of the photoconductive layer. a liquid crystal light valve having a counter electrode; Applying a substantial DC voltage between the electrode for light valve operation and the counter electrode, the shock Method of operating a liquid crystal light valve that substantially continuously reverse biases a toky diode device .
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