JPH0250949A - 複合超硬材料 - Google Patents
複合超硬材料Info
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、複合超硬材料に関し、特に超硬合金の母材表
面に硬質の多層膜を被覆した切削・耐摩耗工具等に有用
な複合超硬材料に係わる。
面に硬質の多層膜を被覆した切削・耐摩耗工具等に有用
な複合超硬材料に係わる。
[従来の技術及び課題]
超硬合金やサーメットの母相表面に高硬度で耐摩耗性に
富むTi N (硬度2400) 、Zr N (硬度
2200) 、Hf 、N (硬度2300)の窒化物
層を被覆した切削・耐摩耗工具は切削性能、耐摩耗性を
有することが知られている。しかしながら、工具の使用
形態の多様化等によりその使用条件かより苛酷になるに
伴い、更に高性能化、超寿命化か要望されてぎている。
富むTi N (硬度2400) 、Zr N (硬度
2200) 、Hf 、N (硬度2300)の窒化物
層を被覆した切削・耐摩耗工具は切削性能、耐摩耗性を
有することが知られている。しかしながら、工具の使用
形態の多様化等によりその使用条件かより苛酷になるに
伴い、更に高性能化、超寿命化か要望されてぎている。
このような要望から、最近、各種の耐摩耗性に富む炭化
物、窒化物及び酸化物を単層膜のみて使用するのではな
く、夫々の膜の特長を生かした多層膜コーティングが利
用されつつある。例えば、Ti C膜は硬度か高く、耐
フランク摩耗性を備えているが、耐クレータ摩耗が劣る
欠点を有する。
物、窒化物及び酸化物を単層膜のみて使用するのではな
く、夫々の膜の特長を生かした多層膜コーティングが利
用されつつある。例えば、Ti C膜は硬度か高く、耐
フランク摩耗性を備えているが、耐クレータ摩耗が劣る
欠点を有する。
一方、TiNは化学的に安定で耐クレータ摩耗が優れて
いるが、硬度が前記Ti Cに比べて若干劣り、かつ耐
フランク摩耗性に劣るという欠点を有する。こうしたこ
とから、前記6膜の特長を生かし、Ti C膜、TiN
膜、Ti (C−N)膜を前述した母料上にPVD法や
CVD法により多層コティングした複合超硬材料か開発
され、市場に出廻っている。また、前記母料上にTiC
膜をコティングし、更に高温での安定性を高めるために
A1203膜をコーティングした複合超硬材料も開発さ
れている。しかしながら、かかる異種化合物の多層膜が
被覆された複合超硬材料では異種化合物膜間での密着性
が劣るため、使用時に前記多層膜が剥離したり、チッピ
ングか起こるという問題があった。
いるが、硬度が前記Ti Cに比べて若干劣り、かつ耐
フランク摩耗性に劣るという欠点を有する。こうしたこ
とから、前記6膜の特長を生かし、Ti C膜、TiN
膜、Ti (C−N)膜を前述した母料上にPVD法や
CVD法により多層コティングした複合超硬材料か開発
され、市場に出廻っている。また、前記母料上にTiC
膜をコティングし、更に高温での安定性を高めるために
A1203膜をコーティングした複合超硬材料も開発さ
れている。しかしながら、かかる異種化合物の多層膜が
被覆された複合超硬材料では異種化合物膜間での密着性
が劣るため、使用時に前記多層膜が剥離したり、チッピ
ングか起こるという問題があった。
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたも
ので、TiN薄膜、ZrN薄膜、H1″N薄膜のうちの
少なくとも2種以上が交互に積層されて各薄膜の特性を
備え、かつそれらの薄膜間相互の密着性に優れた多層膜
か超硬合金又はサーメットの母材に対して密着性よく被
覆された複合超硬材料を提供しようとするものである。
ので、TiN薄膜、ZrN薄膜、H1″N薄膜のうちの
少なくとも2種以上が交互に積層されて各薄膜の特性を
備え、かつそれらの薄膜間相互の密着性に優れた多層膜
か超硬合金又はサーメットの母材に対して密着性よく被
覆された複合超硬材料を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、超硬合金又はサーメットを母材とし、この母
材表面にイオンビームミキシング法によりTi N、Z
r N、Hf Nのうちの少なくとも2種以上の薄膜を
交互に積層して多層膜を被覆したことを特徴とする複合
超硬材料である。
材表面にイオンビームミキシング法によりTi N、Z
r N、Hf Nのうちの少なくとも2種以上の薄膜を
交互に積層して多層膜を被覆したことを特徴とする複合
超硬材料である。
上記超硬合金としては、例えば周期律表のIVa、Va
、Vla族金属の炭化物、窒化物、炭窒化物とN 1
% Co及びFeの少なくとも1種以上とからなるもの
等を挙げることができる。
、Vla族金属の炭化物、窒化物、炭窒化物とN 1
% Co及びFeの少なくとも1種以上とからなるもの
等を挙げることができる。
上記多層膜の形態としては、Tj N薄膜とZrN薄膜
を交互に積層したもの、TiN薄膜とHfN薄膜を交互
に積層したもの、ZrN薄膜とHfN薄膜を交互に積層
したもの、TiN薄膜とZrN薄膜とHfN薄膜を交互
に積層したものを挙げることかできる。特に、TiN薄
膜とZrN薄膜とHfN薄膜を交互に積層した多層膜は
それら3種の窒化物の特性を生かすことかでき、多様な
特性か付与されるために好適である。この三層構造の多
層膜における各薄膜の積層順序は特に制約を受けるもの
ではなく任意である。また、前記各薄膜の厚さは02〜
2,0μmの範囲にすることか望ましい。この理由は、
薄膜の厚さを082μm未満にすると多層化した時に薄
膜相互間で拡散して多層膜を形成することが困難となり
、かといってその厚さが2.0μmを越えると単層膜の
特徴である結晶粒成長か生じ易くなるからである。
を交互に積層したもの、TiN薄膜とHfN薄膜を交互
に積層したもの、ZrN薄膜とHfN薄膜を交互に積層
したもの、TiN薄膜とZrN薄膜とHfN薄膜を交互
に積層したものを挙げることかできる。特に、TiN薄
膜とZrN薄膜とHfN薄膜を交互に積層した多層膜は
それら3種の窒化物の特性を生かすことかでき、多様な
特性か付与されるために好適である。この三層構造の多
層膜における各薄膜の積層順序は特に制約を受けるもの
ではなく任意である。また、前記各薄膜の厚さは02〜
2,0μmの範囲にすることか望ましい。この理由は、
薄膜の厚さを082μm未満にすると多層化した時に薄
膜相互間で拡散して多層膜を形成することが困難となり
、かといってその厚さが2.0μmを越えると単層膜の
特徴である結晶粒成長か生じ易くなるからである。
上記多層膜の形成手段としては、■電子ビーム蒸着源に
よる真空蒸着と窒素イオンの照射を同時に行なうイオン
ミキシング法、■ターゲットを用いてイオンビームスパ
ッタで蒸着と窒素イオンの照射を同時に行なうイオンミ
キシング法を採用することができる。
よる真空蒸着と窒素イオンの照射を同時に行なうイオン
ミキシング法、■ターゲットを用いてイオンビームスパ
ッタで蒸着と窒素イオンの照射を同時に行なうイオンミ
キシング法を採用することができる。
上記■のイオンミキシング法は、真空チャンバ内に3つ
のルツボを配置し、各ルツボ内にTi1ZrXHfのハ
ースを夫々装填し、電子ビームガンを使用して少なくと
も2個のルツボ内のノ\−スを電源操作又はビーム走査
により溶解し、所定の時間間隔をあけて交互に真空蒸発
せしめ、母材表面に蒸着させながら、イオン源より窒素
イオンを引出して照射せしめ、TiN薄膜、ZrN薄膜
及びHfN薄膜のうちの少なくとも2つの薄膜が交互に
積層された多層膜を母材表面に被覆するものである。
のルツボを配置し、各ルツボ内にTi1ZrXHfのハ
ースを夫々装填し、電子ビームガンを使用して少なくと
も2個のルツボ内のノ\−スを電源操作又はビーム走査
により溶解し、所定の時間間隔をあけて交互に真空蒸発
せしめ、母材表面に蒸着させながら、イオン源より窒素
イオンを引出して照射せしめ、TiN薄膜、ZrN薄膜
及びHfN薄膜のうちの少なくとも2つの薄膜が交互に
積層された多層膜を母材表面に被覆するものである。
上記■のイオンミキシング法は、真空チャンバ内にTi
SZr % Hfからなる3個のターゲットを夫々配
置し、スパッタイオン源よりイオン(通常はArイオン
)を引出し、少なくとも2個のターゲットにイオンを交
互に照射して夫々の金属を交互にスパッタさせ、母材表
面に蒸着させながらイオン源より窒素イオンを引出して
照射せしめ、TiN薄膜、ZrN薄膜及びHfN薄膜の
うちの少なくとも2つの薄膜が交互に積層された多層膜
を母材表面に被覆するものである。この場合、窒素イオ
ン源を用いずにスパッタイオン源からスパッタ用Arイ
オンと窒素イオンを同時に照射してイオンビームミキシ
ングを行なってもよい。
SZr % Hfからなる3個のターゲットを夫々配
置し、スパッタイオン源よりイオン(通常はArイオン
)を引出し、少なくとも2個のターゲットにイオンを交
互に照射して夫々の金属を交互にスパッタさせ、母材表
面に蒸着させながらイオン源より窒素イオンを引出して
照射せしめ、TiN薄膜、ZrN薄膜及びHfN薄膜の
うちの少なくとも2つの薄膜が交互に積層された多層膜
を母材表面に被覆するものである。この場合、窒素イオ
ン源を用いずにスパッタイオン源からスパッタ用Arイ
オンと窒素イオンを同時に照射してイオンビームミキシ
ングを行なってもよい。
上記■、■のイオンビームミキシング法において、チャ
ンバ内に窒素ガスを別途導入して反応系を特定の窒素雰
囲気に保持することが可能であり、かつ別のイオン源か
らイオンアシストを行なうことによって各薄膜の結晶性
を改質することが可能となる。
ンバ内に窒素ガスを別途導入して反応系を特定の窒素雰
囲気に保持することが可能であり、かつ別のイオン源か
らイオンアシストを行なうことによって各薄膜の結晶性
を改質することが可能となる。
[作用]
本発明によれば、超硬合金又はサーメットを毎月とし、
この母材表面にイオンビームミキシング法によりTi
N、Zr N、IfNのうちの少なくとも2種以上の薄
膜を交互に積層して多層膜を被覆することによって、各
薄膜間にミキシング層が形成され、それらの薄膜間相互
の密着性に優れ、かつ各薄膜の特性を備えた多層膜が超
硬合金又はサーメットの母材に対して密着性よ(被覆さ
れた複合超硬材料を得ることかできる。即ち、Ti N
。
この母材表面にイオンビームミキシング法によりTi
N、Zr N、IfNのうちの少なくとも2種以上の薄
膜を交互に積層して多層膜を被覆することによって、各
薄膜間にミキシング層が形成され、それらの薄膜間相互
の密着性に優れ、かつ各薄膜の特性を備えた多層膜が超
硬合金又はサーメットの母材に対して密着性よ(被覆さ
れた複合超硬材料を得ることかできる。即ち、Ti N
。
Zr NXHf Nはいずれも高硬度で、かっTiNは
耐摩耗性、耐溶着性に優れ、ZrNは耐溶着性に優れ、
HfNは耐熱塑性変形性に優れているため、これらの薄
膜を交互に積層することによって、各薄膜特性を兼ね備
えた多層膜を母料上に被覆され、切削・耐摩耗工具等に
有用な複合超硬材料を得ることができる。
耐摩耗性、耐溶着性に優れ、ZrNは耐溶着性に優れ、
HfNは耐熱塑性変形性に優れているため、これらの薄
膜を交互に積層することによって、各薄膜特性を兼ね備
えた多層膜を母料上に被覆され、切削・耐摩耗工具等に
有用な複合超硬材料を得ることができる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例]
ます、wc−e%Co超硬合金の母材をイオンビームス
パッタ蒸着機能を備えたイオン注入装置のチャンバ内の
ホルダに設置した。つづいて、チャンバ内のガスを真空
排気し、前記ホルダ付近に設けたノスルから窒素ガスを
所定流量で導入し、スパッタイオン源よりArと窒素の
混合イオンを加速電圧8kV、ビーム電流1.5 Aの
条件で引き出し、チャンバ内に予め配置したTi z
r。
パッタ蒸着機能を備えたイオン注入装置のチャンバ内の
ホルダに設置した。つづいて、チャンバ内のガスを真空
排気し、前記ホルダ付近に設けたノスルから窒素ガスを
所定流量で導入し、スパッタイオン源よりArと窒素の
混合イオンを加速電圧8kV、ビーム電流1.5 Aの
条件で引き出し、チャンバ内に予め配置したTi z
r。
Hfからなる3個のターゲットに照射してそれらターゲ
ットを交互にスパッタして前記母材表面に各金属を4,
0人/ seeの蒸着速度で蒸着、積層し、同時に別の
イオン源から窒素イオンを該母材表面に加速電圧200
■、電流密度0.3 m A / clの条件でアシス
ト照射することにより母材表面に多層膜を被覆して複合
超硬材料を製造した。
ットを交互にスパッタして前記母材表面に各金属を4,
0人/ seeの蒸着速度で蒸着、積層し、同時に別の
イオン源から窒素イオンを該母材表面に加速電圧200
■、電流密度0.3 m A / clの条件でアシス
ト照射することにより母材表面に多層膜を被覆して複合
超硬材料を製造した。
比較例1
まず、WC−6%Co超硬合金の母材をマグネトロンス
パッタ装置のチャンバ内に設置した。つついて、チャン
バ内のガスを真空排気して該チャンバ内をアルゴンと窒
素の混合雰囲気とし、スパッタ電圧800vでTiター
ゲットを使用して前記母材表面にスパッタ蒸着すること
により厚さ9μmのTi薄膜を被覆して複合超硬材料を
製造した。なお、母料温度は300°Cとした。
パッタ装置のチャンバ内に設置した。つついて、チャン
バ内のガスを真空排気して該チャンバ内をアルゴンと窒
素の混合雰囲気とし、スパッタ電圧800vでTiター
ゲットを使用して前記母材表面にスパッタ蒸着すること
により厚さ9μmのTi薄膜を被覆して複合超硬材料を
製造した。なお、母料温度は300°Cとした。
しかして、上述したイオン注入装置から取出した本実施
例1の複合超硬材料について、表面の多層膜を研磨して
顕微鏡により各薄膜を観察したところ、各薄膜の厚さは
ほぼ1μm程度であることが認められ、全体の膜厚が9
μmであった。また、本実施例1の複合超硬材料及び上
述したスパッタ装置から取出した比較例1の複合超硬材
料の硬さを測定したところ、実施例1てはHv = 3
200A’?/H2、比較例1ではHv = 2000
Kg/ mm 2てあった。更に、本実施例1の複合超
硬材料によりH8−280のSNCMS鋼をV−180
m/min 、 f =0.25g/ rev 、
t = 1.5 mm (1回の切削時の切込み量)の
条件で切削した時の耐摩耗性を調べたところ、10分間
でVB=0.10mmであった。これに対し、比較例1
の複合超硬材料を用いて同様な耐摩耗性を調べたところ
、表面のTi 薄膜の一部に剥離が見られ、かつ10分
間でV [3= 0.35mmと摩耗度合か大きいこと
が確認された。
例1の複合超硬材料について、表面の多層膜を研磨して
顕微鏡により各薄膜を観察したところ、各薄膜の厚さは
ほぼ1μm程度であることが認められ、全体の膜厚が9
μmであった。また、本実施例1の複合超硬材料及び上
述したスパッタ装置から取出した比較例1の複合超硬材
料の硬さを測定したところ、実施例1てはHv = 3
200A’?/H2、比較例1ではHv = 2000
Kg/ mm 2てあった。更に、本実施例1の複合超
硬材料によりH8−280のSNCMS鋼をV−180
m/min 、 f =0.25g/ rev 、
t = 1.5 mm (1回の切削時の切込み量)の
条件で切削した時の耐摩耗性を調べたところ、10分間
でVB=0.10mmであった。これに対し、比較例1
の複合超硬材料を用いて同様な耐摩耗性を調べたところ
、表面のTi 薄膜の一部に剥離が見られ、かつ10分
間でV [3= 0.35mmと摩耗度合か大きいこと
が確認された。
実施例2
まず、WC−6%Co超硬合金の母材を真空蒸着機能を
有するイオン注入装置のチャンバ内に設置し、真空引き
した後、予めT r −、Z r % Hf’のハース
か夫々装填され、所定の間隔をあけてチャンバ内に配置
された3個のルツボに電子ビームを照射して所定の時間
間隔をあけてT 1 % Z r、Hfを交互に溶解蒸
発させて前記母材表面に真空蒸着させた。この時、Ti
は3.3人/see、Zrは2.2人/see、Hfを
2.1人/seeの速度で前記母材表面に交互に蒸着さ
せた。同時に、イオン源より窒素イオンを加速電圧20
kV、イオンビム電流密度0.5mA/clNの条件で
引出し該母材表面に照射するイオンミキシングを行なう
ことにより母材表面に多層膜を被覆して複合超硬材料を
製造した。
有するイオン注入装置のチャンバ内に設置し、真空引き
した後、予めT r −、Z r % Hf’のハース
か夫々装填され、所定の間隔をあけてチャンバ内に配置
された3個のルツボに電子ビームを照射して所定の時間
間隔をあけてT 1 % Z r、Hfを交互に溶解蒸
発させて前記母材表面に真空蒸着させた。この時、Ti
は3.3人/see、Zrは2.2人/see、Hfを
2.1人/seeの速度で前記母材表面に交互に蒸着さ
せた。同時に、イオン源より窒素イオンを加速電圧20
kV、イオンビム電流密度0.5mA/clNの条件で
引出し該母材表面に照射するイオンミキシングを行なう
ことにより母材表面に多層膜を被覆して複合超硬材料を
製造した。
比較例2
まず、wc−e%Co超硬合金の母材を市販のAREイ
オンブレーティング装置のチャンバ内に設置した。つつ
いて、チャンバ内のガスを真空υI気し、ルツボ内のT
iを蒸着させながら窒素雰囲気中でイオンブレーティン
グを行なって前記母材表面に厚さ9ftmのTiN膜を
被覆して複合超硬材料を製造した。
オンブレーティング装置のチャンバ内に設置した。つつ
いて、チャンバ内のガスを真空υI気し、ルツボ内のT
iを蒸着させながら窒素雰囲気中でイオンブレーティン
グを行なって前記母材表面に厚さ9ftmのTiN膜を
被覆して複合超硬材料を製造した。
しかして、上述したイオン注入装置から取出した本実施
例2の複合超硬材料について、表面の多層膜を研磨して
顕微鏡により各薄膜を観察したところ、各薄膜の厚さは
ほぼ1μm程度であることか認められ、全体の膜厚が9
μmであった。また、本実施例2の複合超硬材料及び上
述したイオンブレーティング装置から取出した比較例2
の複合超硬材料の硬さを測定したところ、実施例2では
Hv = 3100Kg/ mm ” 、比較例2では
Hv=2200Kg/ M ”であった。更に、本実施
例2の複合超硬材料によりH,=280のSNCMS鋼
をV=180m/min 、 f =0.25mm/
rev 、 t =]、5 mmの条件で切削した時の
耐摩耗性を調べたところ、10分間でV 8= O,1
0mmであった。これに対し、比較例2の複合超硬材料
を用いて同様な耐摩耗性を調べたところ、10分間でV
B=0.25mmと耐摩耗性かかなり劣ることか確認さ
れた。
例2の複合超硬材料について、表面の多層膜を研磨して
顕微鏡により各薄膜を観察したところ、各薄膜の厚さは
ほぼ1μm程度であることか認められ、全体の膜厚が9
μmであった。また、本実施例2の複合超硬材料及び上
述したイオンブレーティング装置から取出した比較例2
の複合超硬材料の硬さを測定したところ、実施例2では
Hv = 3100Kg/ mm ” 、比較例2では
Hv=2200Kg/ M ”であった。更に、本実施
例2の複合超硬材料によりH,=280のSNCMS鋼
をV=180m/min 、 f =0.25mm/
rev 、 t =]、5 mmの条件で切削した時の
耐摩耗性を調べたところ、10分間でV 8= O,1
0mmであった。これに対し、比較例2の複合超硬材料
を用いて同様な耐摩耗性を調べたところ、10分間でV
B=0.25mmと耐摩耗性かかなり劣ることか確認さ
れた。
[発明の効果]
以上詳述した如く、本発明によればTiN薄膜、ZrN
薄膜、Hf’N薄膜のうちの少なくとも2種以上か交互
に積層されて各薄膜の特性を備え、かつそれらの薄膜間
相互の密着性に優れた多層膜か超硬合金又はサーメット
の母材に対して密着性よく被覆された構造をなし、高硬
質、耐摩耗性、耐溶着性、耐熱塑性変形性なとを有する
切削・耐摩耗工具等に有用な複合超硬材料を提供できる
。
薄膜、Hf’N薄膜のうちの少なくとも2種以上か交互
に積層されて各薄膜の特性を備え、かつそれらの薄膜間
相互の密着性に優れた多層膜か超硬合金又はサーメット
の母材に対して密着性よく被覆された構造をなし、高硬
質、耐摩耗性、耐溶着性、耐熱塑性変形性なとを有する
切削・耐摩耗工具等に有用な複合超硬材料を提供できる
。
Claims (1)
- 超硬合金又はサーメットを母材とし、この母材表面にイ
オンビームミキシング法によりTiN、ZrN、HfN
のうちの少なくとも2種以上の薄膜を交互に積層して多
層膜を被覆したことを特徴とする複合超硬材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20000288A JPH0250949A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 複合超硬材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20000288A JPH0250949A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 複合超硬材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0250949A true JPH0250949A (ja) | 1990-02-20 |
| JPH0588308B2 JPH0588308B2 (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=16417163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20000288A Granted JPH0250949A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 複合超硬材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0250949A (ja) |
-
1988
- 1988-08-12 JP JP20000288A patent/JPH0250949A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0588308B2 (ja) | 1993-12-21 |
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