JPH0253412B2 - - Google Patents

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JPH0253412B2
JPH0253412B2 JP60188484A JP18848485A JPH0253412B2 JP H0253412 B2 JPH0253412 B2 JP H0253412B2 JP 60188484 A JP60188484 A JP 60188484A JP 18848485 A JP18848485 A JP 18848485A JP H0253412 B2 JPH0253412 B2 JP H0253412B2
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JP
Japan
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group
carbon atoms
general formula
compound
cram
Prior art date
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JP60188484A
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JPS6251629A (ja
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Yoshinori Yamamoto
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Teijin Ltd
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Teijin Ltd
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Steroid Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
a 産業上の利用分野 本発明は、ヒドロキシ化合物の製造方法に関す
るものである。更に詳しくは光学活性のアセター
ルからanti−Cram体のヒドロキシ化合物を製造
する方法に関するものである。 b 従来方法 従来、光学活性アルデヒドまたはそれから誘導
されるアセタールからヒドロキシ化合物を得る方
法は数多く知られている。しかしながら、高転化
率でしかもCram体或いはanti−Cram体を高選択
率で得る実用性のある方法は未だ知られていな
い。 そこで本発明者はanti−Cram体のヒドロキシ
化合物を高転化率且つ高選択率で得ることが可能
な方法について研究を進めた結果、本発明に到達
したものである。 c 発明の構成 すなわち、本発明は下記一般式〔I〕 〔但し式中Xは有機基を示し、Yは炭素数10以下
の炭化水素基、nは0または1を示す。〕 で表わされるアセタールを、下記一般式〔〕 R1−M ……〔〕 〔但し式中R1はZ−C≡C−またはCH2=CH−
CH2−(ここでZは炭素数10以下のアルキル基、
シクロアルキル基またはアリル基を示す)であ
り、Mは−SnR2 3(ここでR2は炭素数1〜4のア
ルキル基を示す)を示す。〕 で表わされる有機錫化合物と不活性溶媒中反応せ
しめることを特徴とする下記一般式〔〕 〔但し式中X,YおよびR1は前記定義と同じも
のを示す。〕 で表わされるヒドロキシ化合物の製造方法であ
る。 かかる本発明によれば、前記一般式〔I〕のア
セタールに対して、前記一般式〔〕の有機錫化
合物を反応させることによつて、ヒドロキシ化合
物を高い転化率で得ることができ、しかもヒドロ
キシ化合物における前記一般式〔〕のanti−
Cram体の割合が80%以上、好適条件下では85%
以上の高選択率で生成する。 以下本発明方法について更に詳細に説明する。 本発明方法において、出発原料であるアセター
ルは、一般式〔I〕で表わされるが、ここでXは
有機基であり、その例としてはステロイド骨格で
あつてもよくまたテルペン骨格であつてもよい。
さらにXは、脂肪族−および/または脂環族−炭
化水素基であることができ、その炭化水素基には
酸素O、窒素N、硫黄Sなど原子を分子中或いは
側鎖に含んでいてもよい。Xは本発明の反応条件
下において不活性な基または結合であれば種々の
ものを有していても差支えない。Xは一般的には
炭素数30以下、好ましくは20以下のものが好適で
ある。本発明方法は後述する説明から明らかなよ
うに、光学活性のanti−Cram体のヒドロキシ化
合物を高い選択率で得るのに適しているから、そ
の目的に応じてXの骨格を選択することができ、
Xがステロイドまたはテルペンの骨格である場合
に特に有利である。Xがステロイド骨格の場合そ
の骨格は、種々のステロイド骨格であればよく、
殊に本発明の反応条件下で反応に関与しない結合
もしくは基を有しているのが望ましい。 前記一般式〔I〕のアセタールにおいてYは炭
素数10以下、好ましくは5以下の炭化水素基であ
り、Xよりも炭素数が少ない方がよい。好ましい
具体例は炭素数5以下のアルキル基である。 本発明方法の原料である前記一般式〔I〕のア
セタールは、下記式 〔式中XおよびYは前記定義と同じものを示す。〕 で表わされるアルデヒドに、(+)−(2S,4S)−
ペンタンジオールの如きジオールを作用させるこ
とにより容易に得ることができる。 前記一般式〔I〕のアセタールに反応せしめら
れる有機錫化合物は、一般式〔〕で表わされ
る。この化合物を更に具体的に示すと下記の化合
物で表わされる。 Z−C≡C−Sn2 3 (−a) CH2=CH−CH2−Sn2 3 (−b) 〔但しこれら式中ZおよびR2は前記定義と同じ
ものを示す。〕 前記一般式〔〕または〔−a〕において、
Zは炭素数10以下のアルキル基、シクロアルキル
基またはアリル基であり、これらのうち、炭素数
6以下の分枝もしくは直鎖のアルキル基、および
フエニル基が好ましい。またR2は炭素数1〜4
のアルキル基を示すが、具体的には、メチル基、
エチル基、プロピル基もしくはブチル基が挙げら
れる。 上記一般式〔〕の有機錫化合物の好ましい例
としては下記のものを示すことができる(下記式
中Buはブチル基、Meはメチル基を示す)。 H3C−CH2−CH2−CH2−C≡C−SnBu3 CH2=CH−CH2−SnBu3 CH2=CH−CH2−SnMe3 前記有機錫化合物〔〕は、原料アセタール1
モル当り、通常1モル以上、好ましくは1.2モル
以上使用するのが有利である。上限は特に制限さ
れないが、5モル以下、好ましくは3モル以下が
望ましい。 本発明方法における前記のアセタールと有機錫
化合物との反応は、不活性溶媒中で実施される。
不活性溶媒としては、原料アセタール、有機錫化
合物および目的とするヒドロキシ化合物を溶解す
ることができ、またこれらと反応せず、反応条件
下で液状を呈するものが有利に使用される。特に
この反応では一般的にルイス酸を触媒として使用
するので、この触媒の活性に悪影響を与ええない
溶媒を使用するのが望ましい。かかる溶媒として
は、例えばジクロルメタン、クロルホルム、プロ
モホルム、パークレン、クロルベンゼンの如きハ
ロゲン化炭化水素が好適である。 反応はルイス酸の存在下に行うのが望ましく、
そのルイス酸の例としては、TiCl4,SnCl4,
AlCl3などが挙げられるが就中TiCl4が有利であ
る。 本発明におけるヒドロキシ化合物の合成は、約
−90〜−20℃の範囲、好ましくは約−90〜−50℃
の範囲の温度で行うのが一般的である。実際的に
はドライアイス−アセトンを用いて−78℃の温度
で、原料、溶媒および触媒を仕込み、その後次第
に昇温して−20℃まで、好ましくは−50℃まで反
応温度を上げて反応を完結させるのが望ましい。 本発明方法を実施する場合、アセタールと有機
錫化合物とを前記反応条件下で反応せしめ、得ら
れた反応混合物に常法により酸化剤を作用せしめ
て酸化し、しかる後加水分解することにより目的
とするanti−Cram体のヒドロキシ化合物が得ら
れる。この場合に使用される酸化剤としては、例
えばピリジン−クロム錯体、重クロム酸塩、過マ
ンガン酸塩などの種々の酸化剤が用いられる。ま
た加水分解は例えばKOH,NaOHの如き塩基の
存在下メタノールー水を加えることによつて容易
に行うことができる。 かくして本発明によれば、使用した有機錫化合
物におけるR1−基がアセタールに結合したanti−
Cram体のヒドロキシ化合物が高転化率且つ高選
択率で得られる。 以下実施例を掲げて本発明方法を詳述する。 実施例 1 本実施例においては、化合物の番号は、それぞ
れ下記のものを表わす。 なお、下記化学式中Xは下記ステロイド骨格を
示すものとする。 1−1 アセタールの合成 アルデヒド1〜(4.44gr,10mmole)と、(+)
−(2S,4S)−ペンタンジオール2〜(1.04gr,
10mmole)とをベンゼン(100ml)に溶解し、
ピリジニウム・トシラート(Pyridinium
tosylate;0.25gr,1mmole)を加えて、環流
しつつ、デーン−スターク・トラツプ(Dean
−Stark Trap)を用いて生成した水を除去し
た。約1時間の環流で反応は完結した。その後
ベンゼンを減圧下留去し、エーテルを加え、飽
和NaHCO3溶液で振つてエーテル抽出を行つ
た。エーテル層へ無水芒硝を用いて乾燥し、エ
ーテルを留去して後、95%の収率でアセタール
3〜が得られた。なおこの合成はR.Sterzycki,
Synthesis,724(1979)に従つて行つた。 1−2 ヒドロキシ化合物の合成 前記の如くして得られたアセタール3
(1mmole,0.53gr)をセラムキヤツプのついた
枝付きフラスコ(50ml)に入れ、反応容器を窒
素置換し、反応系を窒素雰囲気下にした。乾燥
したCH2Cl2溶媒(5ml)を注射器を用いてフ
ラスコ内に入れ、フラスコをドライアイス−ア
セトンを用いて撹拌しながら、上記温度で
TiCl4のCH2Cl2溶液(1M,1mmole,1ml)を
加えた。続いて有機錫化合物4〜(1.2mmole,
約0.48ml)を加え、温度を−78℃から徐々に−
50℃まで約2時間かけて昇温した。メタノール
−水(1:1,2ml)を加えて反応を停止し、
0℃でエーテル抽出を行つた。3回抽出を行い
エーテル層を無水芒硝で乾燥し、エーテルを留
去してシリカゲルのシヨートカラムへ通した。
Bu3Sn部分由来の不用物は極性が低いため、
CCl4(又はヘキサン)溶媒で留出した。 得られた粗化合物5〜を精製することなく既知
の方法〔P.A.Bartlett,W.S.Johnson,J.D.
Elliott,J.Am.Chem.Soc.,105,2088(1983)
参照〕に従つて、酸化−加水分解を行つた。す
なわち、粗化合物5〜をCH2Cl2(5ml)に溶解
し、これにPCC(Pyridinium
Chlorochromate,クロルクロム酸ピリジニウ
ム)の0.24gr(1.5mmole)を加えて室温で一昼
夜撹拌した。次いでシリカゲルの短いカラムで
流出しCH2Cl2で残渣を洗い、カラムで流出し
有機化合物を取り出した。その結果化合物6〜が
90%以上の収率で得られた。この化合物6を精
製することなく、そのままテトラヒドロフラン
−メタノール−7.5M KOHの混合溶媒(4:
2:1の容積比率)2.5mlに加えて室温で4時
間撹拌した。 その後エーテルで3回抽出し、エーテル層を
飽和NH4Cl溶液で振り、無水芒硝で乾燥し、
シリカゲルカラムで精製するとヒドロキシ化合
物7〜(anti−Cram体)およびそのCram体が得
られた。分析の結果アセタール3〜からのanti−
Cram体(7〜)およびCram体の合計収率は74
%であり、anti−Cram体(7〜):Cram体の比
率89:11であつた。 なお生成物におけるCram体とanti−Cram体
との比は400MHz H NMRを用いて分析し
た。 NMR分析の結果上記生成物のa,b,cお
よびdにおけるCDCl3中TMSからのppm値は
下記の通りであつた。
【表】
【表】 実施例 2〜3 前記実施例1において、同じアセタール3〜を用
いて、有機錫化合物4〜に代え下記有機錫化合物を
同じモル量使用する以外同様にして反応を行つ
た。その結果は下記の通りであつた。
【表】 Cram体とanti−Cram体の分析 (1)
【表】 (2)
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式〔I〕 〔但し式中Xは有機基を示し、Yは炭素数10以下
    の炭化水素基、nは0または1を示す。〕 で表わされるアセタールを、下記一般式〔〕 R1−M ……〔〕 〔但し式中R1はZ−C≡C−またはCH2=CH−
    CH2−(ここでZは炭素数10以下のアルキル基、
    シクロアルキル基またはアリル基を示す)であ
    り、Mは−SnR2 3(ここでR2は炭素数1〜4のア
    ルキル基を示す)を示す。〕 で表わされる有機錫化合物と不活性溶媒中反応せ
    しめることを特徴とする下記一般式〔〕 〔但し式中X,YおよびR1は前記定義と同じも
    のを示す。〕 で表わされるヒドロキシ化合物の製造方法。
JP60188484A 1985-08-29 1985-08-29 ヒドロキシ化合物の製造方法 Granted JPS6251629A (ja)

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JPS6251629A JPS6251629A (ja) 1987-03-06
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