JPH0253964U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0253964U JPH0253964U JP12514488U JP12514488U JPH0253964U JP H0253964 U JPH0253964 U JP H0253964U JP 12514488 U JP12514488 U JP 12514488U JP 12514488 U JP12514488 U JP 12514488U JP H0253964 U JPH0253964 U JP H0253964U
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- JP
- Japan
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- disk
- chamber
- rotary table
- vapor deposition
- holder
- Prior art date
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- Pending
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- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図は本考案に係るデイスク連続蒸着装置の
斜視図(部分破断図)を、第2図はそのデイスク
出入れ室部分を主とした断面図を、第3図はその
蒸着室を主とした断面図を、第4図はその平面図
を示す。第5図は、従来のデイスク連続蒸着装置
の斜視図(部分破断図)を示す。 1…真空チヤンバー、3…回転テーブル、4…
デイスク受台、7…デイスク受台保持具、10…
エアーシリンダー、13…真空排気口、16…デ
イスク出入室、16′…デイスク出入室取付位置
、17…弁体、17′…中心筒、18…シリンダ
ー連結板、19…エアーシリンダー、21…ベア
リング、24…リーク弁体、25…カラー、27
…回転軸、30…デイスク、31…テフロン製ス
リーブ、32…絶縁材、33…絶縁材、34…ピ
ン、35…蒸着室、35′…蒸着室取付位置、3
6…外周マスク、37…陰極、38…中心マスク
、39…ターゲツト、40…2重シール機構、4
1…エアーシリンダー、104…シール材、10
5…シール材、106…シール材、201…イン
デツクスモーター、202…油拡散ポンプ、20
3…スペース、204,205…水冷管、301
…ドーナツ形回転テーブル、302…ギア、30
3…ギア、304…モーター、305…仕切板、
306…真空ポンプ、311…真空チヤンバー、
316…デイスク出入室、335…蒸着室。
斜視図(部分破断図)を、第2図はそのデイスク
出入れ室部分を主とした断面図を、第3図はその
蒸着室を主とした断面図を、第4図はその平面図
を示す。第5図は、従来のデイスク連続蒸着装置
の斜視図(部分破断図)を示す。 1…真空チヤンバー、3…回転テーブル、4…
デイスク受台、7…デイスク受台保持具、10…
エアーシリンダー、13…真空排気口、16…デ
イスク出入室、16′…デイスク出入室取付位置
、17…弁体、17′…中心筒、18…シリンダ
ー連結板、19…エアーシリンダー、21…ベア
リング、24…リーク弁体、25…カラー、27
…回転軸、30…デイスク、31…テフロン製ス
リーブ、32…絶縁材、33…絶縁材、34…ピ
ン、35…蒸着室、35′…蒸着室取付位置、3
6…外周マスク、37…陰極、38…中心マスク
、39…ターゲツト、40…2重シール機構、4
1…エアーシリンダー、104…シール材、10
5…シール材、106…シール材、201…イン
デツクスモーター、202…油拡散ポンプ、20
3…スペース、204,205…水冷管、301
…ドーナツ形回転テーブル、302…ギア、30
3…ギア、304…モーター、305…仕切板、
306…真空ポンプ、311…真空チヤンバー、
316…デイスク出入室、335…蒸着室。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 真空チヤンバー、蒸着室、デイスク出入室、
前記真空チヤンバー内に設けられた回転テーブル
、該回転テーブル中心を通り、該回転テーブルに
固定された回転軸及び該回転軸を回転させるモー
ターよりなり、該モーターを上記真空室の外に設
けたデイスク連続蒸着装置。 2 真空チヤンバーと回転テーブルの中央部分と
の間にスペースをほとんど設けず、真空チヤンバ
ーと回転テーブルのデイスク載置部周囲との間に
スペースを設け、蒸着室前後で前記スペースを塞
ぐカラーを設けた請求項1記載のデイスク連続蒸
着装置。 3 蒸着室内に蒸着時にデイスクの一部を覆うマ
スクを設け、該マスクに水冷機構を付加した請求
項1又は2記載のデイスク連続蒸着装置。 4 デイスク出入室にデイスク表面のクリーニン
グ用放電機構を設けた請求項1、2又は3記載の
デイスク連続蒸着装置。 5 デイスク出入室の真空チヤンバーとの接続口
を塞ぐ大きさのデイスク受台、該デイスク受台を
載置するデイスク受台保持具、該デイスク受台保
持具の上下運動機構、デイスク出入室上下運動機
構を設け、回転テーブルのデイスク載置位置にそ
の径が前記デイスク受台より小さく前記デイスク
受台保持具より大きい穴を設けて前記デイスク受
台を回転テーブルの上側に位置させ、前記デイス
ク受台保持具を前記回転テーブルの穴に通して設
けた請求項1、2、3又は4記載のデイスク連続
蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12514488U JPH0253964U (ja) | 1988-09-27 | 1988-09-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12514488U JPH0253964U (ja) | 1988-09-27 | 1988-09-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0253964U true JPH0253964U (ja) | 1990-04-18 |
Family
ID=31375489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12514488U Pending JPH0253964U (ja) | 1988-09-27 | 1988-09-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0253964U (ja) |
-
1988
- 1988-09-27 JP JP12514488U patent/JPH0253964U/ja active Pending