JPH0254146B2 - - Google Patents
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- JPH0254146B2 JPH0254146B2 JP59180229A JP18022984A JPH0254146B2 JP H0254146 B2 JPH0254146 B2 JP H0254146B2 JP 59180229 A JP59180229 A JP 59180229A JP 18022984 A JP18022984 A JP 18022984A JP H0254146 B2 JPH0254146 B2 JP H0254146B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coated
- curtain
- coating
- pistol
- potential
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
- B05B5/08—Plant for applying liquids or other fluent materials to objects
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
- B05D1/04—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying involving the use of an electrostatic field
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
- B05D1/04—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying involving the use of an electrostatic field
- B05D1/06—Applying particulate materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D2202/00—Metallic substrate
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- Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、粉体層または湿潤層を被覆対象物に
被覆するための静電被覆装置に関する。
被覆するための静電被覆装置に関する。
静電ピストルを使用して、アースした固定の懸
架装置、またはアースしたコンベアチエーンに懸
架した被覆対象に、粉体層または湿潤層(例え
ば、塗料)を被覆することは公知である。被覆対
象の、ピストルとは逆の側に被覆材料を均一に塗
装するには、被覆対象に正確に適合した静電場
(強さおよび方位)を形成する以外に、被覆材料
の局部的堆積量を被覆対象に合わせて正確に調節
することが、極めて重要である。しかしながら、
被覆対象のアース状態またはピストル電位と逆の
極の被覆対象との結合状態が、完全で不変である
ことが更に重要である。このことは、特に、被覆
対象が連続的に送られ、一般に被覆材料の噴霧ミ
ストの範囲にあるアース接点の管理が困難または
実質的に不可能であるような被覆装置において問
題が生じる。
架装置、またはアースしたコンベアチエーンに懸
架した被覆対象に、粉体層または湿潤層(例え
ば、塗料)を被覆することは公知である。被覆対
象の、ピストルとは逆の側に被覆材料を均一に塗
装するには、被覆対象に正確に適合した静電場
(強さおよび方位)を形成する以外に、被覆材料
の局部的堆積量を被覆対象に合わせて正確に調節
することが、極めて重要である。しかしながら、
被覆対象のアース状態またはピストル電位と逆の
極の被覆対象との結合状態が、完全で不変である
ことが更に重要である。このことは、特に、被覆
対象が連続的に送られ、一般に被覆材料の噴霧ミ
ストの範囲にあるアース接点の管理が困難または
実質的に不可能であるような被覆装置において問
題が生じる。
被覆材料の噴霧ミストの範囲にあるアース接点
の管理不能な場合、高い運転電圧または帯電電圧
においても粉体層に絶縁効果を与えるような厚さ
の塗装層が生じ、更に、正常な運転においても、
漂遊電界が制御不能であり、被覆材料またはその
過剰量の適正な案内が行なわれないので、時間お
よびまたは経費をかけても除去困難な好ましくな
い堆積物が生ずる。従つて、材料費、クリーニン
グ費および保守費が不当に高くなる。
の管理不能な場合、高い運転電圧または帯電電圧
においても粉体層に絶縁効果を与えるような厚さ
の塗装層が生じ、更に、正常な運転においても、
漂遊電界が制御不能であり、被覆材料またはその
過剰量の適正な案内が行なわれないので、時間お
よびまたは経費をかけても除去困難な好ましくな
い堆積物が生ずる。従つて、材料費、クリーニン
グ費および保守費が不当に高くなる。
被覆対象を絶縁懸架状態で静電ピストルの作動
範囲に送り、先行技術における如く、処理した直
後に各対象をアースしても、上記のすべての問題
点が生ずる。
範囲に送り、先行技術における如く、処理した直
後に各対象をアースしても、上記のすべての問題
点が生ずる。
本発明の目的は、上述の欠点を排除できる、特
に、被覆対象の確実なアースと言う問題を完全に
解決できる静電被覆装置を創生することにある。
かくして、乾燥状態の被覆材料(粉体)も湿潤状
態の被覆材料(ラツカ)もより良好に使用でき
る。更に、対象周辺の被覆材料ミストの堆積が改
善され、より均一でピンホールのない被覆層が得
られる。
に、被覆対象の確実なアースと言う問題を完全に
解決できる静電被覆装置を創生することにある。
かくして、乾燥状態の被覆材料(粉体)も湿潤状
態の被覆材料(ラツカ)もより良好に使用でき
る。更に、対象周辺の被覆材料ミストの堆積が改
善され、より均一でピンホールのない被覆層が得
られる。
縦断面図(第1図)および第1図の−線に
沿う断面図を参照して以下に本発明を説明する。
沿う断面図を参照して以下に本発明を説明する。
図面において、金属性のまたは導電性表面を備
えた被覆対象2を連続的または間欠的に送る通路
カナルまたは被覆キヤビンの周壁を1で示した。
この場合、被覆対象2の形状および寸法は、図示
の例に拘束されるものではない。
えた被覆対象2を連続的または間欠的に送る通路
カナルまたは被覆キヤビンの周壁を1で示した。
この場合、被覆対象2の形状および寸法は、図示
の例に拘束されるものではない。
更に、第2図に示した作業個所または被覆個所
3の数は、本発明の本質をなすものではない。連
続運転の場合は、唯一の作業個所3を設ければよ
く、一方、間欠運転の場合は、3つ以上の作業個
所を設けることができる。
3の数は、本発明の本質をなすものではない。連
続運転の場合は、唯一の作業個所3を設ければよ
く、一方、間欠運転の場合は、3つ以上の作業個
所を設けることができる。
第1図において、被覆対象2を機械的に送る移
送装置4は、懸架ロツドよりなる支持装置5を有
し、被覆対象2を担持するロツドよりなる支持装
置下部5′は、絶縁部材6によつて、通路カナル
の周壁1とともにアースした移送装置に対して電
気的に分離してある。より大きな対象(例えば、
自動車の車体、鋼製家具)の被覆のため、移送装
置は、底面を絶縁支持したコンベアベルトとして
構成できる。被覆材料噴射ピストル7は、ピスト
ル7の噴霧ビームよりなる粒子噴射範囲8が被覆
対象2の所望の調節可能な範囲に達し得るよう、
上記対象に対向させてある。ピストル7は、噴霧
ビーム8よりも大きい被覆対象2の被覆のため、
水平方向、垂直方向および前後方向へ可動なよう
配置できる。
送装置4は、懸架ロツドよりなる支持装置5を有
し、被覆対象2を担持するロツドよりなる支持装
置下部5′は、絶縁部材6によつて、通路カナル
の周壁1とともにアースした移送装置に対して電
気的に分離してある。より大きな対象(例えば、
自動車の車体、鋼製家具)の被覆のため、移送装
置は、底面を絶縁支持したコンベアベルトとして
構成できる。被覆材料噴射ピストル7は、ピスト
ル7の噴霧ビームよりなる粒子噴射範囲8が被覆
対象2の所望の調節可能な範囲に達し得るよう、
上記対象に対向させてある。ピストル7は、噴霧
ビーム8よりも大きい被覆対象2の被覆のため、
水平方向、垂直方向および前後方向へ可動なよう
配置できる。
ピストル7の作動範囲に関して被覆対象2に対
向させて、少なくとも上記範囲にわたつて延びる
静電カーテン9が設置してある。静電カーテン9
の輪郭は、被覆対象2の背面が、噴霧ビーム8の
被覆材料粒子で被覆されるよう、選択するのが有
利である。単一キヤビン形装置の場合、更に、連
続式または間欠式装置の場合も、カーテン9を被
覆対象2の上下方向へ延長するのが好ましい。
向させて、少なくとも上記範囲にわたつて延びる
静電カーテン9が設置してある。静電カーテン9
の輪郭は、被覆対象2の背面が、噴霧ビーム8の
被覆材料粒子で被覆されるよう、選択するのが有
利である。単一キヤビン形装置の場合、更に、連
続式または間欠式装置の場合も、カーテン9を被
覆対象2の上下方向へ延長するのが好ましい。
静電カーテン9は、被覆材料を透過せず、少な
くとも静電カーテン背面には、ピストル7の印加
電位と同一極性の電位を印加される導電層が設け
てある。ピストル7には(瞬間的運転条件または
被覆対象2の被覆性の向上に応じて)正または負
のバイアス電圧を印加できるので、静電カーテン
9も対応して転極させ得る。静電カーテン9の極
性をピストル7の極性と同一とすれば、噴霧ビー
ム8から被覆対象2の背面に達した噴霧被覆材料
は、静電カーテン9上に沈折せず、被覆対象2の
背面へ向かつて反射される(矢印8′)。この場
合、被覆対象2は、既述の如く、ピストル7の極
性とは逆極性の電位にある。この場合、説明のた
め、ピストル7の電位が負で、対象の電位が正で
あると仮定する。
くとも静電カーテン背面には、ピストル7の印加
電位と同一極性の電位を印加される導電層が設け
てある。ピストル7には(瞬間的運転条件または
被覆対象2の被覆性の向上に応じて)正または負
のバイアス電圧を印加できるので、静電カーテン
9も対応して転極させ得る。静電カーテン9の極
性をピストル7の極性と同一とすれば、噴霧ビー
ム8から被覆対象2の背面に達した噴霧被覆材料
は、静電カーテン9上に沈折せず、被覆対象2の
背面へ向かつて反射される(矢印8′)。この場
合、被覆対象2は、既述の如く、ピストル7の極
性とは逆極性の電位にある。この場合、説明のた
め、ピストル7の電位が負で、対象の電位が正で
あると仮定する。
静電カーテン9の電位は、オーム接続部9′で
オーム接続10を介してまたは非接触で、静電カ
ーテン9の背面に向く放電尖端を有する誘導装置
11によつて選択的に印加できる。後者の印加方
式は、接触に問題がある場合に好ましい。運転条
件に応じてピストル7および静電カーテン9に大
きさの異なる電位を印加できるよう場合によつて
はセンサ12で制御する。対応する電圧制御装置
(図示しない)を設ける。
オーム接続10を介してまたは非接触で、静電カ
ーテン9の背面に向く放電尖端を有する誘導装置
11によつて選択的に印加できる。後者の印加方
式は、接触に問題がある場合に好ましい。運転条
件に応じてピストル7および静電カーテン9に大
きさの異なる電位を印加できるよう場合によつて
はセンサ12で制御する。対応する電圧制御装置
(図示しない)を設ける。
静電カーテン9は、静電カーテン9と周壁1と
の間のカナル部分13に被覆材料が堆積するのを
有効に阻止する。被覆対象2に対向するカーテン
9の表面には電気絶縁性の交換可能な表面被覆層
を設け、場合によつては粒子反射チヤンバ14を
通過した被覆材料粒子を上記絶縁層上に沈折させ
ることができる。
の間のカナル部分13に被覆材料が堆積するのを
有効に阻止する。被覆対象2に対向するカーテン
9の表面には電気絶縁性の交換可能な表面被覆層
を設け、場合によつては粒子反射チヤンバ14を
通過した被覆材料粒子を上記絶縁層上に沈折させ
ることができる。
静電カーテン9の表面に設けられる電気絶縁性
表面被覆層を形成するための電気絶縁性材料とし
ては、従来、絶縁ワニスとして用いられている自
然乾燥ワニス、加熱乾燥ワニス、合成樹脂ワニス
の何れであつてもよく、例えば水溶液中にエマル
ジヨン化されたワニス、又は溶剤を添加した360
℃まで加熱可能なポリアミド系樹脂よりなるワニ
スが挙げられる。該ワニスは、通常、木材または
金属表面を被覆するのに用いられるワニスを使用
する。
表面被覆層を形成するための電気絶縁性材料とし
ては、従来、絶縁ワニスとして用いられている自
然乾燥ワニス、加熱乾燥ワニス、合成樹脂ワニス
の何れであつてもよく、例えば水溶液中にエマル
ジヨン化されたワニス、又は溶剤を添加した360
℃まで加熱可能なポリアミド系樹脂よりなるワニ
スが挙げられる。該ワニスは、通常、木材または
金属表面を被覆するのに用いられるワニスを使用
する。
ピストル7と静電カーテン9に対して逆極性の
電位を印加するため、被覆対象2の懸架個所15
の上方に、場合によつては、アースに対して絶縁
した支持装置下部であるロツド下部部分5′から
離して、誘導装置16が設けてある。逆極性の電
位は、例えば、アース電位であつてよい。第1図
において、誘導装置16は、絶縁せる該ロツド下
部部分5′に関して鏡像対称に構成した半部とし
て示してある。これら半部の下方には、それぞ
れ、導電性ライニング18(例えば金属片)を受
容、調心するよう構成し、被覆対象2の寸法に適
合させた、ほぼ、シエル半部形状の、電気絶縁性
遮蔽部材17が設けてある。導電性ライニング1
8,18には、それぞれ、非接触で当該の導電性
ライニング18を帯電せしめる尖端付誘導装置1
9が対向している。尖端付誘導装置19の半部
は、別個に、即ち、選択的にオン・オフできる。
誘導装置16の部分は、大方に懸架された金属製
のまたは導電性表面を備えた被覆対象2のための
静電場を形成する。誘導装置16の半部の電界強
度(および極性)は、センサ20で監視し、制御
装置(図示してない)によつて定めることができ
る。
電位を印加するため、被覆対象2の懸架個所15
の上方に、場合によつては、アースに対して絶縁
した支持装置下部であるロツド下部部分5′から
離して、誘導装置16が設けてある。逆極性の電
位は、例えば、アース電位であつてよい。第1図
において、誘導装置16は、絶縁せる該ロツド下
部部分5′に関して鏡像対称に構成した半部とし
て示してある。これら半部の下方には、それぞ
れ、導電性ライニング18(例えば金属片)を受
容、調心するよう構成し、被覆対象2の寸法に適
合させた、ほぼ、シエル半部形状の、電気絶縁性
遮蔽部材17が設けてある。導電性ライニング1
8,18には、それぞれ、非接触で当該の導電性
ライニング18を帯電せしめる尖端付誘導装置1
9が対向している。尖端付誘導装置19の半部
は、別個に、即ち、選択的にオン・オフできる。
誘導装置16の部分は、大方に懸架された金属製
のまたは導電性表面を備えた被覆対象2のための
静電場を形成する。誘導装置16の半部の電界強
度(および極性)は、センサ20で監視し、制御
装置(図示してない)によつて定めることができ
る。
遮蔽部材17は、選択的に、接触防止のため絶
縁性表面層を備えた導電材料から構成できる。
縁性表面層を備えた導電材料から構成できる。
誘導装置16は、回路に応じて、アース電位に
設定できる。
設定できる。
尖端付誘導装置19またはその鏡像対称の半部
の1つあるいは双方は、1つまたは複数の被覆個
所にわたつて延びる位置不動の装置として構成で
きる。この場合、各半部の間の間隙21を各半部
と接触しないよう懸架ロツド5を移動させる。こ
の場合、16の各半部は、破線で示した支持装置
22(第2図には示してない)を介して電気的に
絶縁してカナルの周壁1に支持してある。別の方
法として、被覆対象2を受容するための支持装置
である懸架ロツド5の下部部分5′の片側または
両側に、本質的に各対象2の輪郭にわたつて延
び、ライニング18を設置した電気絶縁性遮蔽部
材17を設けることができる。しかしながら、該
懸架ロツド5を通過させるための間隙21の片側
および両側に設けた尖端付誘導装置19およびセ
ンサ20は、合目的的には当該の被覆個所に合わ
せて、周壁1に固定する。
の1つあるいは双方は、1つまたは複数の被覆個
所にわたつて延びる位置不動の装置として構成で
きる。この場合、各半部の間の間隙21を各半部
と接触しないよう懸架ロツド5を移動させる。こ
の場合、16の各半部は、破線で示した支持装置
22(第2図には示してない)を介して電気的に
絶縁してカナルの周壁1に支持してある。別の方
法として、被覆対象2を受容するための支持装置
である懸架ロツド5の下部部分5′の片側または
両側に、本質的に各対象2の輪郭にわたつて延
び、ライニング18を設置した電気絶縁性遮蔽部
材17を設けることができる。しかしながら、該
懸架ロツド5を通過させるための間隙21の片側
および両側に設けた尖端付誘導装置19およびセ
ンサ20は、合目的的には当該の被覆個所に合わ
せて、周壁1に固定する。
電気絶縁性材料からなる遮蔽部材17は、運転
条件に応じて、噴霧ビーム8の極性とは逆の極性
の電位に帯電されるが、噴霧ビーム8が直接ぶつ
かる遮蔽部材17下方の被覆対象2が同一の極性
を有するので、遮蔽部材17の下面に被覆材料が
堆積することはほとんどない。更に、噴霧ビーム
8内にある粒子は、被覆対象2の背面にある静電
カーテン9によつて、逆極性電位にある対象2に
向けられる。従つて、被覆対象2の懸架個所15
の上方のカナル部分またはキヤビン部分に被覆粒
子が堆積することも殆んどない。従つて、本発明
にかかる被覆装置は、材料消費量に関しても保
守・クリーニング費に関しても極めて合理的に運
転できる。
条件に応じて、噴霧ビーム8の極性とは逆の極性
の電位に帯電されるが、噴霧ビーム8が直接ぶつ
かる遮蔽部材17下方の被覆対象2が同一の極性
を有するので、遮蔽部材17の下面に被覆材料が
堆積することはほとんどない。更に、噴霧ビーム
8内にある粒子は、被覆対象2の背面にある静電
カーテン9によつて、逆極性電位にある対象2に
向けられる。従つて、被覆対象2の懸架個所15
の上方のカナル部分またはキヤビン部分に被覆粒
子が堆積することも殆んどない。従つて、本発明
にかかる被覆装置は、材料消費量に関しても保
守・クリーニング費に関しても極めて合理的に運
転できる。
第2図において、被覆対象2は、矢印Aの方向
へ送られる。被覆ずみの被覆対象2′は、作業工
程の終了後、被覆カナルから出る前にまたは出た
後に、更に、被覆ずみの被覆対象2′の表面に場
合によつては残存する電荷を放電または中和する
1つまたは2つの尖端付イオン化装置24,2
4′から成るイオン化装置23を通過する。別の
方法として、被覆工程の終了後に、スイツチ手段
(図示してない)によつて、誘導装置11,19
をイオン化装置として接続して、被覆ずみ対象
2,2′から残存電荷を除くこともできる。
へ送られる。被覆ずみの被覆対象2′は、作業工
程の終了後、被覆カナルから出る前にまたは出た
後に、更に、被覆ずみの被覆対象2′の表面に場
合によつては残存する電荷を放電または中和する
1つまたは2つの尖端付イオン化装置24,2
4′から成るイオン化装置23を通過する。別の
方法として、被覆工程の終了後に、スイツチ手段
(図示してない)によつて、誘導装置11,19
をイオン化装置として接続して、被覆ずみ対象
2,2′から残存電荷を除くこともできる。
上述の種類の被覆装置の運転条件に関して以下
に説明する。噴霧ピストル7に印加する電位は、
50〜150kvとし、負極性とするのが合目的的であ
る。静電カーテン9および誘導装置11の電位
は、ピストル7の電位とほぼ同一値であり、ピス
トル7の電位と同一の極性を有し、センサ12で
監視し、必要であれば調節する。誘導装置16の
尖端付誘導装置19および遮蔽部材17の表面の
電位は、手操作でまたはセンサ制御によつて約5
〜30kvの範囲に調節でき、正の極性を有する。
誘導装置16は、アース電位に設定することもで
きる。ピストル7の電圧および誘導装置19の電
圧は、最適な加工能を得るのに必要な数値に前設
定する。運転中、静電カーテン9および遮蔽部材
17に必要な電位修正は、センサ制御により行な
うことができる。
に説明する。噴霧ピストル7に印加する電位は、
50〜150kvとし、負極性とするのが合目的的であ
る。静電カーテン9および誘導装置11の電位
は、ピストル7の電位とほぼ同一値であり、ピス
トル7の電位と同一の極性を有し、センサ12で
監視し、必要であれば調節する。誘導装置16の
尖端付誘導装置19および遮蔽部材17の表面の
電位は、手操作でまたはセンサ制御によつて約5
〜30kvの範囲に調節でき、正の極性を有する。
誘導装置16は、アース電位に設定することもで
きる。ピストル7の電圧および誘導装置19の電
圧は、最適な加工能を得るのに必要な数値に前設
定する。運転中、静電カーテン9および遮蔽部材
17に必要な電位修正は、センサ制御により行な
うことができる。
本発明の利点は、先行技術に対する上述の改善
以外に、帯電用構成部材および放電用構成部材を
少なくとも部分的に開放状態に構成したことによ
つて、フアラデー箱の如く作用するゾーンの局部
的形成が阻止されるという点にある。ピストル口
部に対向する対象背後のシヤドーゾーンにも形成
された等極の電荷場によつて、被覆材料ミストは
被覆対象に引きもどされるので、清浄なまたは清
浄状態に容易に保持できる被覆キヤビンが得られ
る。電場形成用の誘導装置およびイオン化装置を
電界強度センサによつて最適に制御できるので、
十分な自動化運転が可能であり、従つて、人件費
を節減できる。作業パラメータを簡単に最適化で
きるので、材料添量を増加して、装置の能力を最
適に増大できる。
以外に、帯電用構成部材および放電用構成部材を
少なくとも部分的に開放状態に構成したことによ
つて、フアラデー箱の如く作用するゾーンの局部
的形成が阻止されるという点にある。ピストル口
部に対向する対象背後のシヤドーゾーンにも形成
された等極の電荷場によつて、被覆材料ミストは
被覆対象に引きもどされるので、清浄なまたは清
浄状態に容易に保持できる被覆キヤビンが得られ
る。電場形成用の誘導装置およびイオン化装置を
電界強度センサによつて最適に制御できるので、
十分な自動化運転が可能であり、従つて、人件費
を節減できる。作業パラメータを簡単に最適化で
きるので、材料添量を増加して、装置の能力を最
適に増大できる。
第1図は本発明装置の縦断側面図、第2図は第
1図−線における断面図である。 1……周壁、1′……通路カナル、2……被覆
対象、5……支持装置、5′……支持装置下部、
7……噴射ピストル、8……粒子噴射範囲、9…
…カーテン、11,19……尖端付誘導装置、1
6……誘導装置、17……遮蔽部材、18……導
電性ライニング、23……イオン化装置、A……
移動径路。
1図−線における断面図である。 1……周壁、1′……通路カナル、2……被覆
対象、5……支持装置、5′……支持装置下部、
7……噴射ピストル、8……粒子噴射範囲、9…
…カーテン、11,19……尖端付誘導装置、1
6……誘導装置、17……遮蔽部材、18……導
電性ライニング、23……イオン化装置、A……
移動径路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被覆キヤビンの周壁1または通路カナル1′
に対して、電気的に絶縁した支持装置下部5′に
保持された被覆対象2に表面被覆層を設けるため
の静電被覆装置において、周壁1の内部に設けて
あり、少なくとも噴射ピストル7から見て被覆対
象2の背面範囲にわたつて延びており、噴射ピス
トル7と同一の極性に静電的に帯電させ得る少な
くとも1つのカーテン9と、同じく周壁1の内部
に且つ本質的に上記被覆対象2の直上に設けてあ
り、少なくとも上記被覆対象2を覆う領域に設置
され、噴射ピストル7に印加する電位とは逆の極
性の電位を被覆対象2に印加するための誘導装置
16とを有することを特徴とする装置。 2 帯電可能なカーテン9が、噴射ピストル7か
ら出る粒子を透過しない材料を含み、少なくとも
被覆対象2に対向する表面には、接触防護のため
の電気絶縁性材料が設けてあることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 カーテン9が上記背面範囲を越えて、被覆対
象2の側面およびまたは上面および下面の少なく
とも一部にわたつて設置されていることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の装置。 4 カーテン9の導電性材料には、オーム接続部
9′を介して電圧が印加してあることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1
つに記載の装置。 5 カーテン9が、噴射ピストル7と本質的に同
一値の電位にカーテン9を帯電させる尖端付誘導
装置11を備えていることを特徴とする特許請求
の範囲第1項乃至第3項のいずれか1つに記載の
装置。 6 カーテン9が、カーテンによつて与えられる
電界強度を監視するセンサ12を備えていること
を特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3項の
いずれか1つに記載の装置。 7 被覆対象2の上方に設けた誘導装置16が、
被覆対象2に向き、少なくとも下面に電気絶縁性
層を設けた遮蔽部材17を有し、遮蔽部材17
が、導電性ライニング18の支持部材として構成
してあることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の装置。 8 誘導装置16が、支持装置5の運動方向へ分
離された、支持装置5に関して対象な2つの半部
に分割してあり、双方の半部の各々にはそれぞ
れ、尖端形誘導装置19が配してあることを特徴
とする特許請求の範囲第7項記載の装置。 9 誘導装置16が、支持装置下部5′に固定し
てあつて導電性ライニング18を電気的に接続し
た一体の遮蔽部材17を有し、上記ライニング1
8を静電帯電せしめる尖端付誘導装置19が、遮
蔽部材17の上方に設けてあることを特徴とする
特許請求の範囲第7項記載の装置。 10 被覆対象の移動経路Aの端部範囲には、周
壁1の内部または外部にあるいは各作業個所内
に、イオン化装置23が設けてあることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
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