JPH0252327U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0252327U JPH0252327U JP13064688U JP13064688U JPH0252327U JP H0252327 U JPH0252327 U JP H0252327U JP 13064688 U JP13064688 U JP 13064688U JP 13064688 U JP13064688 U JP 13064688U JP H0252327 U JPH0252327 U JP H0252327U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray mask
- holding substrate
- chucks
- vacuum
- chuck
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Description
第１図ａ，ｂは本考案の一実施例を示す断面図
および上面図、第２図は従来の一例を示す断面図
である。 １，１０……Ｘ線マスク、２……パターン、３
……マスク基板、４……シリコンフレーム、５…
…保持基板、６，７，８……チヤツク面。
および上面図、第２図は従来の一例を示す断面図
である。 １，１０……Ｘ線マスク、２……パターン、３
……マスク基板、４……シリコンフレーム、５…
…保持基板、６，７，８……チヤツク面。
Claims (1)
- Ｘ線マスクのパターンに対し外形を位置決めし
てＸ線マスクを上面に装着した保持基板と、前記
保持基板の底面を真空吸着するチヤツク面と、前
記保持基板の側面を真空吸着するチヤツク面とを
含むことを特徴とするＸ線マスクの装着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13064688U JPH0252327U (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13064688U JPH0252327U (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0252327U true JPH0252327U (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=31386002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13064688U Pending JPH0252327U (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0252327U (ja) |
-
1988
- 1988-10-04 JP JP13064688U patent/JPH0252327U/ja active Pending